一种亚克力膜及其制备方法技术

本发明专利技术涉及一种亚克力膜，包括PMMA基膜，在所述PMMA基膜的一侧表面设有由热熔胶制备而成的热熔胶底涂层。该热熔胶底涂层与水性primer涂料制备的膜层不同，不含二氧化硅颗粒，不会对膜面造成缺陷，所制得亚克力膜透过率高，雾度低。该亚克力膜的制备方法中，仅需将PMMA树脂颗粒及热熔胶树脂颗粒分别经过熔融挤出机进入双涂布模头，采用Open制膜方式，共同熔融挤出熔融PMMA树脂与熔融热熔胶树脂，依次经过三道铸造辊冷却成膜，然后经过高温纵向拉伸与高温横向拉伸，即可得到亚克力膜。共同熔融挤出以及共同挤压冷却成膜的步骤增强了热熔胶底涂层与PMMA基膜的附着力。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于光学膜，具体涉及一种亚克力膜及其制备方法，适用于偏光板。

技术介绍

1、偏光板的基本结构除了最中间的pva(聚乙烯醇)，还包含两层pva保护层。其中，起到偏振作用的是pva层；但是pva极易水解，为了保护偏光膜的物理特性，一般在pva的两侧各复合一层具有高光透过率、耐水性较好又有一定机械强度的光学薄膜作为pva保护层，这就形成了偏光板原板。偏光板中作为pva保护层的光学薄膜有tac(三醋酸纤维素)、pmma(聚甲基丙烯酸甲酯)、pet(聚对苯二甲酸乙二醇酯)、cop(环戊烯)等。主流的ips面板用疏水性偏光板大多使用pmma基膜，要求具有非常高的透光率、优异的机械性能、较好的耐热性和耐久性。

2、为了使pmma基膜具有较好的机械性能，一般对pmma光学膜进行md(纵向)及td(横向)方向的双向拉伸。为了防止粘连及与pva更好的粘合，需要在td拉伸前在pmma上涂布水性primer涂料，然而水性primer涂料中添加的硅颗粒在运输或劣化环境下会从涂层中脱落夹杂在膜层中间，对膜面造成凹凸不良影响；另一不良是由含硅颗粒的水性primer本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种亚克力膜，包括PMMA基膜，其特征在于，在所述PMMA基膜的一侧表面设有由热熔胶制备而成的热熔胶底涂层。

2.根据权利要求1所述的亚克力膜，其特征在于，所述PMMA基膜的厚度为30μm～80μm，所述热熔胶底涂层的厚度为0.5μm～2μm。

3.根据权利要求1所述的亚克力膜，其特征在于，所述PMMA基膜为光学级双轴拉伸膜，透过率≥92％，雾度≤2％。

4.根据权利要求1所述的亚克力膜，其特征在于，所述热熔胶的固含量为100％，其熔点为70℃～120℃。

5.根据权利要求4所述的亚克力膜，其特征在于，所述热熔胶的熔点为80℃～110℃...

【技术特征摘要】

1.一种亚克力膜，包括pmma基膜，其特征在于，在所述pmma基膜的一侧表面设有由热熔胶制备而成的热熔胶底涂层。

2.根据权利要求1所述的亚克力膜，其特征在于，所述pmma基膜的厚度为30μm～80μm，所述热熔胶底涂层的厚度为0.5μm～2μm。

3.根据权利要求1所述的亚克力膜，其特征在于，所述pmma基膜为光学级双轴拉伸膜，透过率≥92％，雾度≤2％。

4.根据权利要求1所述的亚克力膜，其特征在于，所述热熔胶的固含量为100％，其熔点为70℃～120℃。

5.根据权利要求4所述的亚克力膜，其特征在于，所述热熔胶的熔点为80℃～110℃。

6.根据权利要求1所述的亚克力膜，其特征在于，所述热熔胶为po、eva中的任意一种。

【专利技术属性】
技术研发人员：鲁若娜，张良宝，欧阳礼仁，严兵华，黄源，
申请(专利权)人：安徽合美材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：