多弧离子镀膜用弧源机构及其冷却方法技术

本发明专利技术涉及一种多弧离子镀膜用弧源机构及其冷却方法,通过集水储存、喷淋循环、快速电冷却以及水冷风冷复合散热的方式,实现了对弧源的高效智能冷却。该弧源机构包含弧源组件、集水机构、循环喷淋机构、冷却机构、散热机构、水冷机构及温控机构。集水机构对冷却水进行储存,隔温板实现保温隔热。循环喷淋机构利用泵和喷头实现冷却水的循环喷淋,增强对靶材的吸热效果。冷却机构中设置具有快速吸收和释放大量热量功能的制冷芯片,对储水进行降温处理。水冷机构利用外部水冷辅助散热。温控机构监测水温并控制各机构的工作。该弧源机构中各单元模块配合工作,形成闭路循环,可快速吸收靶材的热量,对冷却水进行降温,确保弧源高效、稳定的冷却支持。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及真空镀膜设备,尤其针对多弧离子镀膜过程的弧源冷却机构, 是一种新型高效智能的弧源冷却机构。

技术介绍

1、装饰镀膜作为真空镀膜技术的一种,广泛应用于各种五金、餐具、洁具、首饰等产品,而且涂层的颜色种类也随着制备工艺的发展而逐渐增多。

2、而在真空镀膜技术中, 多弧离子镀膜是一种重要的镀膜方法。多弧离子镀膜是采用电弧放电的方法，在固体的阴极靶材上直接蒸发金属，蒸发物是从阴极弧光辉点放出的阴极物质的离子，从而在基材表面沉积成为薄膜的方法。

3、离子镀是真空室中，利用气体放电或被蒸发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质粒子轰击作用的同时，将蒸发物或反应物沉积在基片上。离子镀把辉光放电现象、等离子体技术和真空蒸发三者有机结合起来，不仅能明显地改进了膜质量，而且还扩大了薄膜的应用范围。具有薄膜附着力强，绕射性好，膜材广泛等等优点；然而多弧离子镀与一般的离子镀有着很大的区别。多弧离子镀采用的是弧光放电，而并不是传统离子镀的辉光放电进行沉积。简单的说，多弧离子镀的原理就是把阴极靶作为蒸发源，通过靶与阳极壳体之间的弧光放电，使靶材蒸发本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种多弧离子镀膜用弧源机构,其特征在于,包括: 弧源组件和集水机构,所述弧源组件包括弧源法兰、靶座和靶材屏蔽罩;所述集水机构安装于所述弧源法兰的内侧壁,所述集水机构的一侧安装有循环喷淋机构,所述集水机构的内侧壁底部安装有隔温板,所述集水机构的内侧壁顶部安装有冷却机构,所述集水机构的顶部均匀安装有散热机构,所述集水机构的外侧壁顶部安装有水冷机构,所述弧源法兰的上方设有温控机构。

2.如权利要求1所述的多弧离子镀膜用弧源机构,其特征在于,所述集水机构包括集水罩、水冷腔、储水腔和喷淋腔;所述隔温板设于所述储水腔和喷淋腔之间,所述隔温板的外侧壁与所述集水罩的内侧壁固定连接。...

【技术特征摘要】

1.一种多弧离子镀膜用弧源机构,其特征在于,包括: 弧源组件和集水机构,所述弧源组件包括弧源法兰、靶座和靶材屏蔽罩;所述集水机构安装于所述弧源法兰的内侧壁,所述集水机构的一侧安装有循环喷淋机构,所述集水机构的内侧壁底部安装有隔温板,所述集水机构的内侧壁顶部安装有冷却机构,所述集水机构的顶部均匀安装有散热机构,所述集水机构的外侧壁顶部安装有水冷机构,所述弧源法兰的上方设有温控机构。

2.如权利要求1所述的多弧离子镀膜用弧源机构,其特征在于,所述集水机构包括集水罩、水冷腔、储水腔和喷淋腔;所述隔温板设于所述储水腔和喷淋腔之间,所述隔温板的外侧壁与所述集水罩的内侧壁固定连接。

3.如权利要求1所述的多弧离子镀膜用弧源机构,其特征在于,所述循环喷淋机构包括循环泵、抽水管、承压盘、若干雾化喷头和导热板;所述循环泵的进水口连通有抽水管,所述抽水管的一端连通于所述喷淋腔的内部,所述循环泵的排水口连通于所述储水腔的内部,若干所述雾化喷头均连通于所述承压盘的底部,所述导热板固定连接于所述集水机构的内侧壁底部。

4.如权利要求1所述的多弧离子镀膜用弧源机构,其特征在于,所述冷却机构包括第一陶瓷基板、若干半导体制冷芯片、若干连接片、两个电极环和第二陶瓷基板;若干所述半导体制冷芯片设于所述第一陶瓷基板的上方,所述第二陶瓷基板固定连接于所述电极环和连接片的顶部。

5.如权利要求1所述的多弧离子镀膜用弧源机构,其特征在于,所述散热机构包括若干散热翅片;所述散热翅片固定连接于所述第二陶瓷基板的上表面。

6.如权利要求1所述的多弧离子镀膜用弧源机构,其特征在于,所...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨卫星，钟赟华，
申请(专利权)人：金华星源五金制品有限公司，
类型：发明
国别省市：