【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及板状氧化铁粒子及用于生产所述板状氧化铁粒子的方法。
技术介绍
1、氧化铁被广泛用作颜料的材料，且已知依据晶体结构的差异，赤铁矿(α-fe2o3)呈现微红色(reddish color)，磁铁矿(fe3o4)呈现微黑色(blackish color)，且磁赤铁矿(γ-fe2o3)呈现深棕色(dark brown color)。利用磁特性的磁铁矿及赤铁矿除了应用于颜料材料以外，还用于吸波材料、噪音抑制、高磁导率材料、磁性呈色剂(magnetic toner)、磁性记录(magnetic recording)及类似用途。
2、举例来说，专利文献(patent literature，ptl)1公开通过掺杂有硅及镁的含氢氧化铁水溶液的水热反应(hydrothermal reaction)来获得片状氧化铁微粒(flake-shapediron oxide microparticle)，所述片状氧化铁微粒包含硅及镁且具有为0.01μm到100μm的粒度(particle size)及为3到200的长宽比(aspect ratio)。
3、ptl 2公开以使得在使用铁源材料作为消耗性阳极电极(consumptive anodicelectrode)且利用直流电弧等离子体方法(direct-current arc plasma method)生产出具有γ-fe2o3晶体结构的红棕色氧化铁微粒之后在还原气氛中煅烧氧化铁微粒的方式来获得一种黑色颜料，所述黑色颜料包含具有为50nm到120nm的平均粒度的氧化铁微粒
4、ptl 3公开以使得在利用氧化硅来涂布β-feo(oh)纳米粒子之后在氧化气氛中对经氧化硅涂布的β-feo(oh)纳米粒子进行热处理的方式来获得氧化铁磁性纳米粒子，所述氧化铁磁性纳米粒子由单相ε-fe2o3制成且具有为15nm或小于15nm的平均粒度。
5、引文列表
6、专利文献
7、ptl 1：日本未审查专利申请公开案第2008-254969号
8、ptl 2：日本未审查专利申请公开案第2002-104828号
9、ptl 3：日本未审查专利申请公开案第2014-224027号
技术实现思路
1、技术问题
2、然而，在板状氧化铁粒子及用于生产板状氧化铁粒子的方法方面仍然存在研究空间。
3、本专利技术的目的是提供具有优异特性的板状氧化铁粒子及用于生产所述板状氧化铁粒子的方法。
4、问题解决方案
5、本专利技术包括以下方面。
6、(1)包含钼及源自形状控制剂(shape control agent)的原子的板状氧化铁粒子。
7、(2)在第(1)项中指定的板状氧化铁粒子中，所述板状氧化铁粒子具有通过动态光散射方法(dynamic light scattering method)确定的为0.01μm到0.5μm的中值直径(median diameter)d50。
8、(3)在第(1)或(2)项中指定的板状氧化铁粒子中，通过将初级粒子(primaryparticle)的平均粒度(average particle size)除以所述初级粒子的厚度而获得的长宽比为5到500。
9、(4)在第(1)到(3)项中任一项中指定的板状氧化铁粒子中，初级粒子具有为0.01μm到0.5μm的平均粒度及小于0.05μm的厚度。
10、(5)在第(1)到(4)项中任一项中指定的板状氧化铁粒子中，通过对板状氧化铁粒子的x射线荧光(x-ray fluorescence，xrf)分析确定的板状氧化铁粒子的fe2o3含量(f1)为85.0质量％到99.5质量％，且通过对板状氧化铁粒子的xrf分析确定的板状氧化铁粒子的moo3含量(m1)为0.01质量％到5.0质量％。
11、(6)在第(1)到(5)项中任一项中指定的板状氧化铁粒子中，源自形状控制剂的原子是选自由硅、锗及磷组成的群组的至少一种。
12、(7)在第(1)到(6)项中任一项中指定的板状氧化铁粒子中，源自形状控制剂的原子不均匀地分布在板状氧化铁粒子中的每一者的表面层中。
13、(8)在第(1)到(7)项中任一项中指定的板状氧化铁粒子中，源自形状控制剂的原子是硅。
14、(9)在第(8)项中指定的板状氧化铁粒子中，通过对板状氧化铁粒子的x射线荧光(xrf)分析确定的板状氧化铁粒子的fe2o3含量(f1)为85.0质量％到99.5质量％，通过对板状氧化铁粒子的xrf分析确定的板状氧化铁粒子的moo3含量(m1)为0.01质量％到5.0质量％，且通过对板状氧化铁粒子的xrf分析确定的板状氧化铁粒子的sio2含量(s1)为0.001质量％到10质量％。
15、(10)在第(8)或(9)项中指定的板状氧化铁粒子中，通过对板状氧化铁粒子的x射线光电子能谱法(x-ray photoelectron spectroscopy，xps)表面分析确定的板状氧化铁粒子中的每一者的表面层的sio2含量(s2)对通过对板状氧化铁粒子的xrf分析确定的板状氧化铁粒子的sio2含量(s1)的表面不均匀分布比率(surface uneven distributionratio)(s2/s1)大于1且为20或小于20。
16、(11)在第(1)到(10)项中任一项中指定的板状氧化铁粒子中，板状氧化铁粒子具有通过布鲁诺尔-埃梅特-泰勒(brunauer-emmett-teller，bet)方法确定的为0.5m2/g或大于0.5m2/g的比表面积(specific surface area)。
17、(12)一种用于生产在第(1)到(11)项中任一项中指定的板状氧化铁粒子的方法，所述方法包括在存在钼化合物及形状控制剂的情况下煅烧铁化合物的煅烧步骤。
18、(13)在第(12)项中指定的用于生产板状氧化铁粒子的方法中，形状控制剂是硅或硅化合物。
19、(14)在第(12)或(13)项中指定的用于生产板状氧化铁粒子的方法包括在煅烧步骤之前获得铁化合物的纳米大小粒子(nanosized particle)的前体生产步骤。
20、(15)在第(12)到(14)项中任一项中指定的用于生产板状氧化铁粒子的方法中，煅烧步骤中的钼化合物是选自由三氧化钼、钼酸锂、钼酸钾及钼酸钠组成的群组的至少一种。
21、(16)在第(12)到(15)项中任一项中指定的用于生产板状氧化铁粒子的方法，在为400℃或高于400℃且低于1000℃的煅烧温度下煅烧铁化合物。
22、专利技术有利效果
23、本专利技术提供具有优异特性的板状氧化铁粒子及用于生产所述板状氧化铁粒子的方法。
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1.一种包含钼及源自形状控制剂的原子的板状氧化铁粒子。
2.根据权利要求1所述的板状氧化铁粒子，其中所述板状氧化铁粒子具有通过动态光散射方法确定的为0.01μm到0.5μm的中值直径D50。
3.根据权利要求1或2所述的板状氧化铁粒子，其中通过将初级粒子的平均粒度除以所述初级粒子的厚度而获得的长宽比为5到500。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的板状氧化铁粒子，其中所述初级粒子具有为0.01μm到0.5μm的平均粒度及小于0.05μm的厚度。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的板状氧化铁粒子，其中通过对所述板状氧化铁粒子的X射线荧光(XRF)分析确定的所述板状氧化铁粒子的Fe2O3含量(F1)为85.0质量％到99.5质量％，且通过对所述板状氧化铁粒子的X射线荧光分析确定的所述板状氧化铁粒子的MoO3含量(M1)为0.01质量％到5.0质量％。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的板状氧化铁粒子，其中所述源自形状控制剂的原子是选自由硅、锗及磷组成的群组的至少一种。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的板
8.根据权利要求1至7中任一项所述的板状氧化铁粒子，其中所述源自形状控制剂的原子是硅。
9.根据权利要求8所述的板状氧化铁粒子，其中通过对所述板状氧化铁粒子的X射线荧光(XRF)分析确定的所述板状氧化铁粒子的Fe2O3含量(F1)为85.0质量％到99.5质量％，通过对所述板状氧化铁粒子的X射线荧光分析确定的所述板状氧化铁粒子的MoO3含量(M1)为0.01质量％到5.0质量％，且通过对所述板状氧化铁粒子的X射线荧光分析确定的所述板状氧化铁粒子的SiO2含量(S1)为0.001质量％到10质量％。
10.根据权利要求8或9所述的板状氧化铁粒子，其中通过对所述板状氧化铁粒子的X射线光电子能谱法(XPS)表面分析确定的所述板状氧化铁粒子中的每一者的表面层的SiO2含量(S2)对通过对所述板状氧化铁粒子的X射线荧光(XRF)分析确定的所述板状氧化铁粒子的SiO2含量(S1)的表面不均匀分布比率(S2/S1)大于1且为20或小于20。
11.根据权利要求1至10中任一项所述的板状氧化铁粒子，其中所述板状氧化铁粒子具有通过布鲁诺尔-埃梅特-泰勒方法确定的为0.5m2/g或大于0.5m2/g的比表面积。
12.一种用于生产如权利要求1至11中任一项所述的板状氧化铁粒子的方法，所述方法包括在存在钼化合物及形状控制剂的情况下煅烧铁化合物的煅烧步骤。
13.根据权利要求12所述的用于生产所述板状氧化铁粒子的方法，其中所述形状控制剂是硅或硅化合物。
14.根据权利要求12或13所述的用于生产所述板状氧化铁粒子的方法，包括在所述煅烧步骤之前获得所述铁化合物的纳米大小粒子的前体生产步骤。
15.根据权利要求12至14中任一项所述的用于生产所述板状氧化铁粒子的方法，其中所述煅烧步骤中的所述钼化合物是选自由三氧化钼、钼酸锂、钼酸钾及钼酸钠组成的群组的至少一种。
16.根据权利要求12至15中任一项所述的用于生产所述板状氧化铁粒子的方法，其中在为400℃或高于400℃且低于1000℃的煅烧温度下煅烧所述铁化合物。
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种包含钼及源自形状控制剂的原子的板状氧化铁粒子。
2.根据权利要求1所述的板状氧化铁粒子，其中所述板状氧化铁粒子具有通过动态光散射方法确定的为0.01μm到0.5μm的中值直径d50。
3.根据权利要求1或2所述的板状氧化铁粒子，其中通过将初级粒子的平均粒度除以所述初级粒子的厚度而获得的长宽比为5到500。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的板状氧化铁粒子，其中所述初级粒子具有为0.01μm到0.5μm的平均粒度及小于0.05μm的厚度。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的板状氧化铁粒子，其中通过对所述板状氧化铁粒子的x射线荧光(xrf)分析确定的所述板状氧化铁粒子的fe2o3含量(f1)为85.0质量％到99.5质量％，且通过对所述板状氧化铁粒子的x射线荧光分析确定的所述板状氧化铁粒子的moo3含量(m1)为0.01质量％到5.0质量％。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的板状氧化铁粒子，其中所述源自形状控制剂的原子是选自由硅、锗及磷组成的群组的至少一种。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的板状氧化铁粒子，其中所述源自形状控制剂的原子不均匀地分布在所述板状氧化铁粒子中的每一者的表面层中。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的板状氧化铁粒子，其中所述源自形状控制剂的原子是硅。
9.根据权利要求8所述的板状氧化铁粒子，其中通过对所述板状氧化铁粒子的x射线荧光(xrf)分析确定的所述板状氧化铁粒子的fe2o3含量(f1)为85.0质量％到99.5质量％，通过对所述板状氧化铁粒子的x射线荧光分析确定的所述板状氧化铁粒子的moo3含...
【专利技术属性】
技术研发人员：李萌，矢木直人，袁建军，杨少伟，赵伟，郭健，李选，
申请(专利权)人：DIC株式会社，
类型：发明
国别省市：
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