一种使用两个强度电场的微纳米生物和代谢物传感器和执行器的横向和垂直电泳方法技术

本发明专利技术涉及微、纳米生物及其代谢物技术领域，尤其涉及一种使用两个强度电场的微纳米生物和代谢物传感器和执行器的横向和垂直DEP方法，具体包括以下步骤：S1、在金属蚀刻工艺之前进行抗蚀剂等离子体蚀刻以在侧壁处形成抗蚀剂轮廓，其中高压基线配方包括比例为1:4:140的氧气、氮气和氩气在1600 mT压力和1300瓦射频功率下用于产生预先设计的角度抗蚀剂；S2、进行金属蚀刻，其中基线指令包括氯气、三氯化硼和氩气，其比例为但不限于1:0.4:0.2，压力为8mT，源功率优选为1200瓦偏置功率优选为175瓦；S3、进行金属仿形测量剩余厚度的测量。该方法使得通过Y处的PDEP的横向吸引力在介质中。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及微、纳米生物及其代谢物，尤其涉及一种使用两个强度电场的微纳米生物和代谢物传感器和执行器的横向和垂直dep方法。

技术介绍

1、介电电泳（dep）是一种利用其介电特性进行粒子置换的方法。在该技术中，利用正弦时变和空间不均匀电场来操纵粒子由于其介电特性而产生的位置。dep能够对流体悬浮介质中的各种材料（如环境、生物和临床分析物）进行聚焦、翻译和捕获以及表征、纯化和富集。

2、通过将介电泳微电极集成到芯片实验室中，非接触式、无标记和无标记操纵研究的发展进一步揭示了介电泳在纳米/微型机器中的潜在应用。间接物理接触或非接触式颗粒运动在药物发现和输送应用以及疾病筛查、分离和生物样品分析等领域有许多应用。这主要是由于与直接物理接触相比，间接物理接触运动能够消除任何随之而来的接触损坏和相关问题。

3、事实上，当运动对象的尺寸为几微米或纳米时，它变得更具挑战性，这是无法通过直接物理接触来处理的。因此，这种颗粒非接触式移动方法的优点是可以消除物理接触引发的影响。由于这些原因，已经提出了利用介电泳特性通过间接物理接触进行的移动。其他技术，例本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种使用两个强度电场的微纳米生物和代谢物传感器和执行器的横向和垂直DEP方法，其特征在于，具体包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的一种使用两个强度电场的微纳米生物和代谢物传感器和执行器的横向和垂直DEP方法，其特征在于：所述氧气气体是用于抗蚀剂蚀刻的主要气体，而氮气气体是缓冲气体以维持较高的腔室压力，而氩气气体则用于增加等离子体密度。

3.根据权利要求1所述的一种使用两个强度电场的微纳米生物和代谢物传感器和执行器的横向和垂直DEP方法，其特征在于：所述氯气为氯基气体，其用作无等离子体铝的初级蚀刻剂。

4.根据权利要求1所述的一种使用两个强度电场...

【技术特征摘要】

1.一种使用两个强度电场的微纳米生物和代谢物传感器和执行器的横向和垂直dep方法，其特征在于，具体包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的一种使用两个强度电场的微纳米生物和代谢物传感器和执行器的横向和垂直dep方法，其特征在于：所述氧气气体是用于抗蚀剂蚀刻的主要气体，而氮气气体是缓冲气体以维持较高的腔室压力，而氩气气体则用于增加等离子体密度。

3.根据权利要求1所述的一种使用两个强度电场的微纳米生物和代谢物传感器和执行器的横向和垂直dep方法，其特征在于：所述氯气为氯基气体，其用作无等离子体铝的初级蚀刻剂。

4.根据权利要求1所述的一种使用两个强度电场的微纳米生物和代谢物传感器和执行器的横向和垂直dep方法，其特征在于：所述突破蚀刻以去除光刻工艺后剩余的自然氧化物和抗蚀剂。

5.根据权利要求1所述的一种使用两个强度电场的微纳米生物和代谢物传感器和执行器的横向和垂直dep方法，其特征在于：所述主蚀刻以去除块体铝。

6.根据权利要求1所述的一种使用两个强度电场的微纳米生物和代谢物传感器和执行器的横向和垂直dep方法，其特征在于：所述过蚀刻和残留物去除蚀刻分别是去除铝较厚的区域上的剩余铝和去除铝残留物。

7.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：池得閤，布尔汉丁·耶奥普·马吉利斯，穆罕默德·拉姆赞·布勇，
申请(专利权)人：浙江师范大学，
类型：发明
国别省市：