一种表征紫磷厚度的方法及其在光电领域的应用技术

本发明专利技术公开了一种表征紫磷厚度的方法及其在光电领域的应用，属于无机纳米材料测量技术领域。首先通过自上而下的减薄法对紫磷块体进行减薄，得到不同厚度的紫磷，然后将不同厚度的紫磷转移至基底上，合理选择采用透射电子显微镜、扫描电子显微镜、光学显微镜、共聚焦激光显微镜、拉曼光谱、原子力显微镜、高分辨透射电子显微镜、紫外/可见/近红外漫反射测试、傅里叶红外光谱、光致发光、X射线衍射以及热重分析一系列表征仪器对不同厚度的紫磷进行表征。该方法能够克服传统紫磷厚度表征手段单一，对制样要求高和耗时的问题，通过多种手段对不同厚度的紫磷进行快速判断，为紫磷在光电领域的应用奠定基础。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于无机纳米材料测量，具体涉及一种表征紫磷厚度的方法及其在光电领域的应用。

技术介绍

1、相比碳二维材料的发展，磷二维材料在许多研究领域受到广泛关注，并被证明具有替代碳二维材料的潜力。在过去很长一段历史时期里，紫磷一直以来都没有得到确定的晶体或可靠的晶格结构。因此，黑磷被认为是磷同素异形体中最稳的存在，直至2019年，西安交通大学张锦英教授首次合成了紫磷。紫磷的晶体结构为单斜p2/n(a＝9.210,b＝9.128,β＝97.776°)，密度为2.369g/cm3，是一种二维材料。紫磷在空气中稳定存在，紫磷的起始热解温度达到512℃以上，比黑磷高出52℃，这表明紫磷是最稳定的磷同素异形体。紫磷经过剥离后可以得到薄层的紫磷，称为紫磷烯，紫磷烯比黑磷烯更稳定。

2、紫磷具有高度各向异性的空穴迁移率，其上限位于3000～7000cm2 v-1s-1之间且具有可调带隙的特点，其带隙可在1.44～2.5ev范围内可调，块体紫磷的带隙约为1.4ev，是一种间接带隙半导体材料，而单层紫磷烯的带隙约则为2.54ev，是一种直接带隙半导体。紫磷这种可调本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种表征紫磷厚度的方法，其特征在于，包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的一种表征紫磷厚度的方法，其特征在于，S1中，减薄法包括微机械剥离、声波/剪切力辅助液相剥离、离子插入/交换辅助液相剥离、激光剥离法以及激光辅助液相剥离的方法。

3.根据权利要求1所述的一种表征紫磷厚度的方法，其特征在于，S1中，紫磷块体由化学气相传输法制备得到，尺寸为1mm～10mm。

4.根据权利要求1所述的一种表征紫磷厚度的方法，其特征在于，S1中，所述不同厚度的紫磷中，紫磷的厚度为1.9nm～15μm。

5.根据权利要求1所述的一种表征紫磷厚度的方法，其特...

【技术特征摘要】

1.一种表征紫磷厚度的方法，其特征在于，包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的一种表征紫磷厚度的方法，其特征在于，s1中，减薄法包括微机械剥离、声波/剪切力辅助液相剥离、离子插入/交换辅助液相剥离、激光剥离法以及激光辅助液相剥离的方法。

3.根据权利要求1所述的一种表征紫磷厚度的方法，其特征在于，s1中，紫磷块体由化学气相传输法制备得到，尺寸为1mm～10mm。

4.根据权利要求1所述的一种表征紫磷厚度的方法，其特征在于，s1中，所述不同厚度的紫磷中，紫磷的厚度为1.9nm～15μm。

5.根据权利要求1所述的一种表征紫磷厚度的方法，其特征在于，s1中，采用热释放胶带、机械法、抽滤法或者旋涂法将不同厚度的紫磷转移至基底。

6.根据权利要求1所述的一种表征紫磷厚度的方法，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：叶晓慧，魏苗苗，杨智元，郑希，陈萌瑧，李昱瑢，
申请(专利权)人：陕西科技大学，
类型：发明
国别省市：