【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及作为干式蚀刻气体有用的含有氟代甲烷的组合物及其制造方法。
技术介绍
1、氢氟烃作为半导体、液晶等微细加工用的蚀刻气体是有用的，特别是氟代甲烷(ch3f)作为用于形成最前端的微细结构的蚀刻气体备受瞩目。
2、作为氟代甲烷的制造方法，例如已知在氧化铝催化剂的存在下，使原料化合物以气相状态热分解，从而得到含有氟代甲烷和酰氟的混合气体的方法等(专利文献1)。
3、现有技术文献
4、专利文献
5、专利文献1：日本特开2014－114277号公报
技术实现思路
1、专利技术所要解决的课题
2、本专利技术的课题在于提供一种氟代甲烷的纯度高的组合物。
3、用于解决课题的手段
4、本专利技术的专利技术人为了实现上述目的反复进行了深入研究。为了提高反应的活性，有时对氧化铝催化剂进行盐酸处理，但本专利技术的专利技术人进行研究的结果发现，因此而引起在反应生成物中混入微量的甲烷、乙烷、丙烷和氯代甲烷等。尤其是氯代甲烷，即使仅混入数ppm，也难以将其除去。因此，本专利技术的专利技术人发现，通过使用未经盐酸处理的氧化铝催化剂，能够避免这些杂质混入最终生成物。本专利技术是基于这些见解进一步反复进行试错而完成的，包括以下方式。
5、项1.一种氟代甲烷的制造方法，其特征在于：
6、包括在氧化铝催化剂的存在下，使下述通式(1)所示的含氟甲基醚以气相状态热分解，从而得到含有氟代甲烷和酰氟的混合气体的工
7、
8、(式中，r1和r2相同或不同，是可以被取代的直链状或支链状的一价的脂肪族烃基、一价的芳香族烃基或一价的环状脂肪族烃基；氢原子或卤原子)，
9、上述氧化铝催化剂是氯含量在1.0重量％以下的氧化铝催化剂。
10、项2.如项1所述的方法，其中，上述催化剂为γ－氧化铝催化剂。
11、项3.一种含有通过项1或2所述的方法得到的氟代甲烷的组合物。
12、项4.一种含有相对于组合物总重量为99.999mol％以上的氟代甲烷的组合物。
13、项5.如项3或4所述的组合物，其作为干式蚀刻气体使用。
14、项6.一种氧化铝催化剂，其用于包括在催化剂的存在下，使原料化合物以气相状态热分解，从而得到含有氟代甲烷和酰氟的混合气体的工序的氟代甲烷的制造方法，其中，上述氧化铝催化剂的氯含量在1.0重量％以下。
15、项7.如项6所述的氧化铝催化剂，其为γ－氧化铝催化剂。
16、专利技术效果
17、根据本专利技术，能够提供氟代甲烷的纯度高的组合物。
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1.一种氟代甲烷的制造方法，其特征在于：
2.如权利要求1所述的方法，其特征在于：
3.一种含有通过权利要求1或2所述的方法得到的氟代甲烷的组合物。
4.一种含有相对于组合物总重量为99.999mol％以上的氟代甲烷的组合物。
5.如权利要求3或4所述的组合物，其特征在于：
6.一种氧化铝催化剂，其特征在于：
7.如权利要求6所述的氧化铝催化剂，其特征在于：
【技术特征摘要】
1.一种氟代甲烷的制造方法，其特征在于：
2.如权利要求1所述的方法，其特征在于：
3.一种含有通过权利要求1或2所述的方法得到的氟代甲烷的组合物。
4.一种含有相对于组合物总重量...
【专利技术属性】
技术研发人员：中村新吾，江藤友亮，田窪征司，中井胜也，
申请(专利权)人：大金工业株式会社，
类型：发明
国别省市：
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