System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种基于无氧铜铂加厚的芯片封装方法技术_技高网

一种基于无氧铜铂加厚的芯片封装方法技术

技术编号:40504107 阅读:7 留言:0更新日期:2024-03-01 13:17
本发明专利技术涉及一种基于无氧铜铂加厚的芯片封装方法,包括以下步骤:对芯片进行等离子清洗;将芯片焊接于DBC基板上,从而得到第一焊接组件;在第一焊接组件的芯片焊盘表面放置高温焊片;在高温焊片的表面放置无氧铜铂,得到第二焊接组件,采用真空加流焊接设备对第二焊接组件进行焊接;第二焊接组件上需要连接的无氧铜铂之间采用第一铜线进行连接;第二焊接组件上无氧铜铂与DBC基板之间采用第二铜线进行连接;随后在DBC基板表面灌封绝缘材料,绝缘材料固化后,完成封装。通过设置无氧铜铂和高温焊片,对芯片上的焊盘进行加厚,能够对芯片产生保护作用,防止铜线连接对芯片造成损伤,其步骤简单,制程短,能够有效提高生产效率,降低生产成本。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体封装,尤其是一种基于无氧铜铂加厚的芯片封装方法


技术介绍

1、随着电子技术的发展,大功率芯片成为行业发展的趋势,为了提高功率芯片的能力,大功率芯片通常使用铜线键合替代铝线键合,以避免铝线键合因为键合线导流能力和热膨胀系数(cte)差异大,进而影响到产品可靠性。晶圆出厂制造时芯片表面的保护层为铝层,通常在几个μm的厚度,直接使用铜线连接会对芯片造成损伤。

2、现有技术中,通过在芯片表面进行镀银处理,专门增加覆盖一层厚度在几十个μm的保护层,从而防止铜线连接对芯片造成损伤。但是,这种处理方式,成本高,制程长,生产效率低。


技术实现思路

1、本申请人针对上述现有生产技术中的缺点,提供一种结构合理的一种基于无氧铜铂加厚的芯片封装方法,通过设置无氧铜铂和高温焊片,对芯片上的焊盘进行加厚,能够对芯片产生保护作用,防止铜线连接对芯片造成损伤,其步骤简单,制程短,能够有效提高生产效率,降低生产成本。

2、本专利技术所采用的技术方案如下:

3、一种基于无氧铜铂加厚的芯片封装方法,包括以下步骤:

4、s1.对芯片进行等离子清洗;

5、s2.将芯片焊接于dbc基板上,从而得到第一焊接组件;

6、s3.在第一焊接组件的芯片焊盘表面放置高温焊片;

7、s4.在s3.中高温焊片的表面放置无氧铜铂,得到第二焊接组件,采用真空加流焊接设备对第二焊接组件进行焊接;

8、所述无氧铜铂的底部均匀设置有数个凸点,无氧铜铂用于对芯片上的焊盘进行加厚;

9、s5.第二焊接组件上需要连接的无氧铜铂之间采用第一铜线进行连接;

10、第二焊接组件上无氧铜铂与dbc基板之间采用第二铜线进行连接;

11、s6.随后在dbc基板表面灌封绝缘材料,并使得绝缘材料覆盖第一焊接组件,绝缘材料固化后,完成封装。

12、作为上述技术方案的进一步改进:

13、s1.中,等离子清洗时间为2h。

14、s3.中,所述高温焊片的厚度为0.1mm。

15、所述高温焊片、无氧铜铂的形状均与芯片上对应的焊盘形状一致。

16、s4.中,所述无氧铜铂的厚度为0.1mm。

17、s4.中,焊接温度为240℃-260℃。

18、s5.中,所述第一铜线和第二铜线均采用超声焊接设备进行固定。

19、s6.中,绝缘材料采用有机硅材料。

20、s6.中,所述绝缘材料的厚度为3mm。

21、本专利技术的有益效果如下:

22、本专利技术结构紧凑、合理,操作方便,通过设置无氧铜铂,对芯片上的焊盘进行加厚,能够提高芯片的稳定性和使用寿命,从而在后续芯片焊接过程中,有效提高芯片焊接的可靠性,提高芯片焊接质量。

23、本专利技术中的无氧铜铂具备低应力、焊接可靠性高的特点,通过高温焊片连接到芯片焊盘表面,对芯片电极进行保护,能够解决传统的镀银芯片在大电流、大压合工况下产生的可靠性差问题,提高了芯片的稳定性和使用寿命。

24、本专利技术中通过设置s2.和s3.步骤,即可完成对芯片表面焊盘的加厚,制程短,具有广泛的应用前景,能够适用于各种类型的芯片保护,提高芯片的稳定性和使用寿命。

25、本专利技术中通过设置无氧铜铂,使得芯片具备使用铜线连接的条件,铜线连接能够有效提高芯片能力,使得芯片能够适用于大功率工况;并且能够根据实际需要调整铜线直径、绝缘材料种类参数,以满足不同领域的需求。

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【技术保护点】

1.一种基于无氧铜铂加厚的芯片封装方法,其特征在于:包括以下步骤:

2.如权利要求1所述的一种基于无氧铜铂加厚的芯片封装方法,其特征在于:S1.中,等离子清洗时间为2h。

3.如权利要求1所述的一种基于无氧铜铂加厚的芯片封装方法,其特征在于:S3.中,所述高温焊片(2)的厚度为0.1mm。

4.如权利要求1所述的一种基于无氧铜铂加厚的芯片封装方法,其特征在于:所述高温焊片(2)、无氧铜铂(3)的形状均与芯片(1)上对应的焊盘形状一致。

5.如权利要求1所述的一种基于无氧铜铂加厚的芯片封装方法,其特征在于:S4.中,所述无氧铜铂(3)的厚度为0.1mm。

6.如权利要求1所述的一种基于无氧铜铂加厚的芯片封装方法,其特征在于:S4.中,焊接温度为240℃-260℃。

7.如权利要求1所述的一种基于无氧铜铂加厚的芯片封装方法,其特征在于:S5.中,所述第一铜线(4)和第二铜线(5)均采用超声焊接设备进行固定。

8.如权利要求1所述的一种基于无氧铜铂加厚的芯片封装方法,其特征在于:S6.中,绝缘材料采用有机硅材料。

9.如权利要求1所述的一种基于无氧铜铂加厚的芯片封装方法,其特征在于:S6.中,所述绝缘材料的厚度为3mm。

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【技术特征摘要】

1.一种基于无氧铜铂加厚的芯片封装方法,其特征在于:包括以下步骤:

2.如权利要求1所述的一种基于无氧铜铂加厚的芯片封装方法,其特征在于:s1.中,等离子清洗时间为2h。

3.如权利要求1所述的一种基于无氧铜铂加厚的芯片封装方法,其特征在于:s3.中,所述高温焊片(2)的厚度为0.1mm。

4.如权利要求1所述的一种基于无氧铜铂加厚的芯片封装方法,其特征在于:所述高温焊片(2)、无氧铜铂(3)的形状均与芯片(1)上对应的焊盘形状一致。

5.如权利要求1所述的一种基于无氧铜铂加厚的芯片封装方法,其特征在于:s4....

【专利技术属性】
技术研发人员:方海军陆子堃罗海斌
申请(专利权)人:江苏索力德普半导体科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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