一种用于物理气相沉积设备的探测装置制造方法及图纸

技术编号:40460610 阅读:10 留言:0更新日期:2024-02-22 23:15
本技术公开了一种用于物理气相沉积设备的探测装置,应用于磁控溅镀领域,物理气相沉积设备包括转动机构,转动机构包括动力源部件、磁体,和旋转轴;探测装置包括侦测部件、定位部件和计算部件;动力源部件和磁体之间的旋转轴与定位部件连接,以使定位部件与磁体能够同步转动,定位部件的转动路径上具有侦测位置;侦测部件与侦测位置对应设置;计算部件与侦测部件通信连接。本技术通过在磁体和动力源部件间的旋转轴处连接定位部件,以使该定位部件与磁体同步转动,利用侦测部件对该定位部件进行检测,以实现计算部件根据侦测部件的检测结果对磁体转速进行检测,能够实时检测磁体实际转速,避免传动部件损坏导致磁体转速检测不准确。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及磁控溅镀领域,特别涉及一种用于物理气相沉积设备的探测装置


技术介绍

1、现有技术在pvd(物理气相沉积)制程中,利用包含磁铁的旋转机构产生电磁场,通过保持旋转机构的稳定性,以形成稳定的电磁场。但目前物理气相沉积设备中,通常是通过电机上安装侦测器侦测电机的转速,并利用电机与齿轮箱的配比,计算得到旋转机构中磁铁的转速,但这种方法的电机与磁体之间,若齿轮箱或其他传动部件损坏,仅侦测电机的转速并不能得到旋转机构的实际工况,进而降低产品的质量。


技术实现思路

1、有鉴于此,本技术的目的在于提供一种用于物理气相沉积设备的探测装置,解决了现有技术中对电机转速进行检测,并根据电机转速计算磁体的转速,导致检测结果不准确,进而降低产品质量的问题。

2、为解决上述技术问题,本技术提供了一种用于物理气相沉积设备的探测装置,所述物理气相沉积设备包括转动机构,所述转动机构包括动力源部件、磁体以及连接所述动力源部件和所述磁体的旋转轴;

3、所述探测装置包括侦测部件、定位部件和计算部件;所述动力源部件和所述磁体之间的旋转轴与所述定位部件连接,以使所述定位部件与所述磁体能够同步转动,所述定位部件的转动路径上具有侦测位置;

4、所述侦测部件与所述侦测位置对应设置,以使所述定位部件转动至所述侦测位置时所述侦测部件检测所述定位部件;

5、所述计算部件与所述侦测部件通信连接,以使所述计算部件根据所述侦测部件的检测结果计算所述定位部件的转速。

6、可选的,所述定位部件中设置有光电发光元件,所述侦测部件中设置有光电接收元件,以使所述定位部件转动至所述侦测位置时,所述光电接收元件接收所述光电发光元件发射的光束。

7、可选的,所述计算部件包括plc计数系统,所述plc计数系统对所述光电接收元件接收所述光电发光元件发射的光束的次数计数,以计算所述定位部件的转速。

8、可选的,所述定位部件沿转动平面方向,延伸出至少一个旋转杆,以使所述侦测部件检测所述定位部件的所述旋转杆。

9、可选的,所述旋转轴一端与所述动力源部件连接,所述旋转轴贯穿所述磁体,与所述磁体连接;

10、所述磁体和所述动力源部件间的所述旋转轴贯穿所述定位部件,与所述定位部件连接,以使所述定位部件与所述磁体转动时同步转动。

11、可选的,所述物理气相沉积设备,还包括转动机构外壳;

12、所述物理气相沉积设备中的磁体和所述物理气相沉积设备中至少部分旋转轴,设置在所述转动机构外壳内部。

13、可选的,所述用于物理气相沉积设备的探测装置中的定位部件设置在所述转动机构外壳内部,且与所述磁体上表面接触设置。

14、可选的,所述用于物理气相沉积设备的探测装置中的侦测部件设置在转动机构外壳的外部。

15、可选的,所述转动机构外壳中的上侧壳体或旁侧壳体中对应所述侦测位置设置有透光窗口,以使设置在所述转动机构外壳外部的侦测部件通过所述透光窗口与所述侦测位置对应设置。

16、可选的,所述侦测部件设置在所述转动机构外壳的上侧,且与所述转动机构外壳固定连接。

17、可见,本技术提供的用于物理气相沉积设备的探测装置,物理气相沉积设备包括转动机构,转动机构包括动力源部件、磁体,以及连接动力源部件和磁体的旋转轴,探测装置包括侦测部件、定位部件和计算部件,动力源部件和磁体之间的旋转轴与定位部件连接,以使定位部件与磁体能够同步转动,定位部件的转动路径上具有侦测位置,侦测部件与侦测位置对应设置,以使定位部件转动至侦测位置时侦测部件检测定位部件,计算部件与侦测部件通信连接,以使计算部件根据侦测部件的检测结果计算定位部件的转速。本技术通过在磁体和动力源部件间的旋转轴处连接定位部件,以使该定位部件与磁体同步转动,利用侦测部件对该定位部件进行检测,以实现计算部件根据侦测部件的检测结果对磁体转速进行检测,能够实时检测磁体实际转速,避免传动部件损坏导致磁体转速检测不准确。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种用于物理气相沉积设备的探测装置,其特征在于,所述物理气相沉积设备包括转动机构,所述转动机构包括动力源部件、磁体以及连接所述动力源部件和所述磁体的旋转轴;

2.根据权利要求1所述的用于物理气相沉积设备的探测装置,其特征在于,所述定位部件中设置有光电发光元件,所述侦测部件中设置有光电接收元件,以使所述定位部件转动至所述侦测位置时,所述光电接收元件接收所述光电发光元件发射的光束。

3.根据权利要求2所述的用于物理气相沉积设备的探测装置,其特征在于,所述计算部件包括PLC计数系统,所述PLC计数系统对所述光电接收元件接收所述光电发光元件发射的光束的次数计数,以计算所述定位部件的转速。

4.根据权利要求1所述的用于物理气相沉积设备的探测装置,其特征在于,所述定位部件沿转动平面方向,延伸出至少一个旋转杆,以使所述侦测部件检测所述定位部件的所述旋转杆。

5.根据权利要求1所述的用于物理气相沉积设备的探测装置,其特征在于,所述旋转轴一端与所述动力源部件连接,所述旋转轴贯穿所述磁体,与所述磁体连接;

6.根据权利要求1所述的用于物理气相沉积设备的探测装置,其特征在于,所述物理气相沉积设备,还包括转动机构外壳;

7.根据权利要求6所述的用于物理气相沉积设备的探测装置,其特征在于,所述用于物理气相沉积设备的探测装置中的定位部件设置在所述转动机构外壳内部,且与所述磁体上表面接触设置。

8.根据权利要求6所述的用于物理气相沉积设备的探测装置,其特征在于,所述用于物理气相沉积设备的探测装置中的侦测部件设置在转动机构外壳的外部。

9.根据权利要求8所述的用于物理气相沉积设备的探测装置,其特征在于,所述转动机构外壳中的上侧壳体或旁侧壳体中对应所述侦测位置设置有透光窗口,以使设置在所述转动机构外壳外部的侦测部件通过所述透光窗口与所述侦测位置对应设置。

10.根据权利要求8所述的用于物理气相沉积设备的探测装置,其特征在于,所述侦测部件设置在所述转动机构外壳的上侧,且与所述转动机构外壳固定连接。

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【技术特征摘要】

1.一种用于物理气相沉积设备的探测装置,其特征在于,所述物理气相沉积设备包括转动机构,所述转动机构包括动力源部件、磁体以及连接所述动力源部件和所述磁体的旋转轴;

2.根据权利要求1所述的用于物理气相沉积设备的探测装置,其特征在于,所述定位部件中设置有光电发光元件,所述侦测部件中设置有光电接收元件,以使所述定位部件转动至所述侦测位置时,所述光电接收元件接收所述光电发光元件发射的光束。

3.根据权利要求2所述的用于物理气相沉积设备的探测装置,其特征在于,所述计算部件包括plc计数系统,所述plc计数系统对所述光电接收元件接收所述光电发光元件发射的光束的次数计数,以计算所述定位部件的转速。

4.根据权利要求1所述的用于物理气相沉积设备的探测装置,其特征在于,所述定位部件沿转动平面方向,延伸出至少一个旋转杆,以使所述侦测部件检测所述定位部件的所述旋转杆。

5.根据权利要求1所述的用于物理气相沉积设备的探测装置,其特征在于,所述旋转轴一端与所述动力源部...

【专利技术属性】
技术研发人员:周琦
申请(专利权)人:上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
类型:新型
国别省市:

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