动子及磁驱输送线制造技术

技术编号:40438923 阅读:7 留言:0更新日期:2024-02-22 23:02
本申请公开了一种动子及磁驱输送线,动子安装于定子,动子包括动子本体、永磁体和清洁结构,动子本体具有容纳槽以及与容纳槽的槽壁邻接的邻接面,容纳槽沿第一预设方向延伸以贯穿动子本体的两端,容纳槽用于容纳定子的线圈;永磁体设置于容纳槽的侧壁上;清洁结构设置于邻接面,清洁结构包括毛刷组件和/或磁体组件,清洁结构用于清理线圈的表面。本申请实施例通过在动子本体的邻接面上设置清洁结构,毛刷组件可以扫刷清理杂质并将部分杂质容纳于刷毛内,由此降低杂质划伤线圈表面的可能性,磁体组件可以吸附收集金属杂质,减少杂质在永磁体上堆积,有利于保证动子运行的稳定性。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及动子,尤其涉及一种动子及磁驱输送线


技术介绍

1、一些高精度、高速度的输送环境一般会采用磁动力传输线进行运输,即动子以磁动力为驱动力在定子上移动,由于定子上设置有线圈,线圈上容易沉积一些杂质碎屑,而杂质在线圈的表面堆积过多,会不利于动子运行的稳定性。


技术实现思路

1、本申请实施例提供了一种动子及磁驱输送线,能够减少金属杂质在定子线圈上的堆积,有利于保证动子运行的稳定性。

2、第一方面,本申请实施例提供了一种动子,安装于定子,动子包括动子本体、永磁体和清洁结构,动子本体具有容纳槽以及与容纳槽的槽壁邻接的邻接面,容纳槽沿第一预设方向延伸以贯穿动子本体的两端,容纳槽用于容纳定子的线圈;永磁体设置于容纳槽的侧壁上;清洁结构设置于邻接面,清洁结构包括毛刷组件和/或磁体组件,清洁结构用于清理线圈的表面。

3、在本申请一些实施例中,清洁结构包括毛刷组件,线圈具有与永磁体耦合的耦合面,线圈位于容纳槽中时,耦合面与永磁体的间距为a,耦合面与毛刷组件的间距为b,其中,a>b;和/或,清洁结构包括磁体组件,线圈具有与永磁体耦合的耦合面,线圈位于容纳槽中时,耦合面与永磁体的间距为a,耦合面与磁体组件的间距为c,其中,a>c。由此大部分堆积于线圈表面的杂质都会被毛刷组件扫刷清理或者被磁体组件吸附清理,从而大大减少了杂质在永磁体上堆积,且降低杂质划伤线圈表面的可能性。

4、在本申请一些实施例中,清洁结构包括毛刷组件及磁体组件,其中,a>c>b,由此大部分堆积于线圈表面的金属杂质都会优先被磁体组件吸附,从而减少了金属杂质被吸附到永磁体上。

5、在本申请一些实施例中,清洁结构上开设有清洁槽,清洁槽与容纳槽沿第一预设方向连通,清洁槽用于容纳线圈,清洁槽包括第一槽壁、第二槽壁和第三槽壁,第一槽壁与第二槽壁相对设置,且分别位于第三槽壁的相对两侧;清洁结构包括毛刷组件,毛刷组件包括第一毛刷、第二毛刷和第三毛刷,第一毛刷设置于第一槽壁,第二毛刷设置于第二槽壁,第三毛刷设置于第三槽壁。由此增大毛刷组件与线圈接触的面积,从而使得线圈表面的杂质可以优先被毛刷组件带走,减少杂质在永磁体上的堆积。

6、在本申请一些实施例中,动子本体具有沿第一预设方向延伸的截面,截面位于容纳槽中,且截面与第三槽壁垂直;第一毛刷到截面之间的距离小于永磁体到截面之间的距离,第二毛刷到截面之间的距离小于永磁体到截面之间的距离。

7、在本申请一些实施例中,动子本体沿第一预设方向的相对两个邻接面上均设置有清洁结构。本实施例对动子的运动方向没有限制,无论动子在定子上正向输送或者反向输送,清洁结构均可以优先清理线圈表面的杂质。

8、在本申请一些实施例中,容纳槽沿第二预设方向延伸,以在动子本体的一侧上形成供线圈出入容纳槽的槽口,第二预设方向与第一预设方向垂直;清洁结构包括毛刷组件,毛刷组件包括第四毛刷和第五毛刷,第四毛刷设置于槽口处的邻接面,动子本体沿第一预设方向的相对两个邻接面上均设置有第五毛刷。

9、在本申请一些实施例中,清洁结构包括相邻设置的毛刷组件和磁体组件,毛刷组件位于磁体组件远离永磁体的一侧。毛刷组件先扫刷清理线圈表面的杂质,然后是磁体组件对线圈表面的金属杂质进行吸附清理,从而防止发生毛刷组件中的金属杂质又被永磁体吸附的情况。

10、在本申请一些实施例中,清洁结构包括磁体组件;动子还包括磁屏蔽结构,磁屏蔽结构设置于清洁结构与动子本体的端部之间,减少清洁结构上收集的一些金属杂质又被永磁体吸附。

11、在本申请一些实施例中,清洁结构还包括锁紧件和防撞件,毛刷组件和/或磁体组件通过锁紧件与动子本体连接;防撞件位于锁紧件远离动子本体的一侧,且与锁紧件连接。

12、第二方面,本申请实施例还提供了一种磁驱输送线,包括基座、定子以及如上述任一实施例中所述的动子,定子设置于基座,且定子包括线圈,线圈至少部分位于容纳槽中,且动子与定子滑动连接。

13、本申请实施例的有益效果为:本申请实施例通过在动子本体的邻接面上设置清洁结构,可以清理定子线圈上的杂质,大大减少杂质贴附于动子的永磁体上,有利于保证动子运行的稳定性;同时,毛刷组件可以扫刷清理杂质并将部分杂质容纳于刷毛内,由此降低杂质划伤线圈表面的可能性,磁体组件可以吸附收集金属杂质,减少杂质在永磁体上堆积,有利于保证动子运行的稳定性,且便于对杂质进行后续清理。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种动子,其特征在于,安装且耦合于定子,所述动子包括:

2.根据权利要求1所述的动子,其特征在于,所述清洁结构包括毛刷组件,所述线圈具有与所述永磁体耦合的耦合面,所述线圈位于所述容纳槽中时,所述耦合面与所述永磁体的间距为a,所述耦合面与所述毛刷组件的间距为b,其中,a>b;和/或,

3.根据权利要求2所述的动子,其特征在于,所述清洁结构包括毛刷组件及磁体组件,其中,a>c>b。

4.根据权利要求1所述的动子,其特征在于,所述清洁结构上开设有清洁槽,所述清洁槽与所述容纳槽沿所述第一预设方向连通,所述清洁槽用于容纳所述线圈,所述清洁槽包括第一槽壁、第二槽壁和第三槽壁,所述第一槽壁与所述第二槽壁相对设置,且分别位于所述第三槽壁的相对两侧;

5.根据权利要求4所述的动子,其特征在于,所述动子本体具有沿所述第一预设方向延伸的截面,所述截面位于所述容纳槽中,且所述截面与所述第三槽壁垂直;

6.根据权利要求1所述的动子,其特征在于,所述动子本体沿所述第一预设方向的相对两个所述邻接面上均设置有所述清洁结构。

7.根据权利要求1所述的动子,其特征在于,所述容纳槽沿第二预设方向延伸,以在所述动子本体的一侧上形成供所述线圈出入所述容纳槽的槽口,所述第二预设方向与所述第一预设方向垂直;

8.根据权利要求1所述的动子,其特征在于,所述清洁结构包括相邻设置的所述毛刷组件和所述磁体组件,所述毛刷组件位于所述磁体组件远离所述永磁体的一侧。

9.根据权利要求1所述的动子,其特征在于,所述清洁结构包括磁体组件;所述动子还包括磁屏蔽结构,所述磁屏蔽结构设置于所述清洁结构与所述动子本体的端部之间。

10.根据权利要求1所述的动子,其特征在于,所述清洁结构还包括:

11.一种磁驱输送线,其特征在于,包括基座、定子以及如权利要求1-10中任一项所述的动子,所述定子设置于所述基座,且所述定子包括线圈,所述线圈至少部分位于所述容纳槽中,且所述动子与所述定子滑动连接。

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【技术特征摘要】

1.一种动子,其特征在于,安装且耦合于定子,所述动子包括:

2.根据权利要求1所述的动子,其特征在于,所述清洁结构包括毛刷组件,所述线圈具有与所述永磁体耦合的耦合面,所述线圈位于所述容纳槽中时,所述耦合面与所述永磁体的间距为a,所述耦合面与所述毛刷组件的间距为b,其中,a>b;和/或,

3.根据权利要求2所述的动子,其特征在于,所述清洁结构包括毛刷组件及磁体组件,其中,a>c>b。

4.根据权利要求1所述的动子,其特征在于,所述清洁结构上开设有清洁槽,所述清洁槽与所述容纳槽沿所述第一预设方向连通,所述清洁槽用于容纳所述线圈,所述清洁槽包括第一槽壁、第二槽壁和第三槽壁,所述第一槽壁与所述第二槽壁相对设置,且分别位于所述第三槽壁的相对两侧;

5.根据权利要求4所述的动子,其特征在于,所述动子本体具有沿所述第一预设方向延伸的截面,所述截面位于所述容纳槽中,且所述截面与所述第三槽壁垂直;

6.根据权利要求1所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员:池峰郭琳聂成涛
申请(专利权)人:果栗智造上海技术股份有限公司
类型:新型
国别省市:

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