一种用于电子陶瓷基板加工的粉体包覆装置制造方法及图纸

技术编号:40438276 阅读:3 留言:0更新日期:2024-02-22 23:02
本申请涉及陶瓷基板生产技术领域,且公开了一种用于电子陶瓷基板加工的粉体包覆装置,包括包覆槽,所述包覆槽的内部填充有Ni‑P‑Sic沉积液,所述包覆槽的两个侧壁上端均转动连接有转轴,且两个转轴之间共同固定设置有中空包覆辊,两个所述转轴均为空心设置,其中一个所述转轴的轴内壁通过密封轴承转动连接有粉体喷射管,所述包覆槽的外侧壁固定安装有支撑板,且粉体喷射管贯穿支撑板的侧壁设置,另一个所述转轴的轴内壁通过密封轴承转动连接有注液管。本申请利用高压冲击力和中空包覆辊的转动,可以降低陶瓷粉体粘稠对包覆效率造成的影响,利于陶瓷粉体的包覆加工,效率高,包覆效果好,同时,可以防止Ni‑P‑Sic沉积液沉淀分层。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及陶瓷基板生产,尤其涉及一种用于电子陶瓷基板加工的粉体包覆装置


技术介绍

1、随着微电子封装产业的蓬勃发展,电子封装技术走向小型化、高密度、多功率和高可靠性的方向发展,先进陶瓷材料制成的陶瓷基板具有优良的电绝缘性能,高导热特性。

2、目前,陶瓷基板在进行生产时,其陶瓷粉体在进行加工时,为了提高后续成型陶瓷基板的特性,如使陶瓷基板具备较好的耐磨性、耐饰性等,需要对陶瓷粉体进行包覆加工,而现在的包覆装置,是将陶瓷粉体与相应的化学沉积液混合,实现对陶瓷粉体的包覆,但是,由于粉体浸入化学沉积液后,会变得相对粘稠,从而影响对粉体的包覆效率,因此,提出一种用于电子陶瓷基板加工的粉体包覆装置。


技术实现思路

1、本申请的目的是为了解决现有技术中由于粉体浸入化学沉积液后,会变得相对粘稠,从而影响对粉体的包覆效率的问题,而提出的一种用于电子陶瓷基板加工的粉体包覆装置。

2、为了实现上述目的,本申请采用了如下技术方案:

3、一种用于电子陶瓷基板加工的粉体包覆装置,包括包覆槽,所述包覆槽的内部填充有ni-p-sic沉积液,所述包覆槽的两个侧壁上端均转动连接有转轴,且两个转轴之间共同固定设置有中空包覆辊,两个所述转轴均为空心设置,其中一个所述转轴的轴内壁通过密封轴承转动连接有粉体喷射管,所述包覆槽的外侧壁固定安装有支撑板,且粉体喷射管贯穿支撑板的侧壁设置,另一个所述转轴的轴内壁通过密封轴承转动连接有注液管,且包覆槽与注液管共同连接有供液机构,所述包覆槽与其中一个转轴共同连接有驱动机构,所述粉体喷射管和注液管的管端均固定连接有高压喷头。

4、优选的,所述包覆槽的内部下侧转动连接有搅拌杆,且搅拌杆的杆壁固定套接有多个搅拌叶,所述搅拌杆的杆壁和其中一个转轴的轴壁均固定套接有链轮,且两个链轮共同传动连接有链条。

5、优选的,所述供液机构包括固定设置于包覆槽外侧壁下端的机泵,且机泵的输出端固定连接有输液管,所述输液管与注液管固定连通设置,所述机泵的吸入端与包覆槽的内部相连通设置。

6、优选的,所述中空包覆辊的内壁固定安装有多个相互错开设置的挡料杆。

7、优选的,所述驱动机构包括固定安装于包覆槽一侧上端的驱动电机,且驱动电机的输出端固定连接有动齿轮,其中一个所述转轴的轴壁固定套接有静齿轮,且动齿轮与静齿轮相啮合连接。

8、与现有技术相比,本申请提供了一种用于电子陶瓷基板加工的粉体包覆装置,具备以下有益效果:

9、1、该用于电子陶瓷基板加工的粉体包覆装置,通过设置的包覆槽、ni-p-sic沉积液、转轴、中空包覆辊、粉体喷射管、支撑板、注液管和高压喷头的相互配合,利用一个中空辊状结构,从两端相向进行高压喷射粉体和ni-p-sic沉积液,利用高压冲击力和中空包覆辊的转动,可以降低陶瓷粉体粘稠对包覆效率造成的影响,利于陶瓷粉体的包覆加工,效率高,包覆效果好。

10、2、该用于电子陶瓷基板加工的粉体包覆装置,通过设置的搅拌杆、搅拌叶、链轮和链条的相互配合,可以通过转轴同步带动搅拌杆和搅拌叶转动,从而可以防止ni-p-sic沉积液沉淀分层。

11、该装置中未涉及部分均与现有技术相同或可采用现有技术加以实现,本申请利用高压冲击力和中空包覆辊的转动,可以降低陶瓷粉体粘稠对包覆效率造成的影响,利于陶瓷粉体的包覆加工,效率高,包覆效果好,同时,可以防止ni-p-sic沉积液沉淀分层。

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【技术保护点】

1.一种用于电子陶瓷基板加工的粉体包覆装置,包括包覆槽(1),其特征在于,所述包覆槽(1)的内部填充有Ni-P-Sic沉积液(2),所述包覆槽(1)的两个侧壁上端均转动连接有转轴(3),且两个转轴(3)之间共同固定设置有中空包覆辊(4),两个所述转轴(3)均为空心设置,其中一个所述转轴(3)的轴内壁通过密封轴承转动连接有粉体喷射管(5),所述包覆槽(1)的外侧壁固定安装有支撑板(6),且粉体喷射管(5)贯穿支撑板(6)的侧壁设置,另一个所述转轴(3)的轴内壁通过密封轴承转动连接有注液管(7),且包覆槽(1)与注液管(7)共同连接有供液机构,所述包覆槽(1)与其中一个转轴(3)共同连接有驱动机构,所述粉体喷射管(5)和注液管(7)的管端均固定连接有高压喷头(8)。

2.根据权利要求1所述的一种用于电子陶瓷基板加工的粉体包覆装置,其特征在于,所述包覆槽(1)的内部下侧转动连接有搅拌杆(9),且搅拌杆(9)的杆壁固定套接有多个搅拌叶(10),所述搅拌杆(9)的杆壁和其中一个转轴(3)的轴壁均固定套接有链轮,且两个链轮共同传动连接有链条(11)。

3.根据权利要求1所述的一种用于电子陶瓷基板加工的粉体包覆装置,其特征在于,所述供液机构包括固定设置于包覆槽(1)外侧壁下端的机泵(12),且机泵(12)的输出端固定连接有输液管(13),所述输液管(13)与注液管(7)固定连通设置,所述机泵(12)的吸入端与包覆槽(1)的内部相连通设置。

4.根据权利要求1所述的一种用于电子陶瓷基板加工的粉体包覆装置,其特征在于,所述中空包覆辊(4)的内壁固定安装有多个相互错开设置的挡料杆(14)。

5.根据权利要求2所述的一种用于电子陶瓷基板加工的粉体包覆装置,其特征在于,所述驱动机构包括固定安装于包覆槽(1)一侧上端的驱动电机(15),且驱动电机(15)的输出端固定连接有动齿轮(16),其中一个所述转轴(3)的轴壁固定套接有静齿轮(17),且动齿轮(16)与静齿轮(17)相啮合连接。

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【技术特征摘要】

1.一种用于电子陶瓷基板加工的粉体包覆装置,包括包覆槽(1),其特征在于,所述包覆槽(1)的内部填充有ni-p-sic沉积液(2),所述包覆槽(1)的两个侧壁上端均转动连接有转轴(3),且两个转轴(3)之间共同固定设置有中空包覆辊(4),两个所述转轴(3)均为空心设置,其中一个所述转轴(3)的轴内壁通过密封轴承转动连接有粉体喷射管(5),所述包覆槽(1)的外侧壁固定安装有支撑板(6),且粉体喷射管(5)贯穿支撑板(6)的侧壁设置,另一个所述转轴(3)的轴内壁通过密封轴承转动连接有注液管(7),且包覆槽(1)与注液管(7)共同连接有供液机构,所述包覆槽(1)与其中一个转轴(3)共同连接有驱动机构,所述粉体喷射管(5)和注液管(7)的管端均固定连接有高压喷头(8)。

2.根据权利要求1所述的一种用于电子陶瓷基板加工的粉体包覆装置,其特征在于,所述包覆槽(1)的内部下侧转动连接有搅拌杆(9),且搅拌杆(9)的杆壁固定套接有多个搅拌叶(10),所述搅拌...

【专利技术属性】
技术研发人员:杨虎邓文
申请(专利权)人:南京麦德材料有限公司
类型:新型
国别省市:

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