【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及离子渗氮，尤其涉及一种用于喷丸高速渗氮的离子渗氮装置。
技术介绍
1、传统的给丸粒渗氮的方法主要包括气体渗氮、碳氮共渗以及离子渗氮等。而气体渗氮与碳氮共渗都需要高温，这会造成丸粒内部晶粒的粗大，而且所需要的时间也比较长。离子渗氮不同，离子渗氮是一种强化材料表面的方法，也常常被称为离子氮化、辉光渗氮。其原理具体而言，就是在真空条件下，将工件作为阴极放置于含氮气体环境中，气体在阴阳电极间的等离子弧作用下电离，电离出的氮离子会在电场的作用下高速轰击工件，离子的高动能转变为热能，加热工件表面至所需温度。由于离子的轰击，工件表面产生原子溅射，因而得到净化，同时由于吸附和扩散作用，氮渗入工件表面，对工件的表面完成渗氮处理。而现有的渗氮炉都是针对体积较大的工件，如果是喷丸这种小体积工件，很难实现均匀渗氮。除此之外，由于使用电场对离子进行加速，如果要加速到一个很高速度，往往需要渗氮炉有很大的的体积，这给运输过程带来了很大的不便，对此我们提出了一种用于喷丸高速渗氮的离子渗氮装置。
技术实现思路
1、有鉴于此，本专利技术的目的在于提出一种用于喷丸高速渗氮的离子渗氮装置，以解决上述的问题。
2、基于上述目的，本专利技术提供了一种用于喷丸高速渗氮的离子渗氮装置。
3、一种用于喷丸高速渗氮的离子渗氮装置，包括一种用于喷丸高速渗氮的离子渗氮装置，包括下层底板(17)，其特征在于，下层底板(17)顶部四角均竖向设有安装有第二支架(9)，所述第二支架(9)顶部横向设有同一上层
4、优选的，回旋加速装置(26)底部设有第五支架(27)，所述第五支架(27)固定于上层底板(7)顶部，所述回旋加速装置(26)一侧横向设有离子集束装置(25)，所述回旋加速装置(26)顶部设有第四导管(24)，所述第四导管(24)上方设有电离装置(23)，所述电离装置(23)与第一导管(2)连接，所述电离装置(23)通过第四支架(22)与工作腔(5)相连，所述工作腔(5)顶部插设有第三导管(13)，所述第三导管(13)顶部设有混气腔(12)，所述电离装置(23)通过第三导管(13)与混气腔(12)连接，所述工作腔(5)内部设有用于放置丸粒的载物装置(19)。
5、优选的，载物装置(19)包括有端盖(29)、底座(30)以及护栏(28)组成，所述底座(30)与第一转轴(6)顶部同轴相连，所述工作腔(5)上方还设有泵体(1)，所述泵体(1)底部设有第一支架(4)，所述第一支架(4)底部与工作腔(5)顶部相连，所述混气腔(12)底部设有第三支架(14)，且与工作腔(5)顶部固连，所述混气腔(12)顶部设有第二电机(11)和多个第一进气管(10)，所述混气腔(12)内部还设有第二转轴(18)、搅拌板(21)和条状孔(20)，所述第二转轴(18)与第二电机(11)以及搅拌板(21)相连，所述搅拌板(21)上开设有条状孔(20)，所述泵体(1)通过第一导管(2)、第二导管(3)以及第一支架(4)与工作腔(5)连接。
6、本专利技术的有益效果：
7、1.通过设置的混气腔中有三个第一进气管，可以同时通入氮气、氨气和催渗剂，在通入的过程中可以任意调整不同气体的进气速率，实现了动态调整三种气体的含量配比；
8、2.通过设置的混气腔中有一个搅拌板，在三种气体通入工作腔之前能够将三种气体搅拌均匀，避免在渗氮过程中由于气体分布不均匀导致渗氮层厚度以及性能不均匀；
9、3.通过设置在工作腔内通过回旋加速装置对氮离子进行加速，能够在减少整个渗氮装置体积的情况下，提升氮离子的轰击速度，增加了渗氮层的厚度和性能，并且，提升了离子渗氮的效率。
10、4.通过设置的载物装置的底座与第一转轴连接，并且，底座可以在转轴的带动下转动，带动载物装置内的丸粒转动，能够使得丸粒的各个面都受到离子的轰击，使得丸粒表面渗氮层更加均匀。
11、5.通过设置的最下层的一个水槽，作为尾气处理装置，因为氨气会污染空气，不能够直接将其排放到空气中。
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1.一种用于喷丸高速渗氮的离子渗氮装置，包括下层底板(17)，其特征在于，所述下层底板(17)顶部四角均竖向设有安装有第二支架(9)，所述第二支架(9)顶部横向设有同一上层底板(7)，所述上层底板(7)顶部设有工作腔(5)，所述工作腔(5)顶部插设有第一导管(2)以及第二导管(3)，所述下层底板(17)顶部还设有水槽(16)以及第一电机(8)，所述水槽(16)上方设有排气通道(15)，所述第一电机(8)顶部输出轴同轴设有第一转轴(6)，所述排气通道(15)以及第一转轴(6)均穿过上层底板(7)，且与工作腔(5)相连通，所述工作腔(5)内设有回旋加速装置(26)以及载物装置(19)。
2.根据权利要求1所述的一种用于喷丸高速渗氮的离子渗氮装置，其特征在于，所述回旋加速装置(26)底部设有第五支架(27)，所述第五支架(27)固定于上层底板(7)顶部，所述回旋加速装置(26)一侧横向设有离子集束装置(25)，所述回旋加速装置(26)顶部设有第四导管(24)，所述第四导管(24)上方设有电离装置(23)，所述电离装置(23)与第一导管(2)连接，所述电离装置(23)通过第四
3.根据权利要求2所述的一种用于喷丸高速渗氮的离子渗氮装置，其特征在于，所述载物装置(19)包括有端盖(29)、底座(30)以及护栏(28)组成，所述底座(30)与第一转轴(6)顶部同轴相连，所述工作腔(5)上方还设有泵体(1)，所述泵体(1)底部设有第一支架(4)，所述第一支架(4)底部与工作腔(5)顶部相连，所述混气腔(12)底部设有第三支架(14)，且与工作腔(5)顶部固连，所述混气腔(12)顶部设有第二电机(11)和多个第一进气管(10)，所述混气腔(12)内部还设有第二转轴(18)、搅拌板(21)和条状孔(20)，所述第二转轴(18)与第二电机(11)以及搅拌板(21)相连，所述搅拌板(21)上开设有条状孔(20)，所述泵体(1)通过第一导管(2)、第二导管(3)以及第一支架(4)与工作腔(5)连接。
...【技术特征摘要】
1.一种用于喷丸高速渗氮的离子渗氮装置，包括下层底板(17)，其特征在于，所述下层底板(17)顶部四角均竖向设有安装有第二支架(9)，所述第二支架(9)顶部横向设有同一上层底板(7)，所述上层底板(7)顶部设有工作腔(5)，所述工作腔(5)顶部插设有第一导管(2)以及第二导管(3)，所述下层底板(17)顶部还设有水槽(16)以及第一电机(8)，所述水槽(16)上方设有排气通道(15)，所述第一电机(8)顶部输出轴同轴设有第一转轴(6)，所述排气通道(15)以及第一转轴(6)均穿过上层底板(7)，且与工作腔(5)相连通，所述工作腔(5)内设有回旋加速装置(26)以及载物装置(19)。
2.根据权利要求1所述的一种用于喷丸高速渗氮的离子渗氮装置，其特征在于，所述回旋加速装置(26)底部设有第五支架(27)，所述第五支架(27)固定于上层底板(7)顶部，所述回旋加速装置(26)一侧横向设有离子集束装置(25)，所述回旋加速装置(26)顶部设有第四导管(24)，所述第四导管(24)上方设有电离装置(23)，所述电离装置(23)与第一导管(2)连接，所述电离装置(23...
【专利技术属性】
技术研发人员：任乃飞，王匀，陈津南，于超，李政铭，谭飞，季慧，
申请(专利权)人：无锡太湖学院，
类型：发明
国别省市：
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