【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及电磁检测,具体涉及一种近场探头以及近场探测装置。
技术介绍
1、随着集成电路工艺等电子制造技术的发展,芯片及电路板朝着高集成、高速化方向发展,而随着芯片集成度的提高,芯片中单位面积内的元器件的数量越来越多。从而导致芯片周围的电磁环境越来越复杂。而为了检测芯片的电磁可靠性,需要捕获芯片辐射出的电、磁场信号进行可靠性分析。因此,如何检测芯片辐射出的电、磁场信号,是目前需要解决的问题。
2、近场探头作为近场扫描系统最重要的组成部分之一,其性能的好坏直接决定了扫描系统的应用场景。我国规定为了保障ic芯片的可靠性,产品在上市前必须要通过相关的电磁兼容标准。近场扫描技术在ic电磁干扰测量领域具有巨大的优势和潜力,但是,申请人发现目前市面上商用的高性能近场探头存在售价昂贵,测量效率低下等问题。因此,设计需要高性能近场探头以满足ic电磁干扰测量所需的高灵敏度、高空间分辨率和低成本等市场需求。
技术实现思路
1、本专利技术提供一种近场探头以及近场探测装置,通过两个多匝线圈的结构提高
...【技术保护点】
1.一种近场探头,其特征在于,包括依次堆叠的第一屏蔽层、第一信号传输层、第二信号传输层以及第二屏蔽层;
2.根据权利要求1所述的近场探头,其特征在于,在所述第一屏蔽层和第一信号传输层之间、所述第一信号传输层和第二信号传输层之间、所述第二信号传输层和第二屏蔽层之间均填充FR-4的介电材料。
3.根据权利要求2所述的近场探头,其特征在于,所述第一屏蔽层、第一信号传输层、第二信号传输层以及第二屏蔽层均为厚度0.035mm的金属层,所述第一屏蔽层、第一信号传输层、第二信号传输层以及第二屏蔽层之间填充FR-4的介电材料厚度为0.182mm。
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【技术特征摘要】
1.一种近场探头,其特征在于,包括依次堆叠的第一屏蔽层、第一信号传输层、第二信号传输层以及第二屏蔽层;
2.根据权利要求1所述的近场探头,其特征在于,在所述第一屏蔽层和第一信号传输层之间、所述第一信号传输层和第二信号传输层之间、所述第二信号传输层和第二屏蔽层之间均填充fr-4的介电材料。
3.根据权利要求2所述的近场探头,其特征在于,所述第一屏蔽层、第一信号传输层、第二信号传输层以及第二屏蔽层均为厚度0.035mm的金属层,所述第一屏蔽层、第一信号传输层、第二信号传输层以及第二屏蔽层之间填充fr-4的介电材料厚度为0.182mm。
4.根据权利要求1所述的近场探头,其特征在于,所述第一探测线圈与所述第一信号传输部连接构成第一探测环路,以探测第一射频信号,所述第一信号传输部用于发送所述第一射频信号。
5.根据权利要求1所述的近场探头,其特征在于,所述第二探测线圈与所述第二信号传输部连接构...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘吉平,代丞,易志强,王翔,郑增忠,
申请(专利权)人:深圳市航顺芯片技术研发有限公司,
类型:发明
国别省市:
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