【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于光学材料，具体涉及一种光学薄膜材料的制备方法。
技术介绍
1、光学薄膜是用物理或化学方法涂镀在玻璃或金属光滑表面上的透明介质膜。光学薄膜利用光波在薄膜中的反射、折射及叠加干涉可以达到减反或增反的效果，还可以起到分光、滤光、调整光束偏振或相位状态等作用。
2、聚甲基丙烯酸甲酯(pmma)具有较高的透光率、较高的机械强度和良好的化学稳定性，是较为理想的光学薄膜材料。然而pmma树脂的玻璃化转变温度小于110℃，耐高温性差，吸水率高达0.3％-0.4％，这无疑会严重限制了光学薄膜的使用范围。
技术实现思路
1、有鉴于此，本专利技术的目的在于提供一种光学薄膜材料的制备方法，旨在解决现有的pmma耐高温性差的技术问题。
2、为达到上述目的，本专利技术提供如下技术方案：
3、本专利技术提供如下技术方案：一种光学薄膜材料的制备方法，包括如下步骤：
4、向反应容器中添加一定摩尔比的聚甲基丙烯酸甲酯和聚碳酸酯在15～20℃条件下搅拌2h得到混合溶
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【技术保护点】
1.一种光学薄膜材料的制备方法，其特征在于：包括如下步骤：
2.根据权利要求1所述的一种光学薄膜材料的制备方法，其特征在于，所述的直径为1～100二氧化钛纳米棒与所述的直径为101-300二氧化钛纳米棒的质量比为(5～8):(1:3)。
3.根据权利要求1所述的一种光学薄膜材料的制备方法，其特征在于，所述偶联剂为γ-氨丙基三乙氧基硅烷。
4.根据权利要求1所述的一种光学薄膜材料的制备方法，其特征在于，所述聚甲基丙烯酸甲酯和聚碳酸酯的摩尔比为1:3。
5.根据权利要求1所述的一种光学薄膜材料的制备方法，其特征在于，所述向反...
【技术特征摘要】
1.一种光学薄膜材料的制备方法，其特征在于：包括如下步骤：
2.根据权利要求1所述的一种光学薄膜材料的制备方法，其特征在于，所述的直径为1～100二氧化钛纳米棒与所述的直径为101-300二氧化钛纳米棒的质量比为(5～8):(1:3)。
3.根据权利要求1所述的一种光学薄膜材料的制备方法，其特征在于，所述偶联剂为γ-氨丙基三乙氧基硅烷。
4.根据权利要求1所述的一种光学薄膜材料的制备方法，其特征在于，所述聚甲基丙烯酸甲酯和聚碳酸酯的摩尔比为1:3。
5.根据权利要求1所述的一种光学薄膜材料的制备方法，其特征在于，所述向反应容器中添加一定摩尔比的聚甲基丙烯酸甲酯和聚碳酸酯在15～20℃...
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