【技术实现步骤摘要】
本申请涉及工件清洗，尤其涉及一种氧化膜的去除方法。
技术介绍
1、相对于传统的软质阳极膜技术，在工件的表面形成的硬质阳极膜，具有易上色、抗腐蚀性能好等优势。但是采用常规的方法，硬质阳极膜难以清除，若采用强碱进行清除，反应程度难以控制，且强碱容易对工件产生腐蚀，甚至报废。
技术实现思路
1、有鉴于此，有必要提供一种能够有效改善工件腐蚀的去除氧化膜的方法，以解决上述问题。
2、一种氧化膜的去除方法，包括以下步骤：提供工件，工件包括基体与位于基体表面的氧化膜；对工件进行金属氟化物等离子蚀刻，以使氧化膜脆化，在等离子蚀刻的同时，检测工件产生的等离子光谱波长，当波长变化至氧化膜的波长时，停止等离子蚀刻；采用惰性气体对工件进行等离子清洗，以去除脆化后的氧化膜。
3、在本申请一些实施方式中，金属氟化物包括氟化钠、氟化镁、氟化钾以及氟化钙中的至少一种。
4、在本申请一些实施方式中，等离子蚀刻的压力范围为0.1pa-10-6pa。
5、在本申请一些实施方式中，等离子蚀刻的时间范围为10s-75s。
6、在本申请一些实施方式中，等离子清洗的压力范围为0.1pa-10-6pa。
7、在本申请一些实施方式中，等离子清洗的时间范围为45s-150s。
8、在本申请一些实施方式中，惰性气体为氩气以及氦气中的至少一种。
9、在本申请一些实施方式中，氧化膜的材质为氧化铝。
10、在本申请一些实施方式中，基体
11、在本申请一些实施方式中，在等离子清洗的步骤之后，去除方法还包括：采用去离子水清洗基体。
12、本申请实施例提供的氧化膜的去除方法，对含有氧化膜的工件进行金属氟化物等离子蚀刻，金属氟化物产生的等离子体f-取代氧化膜中的氧，并与金属等离子体共同形成介稳相，使得氧化膜产生裂缝，同时测试工件的波长，以确定等离子蚀刻的停止时间；再通过惰性气体的等离子体对蚀刻后的工件进行清洗，以进一步去除氧化膜。其中，本申请的氧化膜的去除方法，反应温和，时间短；蚀刻过程损耗的金属氟化物以及清洗过程中损耗的惰性气体用量少，有利于节省成本，且不会如强碱蚀刻产生较大的环境污染；并且，在等离子蚀刻过程中，实时监测工件的波长，根据工件波长的变化即可调控等离子蚀刻的停止，从而在脆化氧化膜的过程中，有效改善基体被损坏的现象。
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1.一种氧化膜的去除方法，包括：
2.根据权利要求1所述的氧化膜的去除方法，其中，所述金属氟化物包括氟化钠、氟化镁、氟化钾以及氟化钙中的至少一种。
3.根据权利要求1所述的氧化膜的去除方法，其中，所述等离子蚀刻的压力范围为0.1Pa-10-6Pa。
4.根据权利要求1所述的氧化膜的去除方法，其中，所述等离子蚀刻的时间范围为10s-75s。
5.根据权利要求1-4中任意一项所述的氧化膜的去除方法，其中，所述等离子清洗的压力范围为0.1Pa-10-6Pa。
6.根据权利要求1-4中任意一项所述的氧化膜的去除方法，其中，所述等离子清洗的时间范围为45s-150s。
7.根据权利要求1-4中任意一项所述的氧化膜的去除方法，其中，所述惰性气体为氩气以及氦气中的至少一种。
8.根据权利要求1-4中任意一项所述的氧化膜的去除方法，其中，所述氧化膜的材质为氧化铝。
9.根据权利要求1-4中任意一项所述的氧化膜的去除方法，其中，所述基体的材质为铝合金。
10.根据权利要求1-4中任意一项所述
...【技术特征摘要】
1.一种氧化膜的去除方法，包括：
2.根据权利要求1所述的氧化膜的去除方法，其中，所述金属氟化物包括氟化钠、氟化镁、氟化钾以及氟化钙中的至少一种。
3.根据权利要求1所述的氧化膜的去除方法，其中，所述等离子蚀刻的压力范围为0.1pa-10-6pa。
4.根据权利要求1所述的氧化膜的去除方法，其中，所述等离子蚀刻的时间范围为10s-75s。
5.根据权利要求1-4中任意一项所述的氧化膜的去除方法，其中，所述等离子清洗的压力范围为0.1pa-10-6pa。
6.根据权利要求...
【专利技术属性】
技术研发人员：邱扬淳，张士浤，王金美，于爽，夏伟瀚，罗坤杰，李平平，洪辰谕，
申请(专利权)人：富联裕展科技深圳有限公司，
类型：发明
国别省市：
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