大口径平板元件剩余透反射率及不均匀性测量装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种大口径平板元件剩余透反射率及不均匀性测量装置，涉及光学元件透反射率及不均匀性的测量，其目的在于解决现有技术中因存在较大系统误差而致使最终测量误差较大的技术问题，相比于传统的双光路测量方法，本申请在光路中引入了参考高反射镜，并将其作为比较测量对象；由于引入的参考高反射镜的透射率在光路中进行了原位标定，其提高了系统误差测量的进度；结合剩余透射率、剩余反射率的计算公式，计算公式中都有乘以标定的参考高反射镜的剩余透射率，从而极大地降低随机误差，进一步提高测量精度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术人属于光学检测，涉及光学元件透反射率及不均匀性的测量，尤其涉及一种大口径平板元件剩余透反射率及不均匀性测量装置。

技术介绍

1、随着航空、航天、和天文学等领域的发展，加大了对光学系统质量和精度的要求，特别是高功率固体激光器等装置，除对光学元件镀膜反射比要求达到99.8％以外，更要求其空间均匀性均匀性达到0.1％。

2、测量薄膜或光学元件的反射比，目前主要采用商用分光光度计，日本的日立公司、岛津公司和美国的安捷伦公司、pe公司等。目前商用分光光度计主要用于测量液体、或小口径元件反射比，透射测量精度一般为±0.1％，反射比测量精度一般为±0.3％。分光光度计测量精度有限，而且无法实现大口径元件的测量。

3、国外sanders以及国内李斌成等人提出光学谐振腔等方式用于高反或高透元件透射率或反射比，该方法主要用于极高反射比测量，一般要求反射比或透射率达到99.9％以上，从而保证衰荡信号的信噪比。

4、国内浙江大学等研制一套用于大口径透反仪，用于大口径光学元件透射率或反射比测量，其基本原理仍为分光光度原理，因此其测量精度本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种大口径平板元件剩余透反射率及不均匀性测量装置，其特征在于：

2.如权利要求1所述的大口径平板元件剩余透反射率及不均匀性测量装置，其特征在于：CCD相机(12)位于探测器二(13)的共轭位置。

【技术特征摘要】

1.一种大口径平板元件剩余透反射率及不均匀性测量装置，其特征在于：

2.如权利要求1所述的大口...

【专利技术属性】
技术研发人员：高波，刘昂，万道明，徐凯源，何宇航，魏小红，陈宁，石振东，王凤蕊，李强，
申请(专利权)人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心，
类型：发明
国别省市：