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本发明公开了一种大口径平板元件剩余透反射率及不均匀性测量装置，涉及光学元件透反射率及不均匀性的测量，其目的在于解决现有技术中因存在较大系统误差而致使最终测量误差较大的技术问题，相比于传统的双光路测量方法，本申请在光路中引入了参考高反射镜，并...
该专利属于中国工程物理研究院激光聚变研究中心所有，仅供学习研究参考，未经过中国工程物理研究院激光聚变研究中心授权不得商用。

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