一种细胞培养系统技术方案

技术编号:40294578 阅读:23 留言:0更新日期:2024-02-07 20:43
本公开涉及细胞培养系统(200),特别是光可重构系统,所述系统包括支撑基板(201)、含偶氮苯层(202)和保护性涂层(203)。本公开还涉及在所述系统的含偶氮苯材料的表面上可逆地刻写形貌、在所述系统上培养细胞的方法以及通过所述方法可获得的细胞培养物。还公开了一种制造所述系统的方法。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本公开涉及细胞培养系统,特别是包含双层结构的光可重构系统,所述双层结构包括含偶氮苯层和保护性涂层。


技术介绍

1、在药物开发中,所开发的超过90%的新分子在临床阶段试验中失败。低成功率的主要原因在于体外研究中使用的细胞模型。这些模型系统不能再现人体的自然条件:在体内,细胞微环境调节着各种细胞功能。因此,显然需要更好的基于细胞的模型——要做到这一点,重要的是在体外细胞培养中尽可能接近地模拟动态体内条件,包括细胞微环境。

2、目前,细胞大多在细胞培养盘(cell culture disc)、烧瓶和平板中培养,而没有恰当地模拟细胞的动态体内微环境、细胞生态位。在这些条件下的一个主要缺点是缺乏表面特征,即表面形貌(topography),由此不能很好地反映细胞在人体中遇到的环境。此外,我们身体内的贴壁细胞不断地改变其周围环境并与周围环境相互作用。这种行为产生了动态细胞外环境,这很难在体外重演。

3、已使用不同的微工程改造方法来构建微图案化细胞培养基板,但它们通常具有正方形的形貌而不是光滑的结构,这与细胞环境不相似。此外,它们仍然缺乏可重构性本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种细胞培养系统(100,200),所述系统包括支撑结构(101,201)、含偶氮苯的中间层(102,202)和包含保护性聚合物的顶层(103,203)。

2.根据权利要求1所述的系统,其中所述含偶氮苯层的厚度为50nm至5μm,所述顶层的厚度为20nm至100μm,优选为20nm至200nm。

3.根据权利要求1所述的系统,其中所述含偶氮苯层的厚度为50nm至5μm,所述顶层的厚度为50nm至100μm。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的系统,其中所述支撑结构选自细胞培养盘,如培养皿、显微镜盖片和孔板。

5.根据权利要求1至4中任...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种细胞培养系统(100,200),所述系统包括支撑结构(101,201)、含偶氮苯的中间层(102,202)和包含保护性聚合物的顶层(103,203)。

2.根据权利要求1所述的系统,其中所述含偶氮苯层的厚度为50nm至5μm,所述顶层的厚度为20nm至100μm,优选为20nm至200nm。

3.根据权利要求1所述的系统,其中所述含偶氮苯层的厚度为50nm至5μm,所述顶层的厚度为50nm至100μm。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的系统,其中所述支撑结构选自细胞培养盘,如培养皿、显微镜盖片和孔板。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的系统,其中所述保护性聚合物选自弹性体和水凝胶。

6.根据权利要求5所述的系统,其中所述弹性体是硅氧烷。

7.根据权利要求6所述的系统,其中所述硅氧烷是pdms。

8.根据权利要求1至4中任一项所述的系统,其中所述保护性聚合物是聚对二甲苯,优选聚对二甲苯c。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的系统,其中偶氮苯是n-乙基-n-(2-羟基乙基)-4-(4-硝基苯基偶氮)苯胺。

10.一种制造根据权利要求1至9中任一项所述的系统的方法,所述方法包括

11.根据权利要求10所述的方法,其中步骤b)的所述涂覆包括旋涂。

12.根据权利要求10或11所述的方法,其中步骤c)的所述涂覆包括旋涂。

13.根据权利要求10或11所述的方法,其中步骤c)的所述涂覆包括化学气相沉积聚合,条件是所述聚合物为聚对二甲苯,优选聚对二甲苯c。

14.一种在根据权利要求1至9中任一项所述的系统的含偶氮苯材料上可逆地刻写形貌的方法,所述方法包括将光束聚焦到所述材料或将激光干涉图案投射到所述材料。

15.根据权利要求14所述的方法,其中所述聚焦包括激光束在所述顶层上扫描。

16.根据权利要求14或15所述的方法,其中所述光的波长为400nm至600nm,优选为430nm至530n...

【专利技术属性】
技术研发人员:阿里·普利麦吉奇亚拉·费德勒泰穆·伊哈莱宁
申请(专利权)人:坦佩雷大学基金会
类型:发明
国别省市:

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