【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种外螺纹去除氧化皮的加工方法，属于外螺纹加工。
技术介绍
1、gh159材料外螺纹产品受材料强度的影响，螺纹成形主要为温滚加工，产品经温滚后产品表面会产生蓝色氧化皮，在实际加工过程中工人手拿抛光布(可参见中国专利公开号cn100534719去氧化皮步骤)对外螺纹产品进行抛光手工抛光的方式去除氧化皮。
2、虽然，工人手工拿抛光布抛光能去除氧化皮，但是，人手拿抛光布受力不均衡，再加上外螺纹产品公差为9μm，人手拿抛光布抛光去除氧化皮存在公差无法保证并且会产生锥形及椭圆造成产品报废的问题。
技术实现思路
1、为解决上述技术问题，本专利技术提供了一种外螺纹去除氧化皮的加工方法。
2、本专利技术通过以下技术方案得以实现。
3、本专利技术提供的一种外螺纹去除氧化皮的加工方法，包括：
4、受力均衡的摩擦去除外螺纹产品外螺纹表面氧化皮的加工过程。
5、所示加工过程具体为：陶瓷磨粒包裹外螺纹产品外部外螺纹进行旋转彼此发生受力均衡的摩擦，实现去除外螺纹产品外螺纹表面氧化皮。
6、所述外螺纹产品被陶瓷磨粒包围间隔密封在圆形套筒内部，圆形套筒带着被陶瓷磨粒包围的外螺纹产品放置到具有旋转功能的机器上进行旋转。
7、所述圆形套筒带着被陶瓷磨粒包围的外螺纹产品旋转分为先低速的粗抛及后高速的精抛。
8、所述低速的粗抛转速为1000r/min，90min。
9、所述高速的精抛转速为1300r/
10、所述粗抛及精抛时陶瓷磨粒不同粒径陶瓷磨粒构成配比为圆球粒度φ4磨料一200份：圆球粒度φ2磨料二200份：圆柱粒度1.5*5磨料三200份：抛光剂90份。
11、本专利技术的有益效果在于：旋转带着陶瓷磨粒摩擦外螺纹产品外螺纹时，两种不同粒径的陶瓷磨粒间歇受力均衡的摩擦去除表面氧化皮，保证了外螺纹产品上9μm的公差，避免了受力不均衡导致外螺纹产品会出现锥形及椭圆的缺陷情况，提高了外螺纹产品外螺纹去除氧化皮的质量，解决了人手拿抛光布抛光去除氧化皮存在公差无法保证并且会产生锥形及椭圆造成产品报废的问题。
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1.一种外螺纹去除氧化皮的加工方法，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的外螺纹去除氧化皮的加工方法，其特征在于，所示加工过程具体为：陶瓷磨粒(3)包裹外螺纹产品(2)外部外螺纹进行旋转彼此发生受力均衡的摩擦，实现去除外螺纹产品(2)外螺纹表面氧化皮。
3.如权利要求2所述的外螺纹去除氧化皮的加工方法，其特征在于：所述外螺纹产品(2)被陶瓷磨粒(3)包围间隔密封在圆形套筒(1)内部，圆形套筒(1)带着被陶瓷磨粒(3)包围的外螺纹产品(2)放置到具有旋转功能的机器上进行旋转。
4.如权利要求3所述的外螺纹去除氧化皮的加工方法，其特征在于：所述圆形套筒(1)带着被陶瓷磨粒(3)包围的外螺纹产品(2)旋转分为先低速的粗抛及后高速的精抛。
5.如权利要求4所述的外螺纹去除氧化皮的加工方法，其特征在于：所述低速的粗抛转速为1000r/min。
6.如权利要求4所述的外螺纹去除氧化皮的加工方法，其特征在于：所述高速的精抛转速为1300r/min。
7.如权利要求2或3所述的外螺纹去除氧化皮的加工方法，其特征在于：所述
8.如权利要求7所述的外螺纹去除氧化皮的加工方法，其特征在于：所述粗抛及精抛时陶瓷磨粒(3)不同粒径陶瓷磨粒构成配比为圆球粒度Φ4磨料一200份：圆球粒度Φ2磨料二200份：圆柱粒度1.5*5磨料三200份：抛光剂90份。
...【技术特征摘要】
1.一种外螺纹去除氧化皮的加工方法，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的外螺纹去除氧化皮的加工方法，其特征在于，所示加工过程具体为：陶瓷磨粒(3)包裹外螺纹产品(2)外部外螺纹进行旋转彼此发生受力均衡的摩擦，实现去除外螺纹产品(2)外螺纹表面氧化皮。
3.如权利要求2所述的外螺纹去除氧化皮的加工方法，其特征在于：所述外螺纹产品(2)被陶瓷磨粒(3)包围间隔密封在圆形套筒(1)内部，圆形套筒(1)带着被陶瓷磨粒(3)包围的外螺纹产品(2)放置到具有旋转功能的机器上进行旋转。
4.如权利要求3所述的外螺纹去除氧化皮的加工方法，其特征在于：所述圆形套筒(1)带着被陶瓷磨粒(3)包围的外螺纹产品(2)...
【专利技术属性】
技术研发人员：牟军，罗芳丽，易国杰，范旭，董贵芳，李明翰，樊隆祥，王科，田冲，杨小强，
申请(专利权)人：贵州航天精工制造有限公司，
类型：发明
国别省市：
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