【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于陶瓷3d打印,具体涉及一种适用于高折射率高吸收率陶瓷粉体的光固化3d打印浆料及制备方法。
技术介绍
1、碳化硅、碳化硼、氮化硅等非氧化物陶瓷材料具有优异的力学性能、热学性能以及各种功能性能,被广泛应用于航空航天、汽车工业、通讯工程等领域。然而,这类陶瓷的高硬度和脆性给其加工带来了困难,尤其难以加工复杂形状的碳化硅构件,很大程度限制了碳化硅陶瓷的应用和发展。即使注浆成形、注凝成形、流延成形等传统陶瓷胶态成形能够满足部分复杂结构碳化硅陶瓷构件的加工需求,但依旧存在模具使用率低、加工周期长、加工成本高且加工结构受限等问题。
2、光固化3d打印是以陶瓷粉体和光固化树脂组成的陶瓷浆料为原料,利用紫外光对浆料的逐层选择性光固化,实现复杂陶瓷结构件的一体化成形。然而,在紫外光对陶瓷浆料固化的过程中,陶瓷粉体会对紫外光散射,导致陶瓷浆料的固化厚度下降,同时过固化宽度增加,打印精度下降。陶瓷粉体与光固化树脂的折射率差异越大,陶瓷粉体对紫外光的散射作用越强。相比氧化物陶瓷粉体,碳化硅、氮化硅、碳化硼这类高折射率高吸收率陶瓷粉体具有
...【技术保护点】
1.一种适用于高折射率高吸收率陶瓷粉体的光固化3D打印浆料制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
2.根据权利要求1所述的适用于高折射率高吸收率陶瓷粉体的光固化3D打印浆料制备方法,其特征在于,
3.根据权利要求1所述的适用于高折射率高吸收率陶瓷粉体的光固化3D打印浆料制备方法,其特征在于,
4.根据权利要求1所述的适用于高折射率高吸收率陶瓷粉体的光固化3D打印浆料制备方法,其特征在于,
5.根据权利要求1所述的适用于高折射率高吸收率陶瓷粉体的光固化3D打印浆料制备方法,其特征在于,
6.根据权利要求1所述的适
...【技术特征摘要】
1.一种适用于高折射率高吸收率陶瓷粉体的光固化3d打印浆料制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
2.根据权利要求1所述的适用于高折射率高吸收率陶瓷粉体的光固化3d打印浆料制备方法,其特征在于,
3.根据权利要求1所述的适用于高折射率高吸收率陶瓷粉体的光固化3d打印浆料制备方法,其特征在于,
4.根据权利要求1所述的适用于高折射率高吸收率陶瓷粉体的光固化3d打印浆料制备方法,其特征在于,
5.根据权利要求1所述的适用于高折射率高吸收率陶瓷粉体的光固化3d打印浆料制备方法,其特征在于,
6.根据权利要求1所述的适用于高折射率高吸收率陶瓷粉体的光固化3d打印浆...
【专利技术属性】
技术研发人员:闫春泽,周士翔,刘桂宙,史玉升,
申请(专利权)人:华中科技大学,
类型:发明
国别省市:
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