【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及真空镀膜，尤其涉及一种真空镀膜系统及真空镀膜方法。
技术介绍
1、随着真空镀膜技术应用领域的持续扩大和市场对镀膜效率和镀膜品质的要求的提升，镀膜行业对镀膜自动化技术的需求日益增强。镀膜源材料的自动化供给则是镀膜自动化技术的重要课题之一。
2、在真空镀膜
中，镀膜过程一般是依靠电子束蒸发、电阻蒸发或溅射等方式进行的。在上述各过程中，不可避免会产生多余热量。如果不采取有效的措施，承载膜料的膜料承载件以及其他部件可能由于温度过高导致性能下降或损坏，造成严重的安全隐患，同时影响镀膜效果。在采用膜料自动化供给技术的镀膜设备中，镀膜设备需长时间连续镀膜，且膜料承载件一般还需要满足自动加料功能。在这种情况下，如何在保证膜料自动化供给的同时，有效减少镀膜过程中产生的多余热量，实现稳定可靠的自动化连续镀膜，是亟待解决的问题。
3、所以，亟需一种真空镀膜系统及真空镀膜方法，以解决上述问题。
技术实现思路
1、基于以上所述，本专利技术的目的在于提供一种真空镀膜系统及真空镀膜方法，能盛放更多膜料，提高了安全性，镀膜效果更好，效率更高。
2、为达上述目的，本专利技术采用以下技术方案：
3、一种真空镀膜系统，包括：
4、镀膜腔和搬运腔，所述镀膜腔用于镀膜，所述搬运腔用于盛放膜料承载件，所述膜料承载件上设置有多个承载位，所述镀膜腔内设置有镀膜位；
5、输送装置，能将所述搬运腔的所述膜料承载件输送至所述镀膜腔，并将所述承载
6、冷却装置，设置于所述镀膜腔，用于冷却置于所述镀膜腔的所述膜料承载件。
7、作为一种真空镀膜系统的优选方案，所述输送装置包括设置于所述搬运腔的直线模组，所述直线模组上设置有与所述膜料承载件连接的推送件，所述直线模组能驱动所述推送件移动。
8、作为一种真空镀膜系统的优选方案，所述直线模组包括直线驱动件、直线导轨和设置于所述直线导轨上的滑块，所述直线驱动件能驱动所述滑块在所述直线导轨上移动，所述推送件设置于所述滑块上。
9、作为一种真空镀膜系统的优选方案，所述输送装置还包括支撑导轨，所述支撑导轨与所述直线导轨的延伸方向相同，所述膜料承载件滑动设置于所述支撑导轨上。
10、作为一种真空镀膜系统的优选方案，所述支撑导轨上设置有调节导轮，所述调节导轮用于调节所述膜料承载件的水平度。
11、作为一种真空镀膜系统的优选方案，所述膜料承载件上设置有定位孔，所述推送件上设置有插销，所述插销能置于所述定位孔内。
12、作为一种真空镀膜系统的优选方案，所述冷却装置包括镀膜位冷却机构和非镀膜位冷却机构，所述镀膜位冷却机构用于冷却置于所述镀膜位的所述承载位，所述非镀膜位冷却机构用于冷却经过所述镀膜位的所述承载位。
13、作为一种真空镀膜系统的优选方案，所述冷却装置可升降设置，当所述冷却装置与所述膜料承载件抵接，以冷却所述膜料承载件。
14、作为一种真空镀膜系统的优选方案，所述镀膜腔和所述搬运腔之间设置有真空阀门和旁通阀，所述旁通阀用于连通所述镀膜腔和所述搬运腔，所述膜料承载件能穿过所述真空阀门，所述真空阀门用于断开所述镀膜腔和所述搬运腔的连通。
15、一种真空镀膜方法，采用以上任一方案所述的真空镀膜系统，所述真空镀膜方法包括：
16、在所述搬运腔内向所述膜料承载件内注入镀膜原料；
17、输送所述膜料承载件，使所述承载位依次位于所述镀膜位进行镀膜；
18、镀膜的同时冷却所述膜料承载件。
19、本专利技术的有益效果为：
20、本专利技术通过设置镀膜腔，用于真空镀膜；通过设置搬运腔，用于盛放膜料承载件；通过设置输送装置，用于向镀膜腔输送和补充膜料承载件。具体地，膜料承载件上设置有多个承载位，用于承载更多的膜料，并通过输送装置依次将各个承载位输送至镀膜位镀膜，提高了一次输送的镀膜量和镀膜效率。另外，镀膜腔内还设置有冷却装置，用于对置于镀膜腔的膜料承载件进行冷却，一方面有效地避免对膜料承载件以及其他部件可能由于温度过高的损坏，提高了安全性；另一方面还保证了镀膜工艺的稳定性，进而提高了镀膜的效果。
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1.一种真空镀膜系统，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的真空镀膜系统，其特征在于，所述输送装置(2)包括设置于所述搬运腔(200)的直线模组(21)，所述直线模组(21)上设置有与所述膜料承载件(1)连接的推送件(22)，所述直线模组(21)能驱动所述推送件(22)移动。
3.根据权利要求2所述的真空镀膜系统，其特征在于，所述直线模组(21)包括直线驱动件(211)、直线导轨(212)和设置于所述直线导轨(212)上的滑块(213)，所述直线驱动件(211)能驱动所述滑块(213)在所述直线导轨(212)上移动，所述推送件(22)设置于所述滑块(213)上。
4.根据权利要求3所述的真空镀膜系统，其特征在于，所述输送装置(2)还包括支撑导轨(23)，所述支撑导轨(23)与所述直线导轨(212)的延伸方向相同，所述膜料承载件(1)滑动设置于所述支撑导轨(23)上。
5.根据权利要求4所述的真空镀膜系统，其特征在于，所述支撑导轨(23)上设置有调节导轮(231)，所述调节导轮(231)用于调节所述膜料承载件(1)的水平度。p>
6.根据权利要求2所述的真空镀膜系统，其特征在于，所述膜料承载件(1)上设置有定位孔(121)，所述推送件(22)上设置有插销(221)，所述插销(221)能置于所述定位孔(121)内。
7.根据权利要求1-6任一项所述的真空镀膜系统，其特征在于，所述冷却装置(3)包括镀膜位冷却机构(31)和非镀膜位冷却机构(32)，所述镀膜位冷却机构(31)用于冷却置于所述镀膜位(110)的所述承载位(11)，所述非镀膜位冷却机构(32)用于冷却经过所述镀膜位(110)的所述承载位(11)。
8.根据权利要求1-6任一项所述的真空镀膜系统，其特征在于，所述冷却装置(3)可升降设置，当所述冷却装置(3)与所述膜料承载件(1)抵接，以冷却所述膜料承载件(1)。
9.根据权利要求1-6任一项所述的真空镀膜系统，其特征在于，所述镀膜腔(100)和所述搬运腔(200)之间设置有真空阀门(300)和旁通阀，所述旁通阀用于连通所述镀膜腔(100)和所述搬运腔(200)，所述膜料承载件(1)能穿过所述真空阀门(300)，所述真空阀门(300)用于断开所述镀膜腔(100)和所述搬运腔(200)的连通。
10.一种真空镀膜方法，其特征在于，采用如权利要求1-9任一项所述的真空镀膜系统，所述真空镀膜方法包括：
...【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜系统，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的真空镀膜系统，其特征在于，所述输送装置(2)包括设置于所述搬运腔(200)的直线模组(21)，所述直线模组(21)上设置有与所述膜料承载件(1)连接的推送件(22)，所述直线模组(21)能驱动所述推送件(22)移动。
3.根据权利要求2所述的真空镀膜系统，其特征在于，所述直线模组(21)包括直线驱动件(211)、直线导轨(212)和设置于所述直线导轨(212)上的滑块(213)，所述直线驱动件(211)能驱动所述滑块(213)在所述直线导轨(212)上移动，所述推送件(22)设置于所述滑块(213)上。
4.根据权利要求3所述的真空镀膜系统，其特征在于，所述输送装置(2)还包括支撑导轨(23)，所述支撑导轨(23)与所述直线导轨(212)的延伸方向相同，所述膜料承载件(1)滑动设置于所述支撑导轨(23)上。
5.根据权利要求4所述的真空镀膜系统，其特征在于，所述支撑导轨(23)上设置有调节导轮(231)，所述调节导轮(231)用于调节所述膜料承载件(1)的水平度。
6.根据权利要求2所述的真空镀膜系统，其特征在于，所述膜料承载件(1...
【专利技术属性】
技术研发人员：黄永长，龙汝磊，吴萍，
申请(专利权)人：光驰科技上海有限公司，
类型：发明
国别省市：
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