一种用于石墨舟干法清洗的装置及使用方法制造方法及图纸

技术编号:40194742 阅读:31 留言:0更新日期:2024-01-26 23:57
本发明专利技术提供了一种用于石墨舟干法清洗的装置及使用方法,装置包括反应室,反应室具有用于容纳石墨舟的反应腔,反应腔内设有偏置电极板和线圈盒,线圈盒的底板为介质板,介质板上分布有多个第一匀气孔,线圈盒内空间构成线圈腔,线圈腔内设有电感耦合线圈,电感耦合线圈的投影区域覆盖石墨舟,反应室的顶盖上设有与线圈腔连通的第一进气管。本发明专利技术采用电感耦合线圈产生等离子源对石墨舟进行清洗,电感耦合线圈的投影区域完全覆盖石墨舟,使得等离子体反应作用范围大,而且分布均匀,可以实现对石墨舟表面均匀清洗。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及太阳能电池生产设备,具体而言,涉及一种用于石墨舟干法清洗的装置及使用方法


技术介绍

1、隧穿氧化硅钝化接触(topcon)电池是一种光伏晶硅电池,近年来,由于其高转换效率、低衰减性能、高量产性价比等明显优势,受到产业的广泛认可。从结构上来看,topcon是一种基于选择性载流子原理的隧穿氧化层钝化接触技术,其典型电池结构包括晶硅衬底,在晶硅衬底背面制备一层超薄氧化硅,然后再沉积一层掺杂硅薄层,二者共同形成了钝化接触结构,有效降低表面复合和金属接触复合。

2、目前,topcon太阳能电池的超薄氧化硅和掺杂多晶硅通常采用管式pecvd制备,生产过程需要用到晶硅电池片的承载物——石墨舟。在pecvd工艺制备过程中,石墨舟进入pecvd反应腔体内,其表面也会沉积氧化硅和掺杂多晶硅薄膜。而高掺杂多晶硅具有弱导电,当薄膜达到一定厚度,会对石墨舟上互为正负极的舟叶间电阻值产生影响,进入影响pecvd沉积反应生长速率,导致电池片生产工艺的稳定性下降。因此,石墨舟在使用过一段时间后,需要进行清洗处理,去除表面沉积的氧化硅和掺杂多晶硅材料。

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【技术保护点】

1.一种用于石墨舟干法清洗的装置,其特征在于,包括反应室(1),所述反应室(1)具有用于容纳石墨舟(8)的反应腔(11),所述反应腔(11)内设有至少一块偏置电极板(6),各所述偏置电极板(6)上设有用于支撑所述石墨舟(8)的绝缘块(61),所述反应室(1)包括顶盖(12),所述反应室(1)内设有线圈盒(2),所述顶盖(12)覆盖所述线圈盒(2)的顶部开口,所述顶盖(12)与所述线圈盒(2)的顶部密封连接,所述线圈盒(2)的侧壁与所述顶盖(12)密封连接,所述线圈盒(2)的底板为介质板(22),所述介质板(22)上分布有多个第一匀气孔(23),所述线圈盒(2)内空间构成线圈腔(21),所...

【技术特征摘要】

1.一种用于石墨舟干法清洗的装置,其特征在于,包括反应室(1),所述反应室(1)具有用于容纳石墨舟(8)的反应腔(11),所述反应腔(11)内设有至少一块偏置电极板(6),各所述偏置电极板(6)上设有用于支撑所述石墨舟(8)的绝缘块(61),所述反应室(1)包括顶盖(12),所述反应室(1)内设有线圈盒(2),所述顶盖(12)覆盖所述线圈盒(2)的顶部开口,所述顶盖(12)与所述线圈盒(2)的顶部密封连接,所述线圈盒(2)的侧壁与所述顶盖(12)密封连接,所述线圈盒(2)的底板为介质板(22),所述介质板(22)上分布有多个第一匀气孔(23),所述线圈盒(2)内空间构成线圈腔(21),所述线圈腔(21)内设有电感耦合线圈(3),所述电感耦合线圈(3)的投影区域覆盖所述石墨舟(8),所述顶盖(12)上设有与所述线圈腔(21)连通的第一进气管(51)。

2.根据权利要求1所述的用于石墨舟干法清洗的装置,其特征在于,所述反应室(1)内设有排气导气部件(7),所述排气导气部件(7)设置在所述偏置电极板(6)的下方,所述排气导气部件(7)上设有多个开口朝上的排气口(71),所述排气导气部件(7)的投影区域覆盖所述石墨舟(8),所述排气导气部件(7)与设置在所述反应室(1)的外部的真空装置(72)连接。

3.根据权利要求1或2所述的用于石墨舟干法清洗的装置,其特征在于,所述线圈盒(2)的材质为低介电系数且不会与反应气体发生反应的材料。

4.根据权利要求1或2所述的用于石墨舟干法清洗的装置,其特征在于,所述电感耦合线圈(3)的布线结构选自两端电极闭合的回字螺旋结构、两端电极闭合的蛇形结构、两端电极不闭合的梳齿形结构中的一种,所述电感耦合线圈(3)中相邻的平行线之间的距离为10~200mm。

5.根据权利要求1或2所述的用于石墨舟干法清洗的装置,其特征在于,所述偏置电极板(6)设置在所述反应室(1)的底部,所述偏置电极板(6)与所述反应室(1)的腔壁绝缘,所述偏置电极板(6)的馈入电源选自恒压直流电源、脉冲直流电源、1khz~40khz中频电源中的一种。

6.根据权利要求1或2所述的用于石墨舟干法清洗的装置,其特征在于,所述反应室(1)内设有匀气盒(4),所述顶盖(12)覆盖所述匀气盒(4)的顶部开口,所述匀气盒(4)的侧壁与所述顶盖(12)密封连接,所述匀气盒(4)的底板为匀气板(42),所述匀气板(42)上分布有多个第二匀气孔(43),所述匀气盒(4)内空间...

【专利技术属性】
技术研发人员:袁刚黄如伟夏庆锋
申请(专利权)人:中科研和宁波科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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