晶片的外观检查装置和晶片的外观检查方法制造方法及图纸

晶片的外观检查装置10具备控制部12，控制部12生成包括将晶片面沿圆周方向分为多个区域进行拍摄的部分图像41～45的晶片面的多个整体图像40，基于多个整体图像40来生成平均图像50，基于平均图像50来检测晶片面的异常。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本公开涉及一种晶片的外观检查装置和晶片的外观检查方法。

技术介绍

1、以往，已知检测并评价研磨不均、模糊、划痕和粒子的晶片背面的评价方法(例如参照专利文献1等)。

2、现有技术文献

3、专利文献

4、专利文献1：日本特许第5433201号公报

技术实现思路

1、专利技术要解决的课题

2、与裸片中的不良相比，对裸片成膜后的晶片(带膜晶片)的成膜面中的不良由于附着在晶片上的膜的影响更难以检测。要求通过检测晶片的成膜面中的不良来提高带膜晶片的品质。

3、因此，本公开的目的在于提出一种能够提高带膜晶片的品质的晶片的外观检查装置和晶片的外观检查方法。

4、用于解决课题的方案

5、解决上述课题的本公开的一个实施方式如下。

6、一种外观检查装置，其中，具备控制部，所述控制部生成包括将晶片面沿圆周方向分为多个区域进行拍摄的部分图像的所述晶片面的多个整体图像，基于所述多个整体图像来生成平均图像，基于所述平均图像来检测所述晶片面的异常本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种外观检查装置，其中，具备控制部，所述控制部生成包括将晶片面沿圆周方向分为多个区域进行拍摄的部分图像的所述晶片面的多个整体图像，基于所述多个整体图像来生成平均图像，基于所述平均图像来检测所述晶片面的异常。

2.根据权利要求1所述的外观检查装置，其中，所述控制部基于以不同亮度拍摄的所述部分图像来分别生成所述多个整体图像。

3.根据权利要求1或2所述的外观检查装置，其中，所述控制部基于取得了所述平均图像与所述整体图像的差分的差分图像来检测所述晶片面的异常。

4.根据权利要求3所述的外观检查装置，其中，所述控制部提取在所述差分图像中亮度为第一阈值以上的...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种外观检查装置，其中，具备控制部，所述控制部生成包括将晶片面沿圆周方向分为多个区域进行拍摄的部分图像的所述晶片面的多个整体图像，基于所述多个整体图像来生成平均图像，基于所述平均图像来检测所述晶片面的异常。

2.根据权利要求1所述的外观检查装置，其中，所述控制部基于以不同亮度拍摄的所述部分图像来分别生成所述多个整体图像。

3.根据权利要求1或2所述的外观检查装置，其中，所述控制部基于取得了所述平均图像与所述整体图像的差分的差分图像来检测所述晶片面的异常。

4.根据权利要求3所述的外观检查装置，其中，所述控制部提取在所述差分图像中亮度为第一阈值以上的像素作为检测候补像素，从所述检...

【专利技术属性】
技术研发人员：长田达弥，
申请(专利权)人：胜高股份有限公司，
类型：发明
国别省市：