【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种使用光来进行测定对象的分析的光学分析装置。
技术介绍
1、在半导体的清洗工序中，有通过近红外吸光法对清洗晶圆的化学液等流体进行浓度管理的装置。关于流体的测量，有从管道之外进行测量的方法和成为管道的一部分来进行测量的方法(参考专利文献1、专利文献2)。
2、图9为表示专利文献1中揭示的工艺流水线的构成的图。图9中展示了半导体的清洗工序中使用的湿法清洗站。湿法清洗站具备再循环管，所述再循环管由经由特氟隆(注册商标)管100在闭合回路内连接在一起的槽罐101、过滤器102以及泵103构成。槽罐101能够保持清洗溶液、排出溶液或者刻蚀溶液之类的各种流体。
3、透光装置104将从光缆105的末端出射的红外线光束或近红外线光束之类的光束照射至特氟隆管100，并将透过特氟隆管100之后的光经由光缆106引导至受光传感器(未图示)。由此，例如能实现用于测定在特氟隆管100内循环的流体的化学组成或特性等的光谱测定。
4、图10为表示专利文献2中揭示的半导体制造系统用分析装置的构成的图。半导体制造系统用分析装置具备对试样进行收纳的石英玻璃制试样池200、装置主体201、以及连接试样池200与装置主体201的光纤202、203。例如，将试样池200配置于供用于半导体晶圆w的清洗的各种清洗液体等流动的管道部204上，从而能在管线内实施清洗液体等的浓度管理。
5、从装置主体201的光源205出射的光源光经由光纤202和透镜208照射至试样池200。光检测器206经由透镜209和光纤203来
6、现有技术的构成存在难以根据安装测量部(图9的例子中为透光装置104，图10的例子中为透镜208、209的部分)的管道的直径来实现最佳的光学系统这一问题。具体而言，对于入射至管道300的光源光301而言，管道300的曲面会起到透镜一样的作用，在像图11a的例子那样管道300的直径大的情况和像图11b的例子那样管道300的直径小的情况下，入射至管道后方的受光部302(图9的例子中为光缆106的入射端，图10的例子中为光纤203的入射端)的光的强度会发生变化。
7、当入射至受光部302的光的强度发生变化时，会对在管道300内流动的流体的浓度的测定精度造成不良影响。要纠正该问题，便需要根据管道300来优化测量部的光学系统。
8、现有技术文献
9、专利文献
10、专利文献1：日本专利第4414223号公报
11、专利文献2：日本专利特开2008-164487号公报
技术实现思路
1、专利技术要解决的问题
2、本专利技术是为了解决上述问题而成，其目的在于提供一种能与管道的直径无关地对接收透过管道之后的光的受光部处的光量进行优化的光学分析装置。
3、解决问题的技术手段
4、本专利技术的光学分析装置的特征在于，具备：测量部，其构成为将来自第1光纤的光源光照射至供测定对象流动的管道，并将透过所述管道之后的光引导至第2光纤；光源部，其构成为经由所述第1光纤对所述测量部放出所述光源光；光检测部，其构成为经由所述第2光纤来接收透过所述管道之后的光；以及所述第1光纤、所述第2光纤，所述测量部由配接器和支架构成，所述配接器形成有与所述管道的直径相对应的直径的握持孔，构成为对所述握持孔内插入的管道进行握持，所述支架构成为能更换自如地固定分别对应于不同直径的所述管道的多个所述配接器中的1个，所述配接器具有以下功能：将来自所述第1光纤的光源光照射至被插入所述握持孔内的所述管道，并将透过所述管道之后的光加以会聚而引导至所述第2光纤。
5、专利技术的效果
6、根据本专利技术，准备分别对应于直径不同的管道的各种配接器，并使配接器具有将来自第1光纤的光源光照射至管道并将透过管道之后的光引导至第2光纤的功能，由此，能够减轻管道的直径的差异造成的影响，从而能与管道的直径无关地对接收透过管道之后的光的受光部(第2光纤的入射端)处的光强度进行优化。
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1.一种光学分析装置，其特征在于，具备：
2.根据权利要求1所述的光学分析装置，其特征在于，
3.根据权利要求1所述的光学分析装置，其特征在于，
4.根据权利要求1至3中任一项所述的光学分析装置，其特征在于，
5.根据权利要求1至4中任一项所述的光学分析装置，其特征在于，
6.根据权利要求1至5中任一项所述的光学分析装置，其特征在于，
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种光学分析装置，其特征在于，具备：
2.根据权利要求1所述的光学分析装置，其特征在于，
3.根据权利要求1所述的光学分析装置，其特征在于，
4.根据权利要求...
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