【技术实现步骤摘要】
本公开涉及光机械设备，尤其涉及一种形变矫正装置。
技术介绍
1、微纳制造技术在力求提高产品成品率的同时，进一步降低微纳结构的最小特征尺寸，这就对掩模版上图形特征的尺寸和线宽提出了更高的要求。
2、随着光刻工艺所需要的掩模版线宽或位置精度要求越来越高，对这些精度的控制要求也非常高。掩模版受到加工装夹差异及环境温度(加工、运输、实验温度不一致)等因素的影响，掩模版图形在1ppm范围内随机形变。目前通常采用一种主动控制的方式，即通过在掩模版边缘施加可控力，或者在掩模版上施加可控能量，抵消掩模版工艺变形，以此主动控制掩模版本身变形。
3、现有技术主要存在以下缺点：其一，掩模版矫正通常采用气缸作为输入单元，其输出力分辨率、重复精度低，无法满足掩模版的精密控制要求；其二，掩模版矫正通常情况下采用十六路单元进行矫正，矫正精度及矫正力存在欠缺；其三，铰链系统在受到装置环控系统气浴影响，容易产生多点涡流从而导致掩模版产生低频共振，另外整机装置运行过程中产生的颗粒，也易于从掩模上方掉落到晶圆上，对后面加工出的图形造成影响。
<...【技术保护点】
1.一种形变矫正装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述矫正单元包括：
3.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述铰链结构还包括：
4.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述驱动电机为压电电机。
5.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述球头堵块和所述铰链单元内设有垂直于所述驱动电机的力输出方向的凹槽，所述导向球头卡设在所述凹槽中，所述凹槽的截面为梯形。
6.根据权利要求3所述的装置，其特征在于，铰链结构还包括：
7.根据权利要求2所述的装置，其特征在于...
【技术特征摘要】
1.一种形变矫正装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述矫正单元包括：
3.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述铰链结构还包括：
4.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述驱动电机为压电电机。
5.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述球头堵块和所述铰链单元内设有垂直于所述驱动电机的力输出方向的凹槽，所述导向球头卡设在所述凹槽中，所述凹槽的截面为梯形。
6.根据权利要求3...
【专利技术属性】
技术研发人员：罗先刚，刘明刚，李成文利，孙云卿，武智朋，陈小安，王长涛，
申请(专利权)人：中国科学院光电技术研究所，
类型：发明
国别省市：
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