【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及陶瓷膜产品，尤其涉及一种陶瓷膜支撑体预处理系统及预处理方法。
技术介绍
1、陶瓷膜(ceramic membrane)又称无机陶瓷膜，是以无机陶瓷材料经特殊工艺制备而形成的非对称膜。
2、目前在陶瓷膜的生产过程中，陶瓷膜支撑体经过烧结后会进行切割成规定的尺寸，切割完成后用吹尘枪进行清理，之后进行镀膜处理，镀膜完成后再次进行烧结，从而制备出陶瓷膜产品。
3、一方面，陶瓷膜支撑体烧结完成后，由于支撑体表面及内部存在许多微小孔隙（微米级~纳米级），这导致切割产生的粉尘以及空气中的粉尘、杂质会吸附在孔隙中。虽然可以采用吹尘枪进行吹扫处理，但由于支撑体孔径小同时粉尘之间存在静电作用，附着于孔隙的粉尘、杂质仍然无法完全的去除，致使支撑体表面始终会附着一层粉尘、杂质，这也就导致镀膜时膜层与支撑体无法紧密的结合，膜层均匀性下降，可能出现膜层脱落等情况，影响镀膜质量，最终使陶瓷膜支撑体产品过滤能力及使用寿命下降。
4、另一方面，陶瓷膜支撑体切割产生的大部分粉尘虽然可以通过收尘器抽走，但仍然残留较多的粉尘在空气中，对人的身体以及环境造成损害。
技术实现思路
1、本专利技术为解决现有陶瓷膜支撑体处理方式不能有效去除陶瓷膜支撑体表面附着的粉尘等的问题，提供一种陶瓷膜支撑体预处理系统及预处理方法。本专利技术主要通过等离子中和静电、高频震动和气流扰动等技术手段，清除附着在陶瓷膜支撑体表面的粉尘，陶瓷膜支撑体的预处理效果较好，从而保证了镀膜质量，使得陶瓷膜产品的
2、本专利技术采用的技术方案是：
3、一种陶瓷膜支撑体预处理系统，包括：
4、切割单元，所述切割单元具有切割机构；所述切割机构主要用于陶瓷膜支撑体的切割；
5、除尘单元，所述除尘单元具有除尘机构；所述除尘机构主要通过等离子中和静电、高频震动和气流扰动清除附着在由所述切割单元完成切割的陶瓷膜支撑体的表面的粉尘。
6、进一步地，所述除尘单元还包括第二屏蔽舱和两条第二传送带；所述第二屏蔽舱相对的两侧对应开设有第二舱进口和第二舱出口，并在所述第二舱进口和所述第二舱出口上设置有挡尘帘；在所述第二屏蔽舱顶部还开设有第三排尘口，并与第二抽尘设备和第二捕尘设备连接；所述除尘机构设置于所述第二屏蔽舱内；两条所述第二传送带平行布置，并大致位于同一水平面内；所述第二传送带还穿过所述除尘机构，两端延伸至所述第二舱进口和所述第二舱出口附近。
7、进一步地，在所述第二屏蔽舱的后侧壁上设有第二中空夹层，所述第二中空夹层与所述第二抽尘设备和所述第二捕尘设备连接；在所述第二中空夹层上还设有第四排尘口；所述除尘机构邻近所述第二中空夹层。
8、进一步地，所述除尘机构包括：
9、上等离子清洗板；
10、下等离子清洗板，所述下等离子清洗板与所述上等离子清洗板上下平行对应设置；所述上等离子清洗板和所述下等离子清洗板主要用于使得两者之间的空气受高压电场作用而等离子化，形成等离子；
11、前超声波震荡发射器，所述前超声波震荡发射器位于所述上等离子清洗板和所述下等离子清洗板之间合围区域的前侧；
12、后超声波震荡发射器，所述后超声波震荡发射器位于所述上等离子清洗板和所述下等离子清洗板之间合围区域的后侧；所述后超声波震荡发射器和所述前超声波震荡发射器的位置上下错开；所述前超声波震荡发射器和所述后超声波震荡发射器主要用于使得空气产生高频震动；
13、气洗件，所述气洗件位于所述上等离子清洗板和所述下等离子清洗板之间合围区域的前后两侧上下方或者一侧上下方；所述气洗件主要用于产生气流扰动；
14、其中，所述上等离子清洗板和所述下等离子清洗板以及所述前超声波震荡发射器和所述后超声波震荡发射器之间的区域即为等离子震荡清洗区域；切割后的陶瓷膜支撑体沿平行于所述上等离子清洗板的方向进入所述等离子震荡清洗区域内，由等离子中和粉尘静电，同时在高频震动的空气以及气流扰动下，粉尘从陶瓷膜支撑体表面分离，完成除尘。
15、进一步地，所述上等离子清洗板和所述下等离子清洗板分别与进入所述等离子震荡清洗区域的陶瓷膜支撑体表面之间的距离l0为30~50cm；
16、和/或，所述前超声波震荡发射器的上端位置低于所述上等离子清洗板的位置，倾斜朝向所述等离子震荡清洗区域内，与竖直方向的夹角α为10~30°；所述前超声波震荡发射器的下端与陶瓷膜支撑体表面的距离l1为5~15cm；
17、和/或，所述后超声波震荡发射器的下端位置高于所述下等离子清洗板的位置，倾斜朝向所述等离子震荡清洗区域内，与竖直方向的夹角β为10~30°；所述前超声波震荡发射器的上端与陶瓷膜支撑体表面的距离l2为5~15cm。
18、进一步地，所述切割单元还包括第一屏蔽舱和两条第一传送带；所述第一屏蔽舱相对的两侧对应开设有第一舱进口和第一舱出口，并在所述第一舱进口和所述第一舱出口上设置有挡尘帘；在所述第一屏蔽舱顶部还开设有第一排尘口，并与第一抽尘设备和第一捕尘设备连接；所述切割机构设置于所述第一屏蔽舱内；两条所述第一传送带平行布置，并大致位于同一水平面内；所述第一传送带还穿过所述切割机构，两端延伸至所述第一舱进口和所述第一舱出口附近。
19、进一步地，在所述第二屏蔽舱的后侧壁上设有第一中空夹层，所述第一中空夹层与所述第一抽尘设备和所述一捕尘设备连接；在所述第一中空夹层上还设有第二排尘口；所述切割机构邻近所述第一中空夹层。
20、进一步地，所述切割机构包括：
21、第一工作架，所述第一工作架沿所述第一传送带的传送方向布置；所述第一传送带位于所述第一工作架的顶部；
22、门字形的第一滑动座，所述第一滑动座的两端设置于所述第一工作架的顶部前后两边，并可沿着所述第一工作架的顶部来回往复滑动；在所述第一滑动座上还设升降压杆；所述升降压杆的升降方向大致垂直朝向所述第一传送带的传送方向；
23、门字形的第二滑动座，所述第二滑动座的一端设置于所述第一滑动座的顶部，并可沿着所述第一滑动座的顶部来回往复滑动；
24、门字形的第三滑动座，所述第三滑动座位于所述第一滑动座的下方；所述第三滑动座的两端设置于所述第一工作架的顶部下方前后两边，并可沿着所述第一工作架的顶部来回往复滑动；
25、第一升降座，素数第一升降座设置于所述第二滑动座的自由端上，其伸缩方向大致垂直朝向所述第一传送带的传送方向；
26、切割电机，所述切割电机设置于所述第一升降座的下端上，且所述切割电机的锯片所在面大致与所述第二滑动座所在面平行；
27、第二升降座，所述第二升降座设置于所述第三滑动座上，其伸缩方向大致垂直朝向所述第一传送带的传送方向；
28、支撑板，所述支撑板大致沿平行于所述第一传送带的方向设置于所述第二升降座的顶部，并位于两条所述第一传送带之间。
29、进一步本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种陶瓷膜支撑体预处理系统，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的陶瓷膜支撑体预处理系统，其特征在于，所述除尘单元还包括第二屏蔽舱和两条第二传送带；所述第二屏蔽舱相对的两侧对应开设有第二舱进口和第二舱出口，并在所述第二舱进口和所述第二舱出口上设置有挡尘帘；在所述第二屏蔽舱顶部还开设有第三排尘口，并与第二抽尘设备和第二捕尘设备连接；所述除尘机构设置于所述第二屏蔽舱内；两条所述第二传送带平行布置，并大致位于同一水平面内；所述第二传送带还穿过所述除尘机构，两端延伸至所述第二舱进口和所述第二舱出口附近。
3.根据权利要求2所述的陶瓷膜支撑体预处理系统，其特征在于，在所述第二屏蔽舱的后侧壁上设有第二中空夹层，所述第二中空夹层与所述第二抽尘设备和所述第二捕尘设备连接；在所述第二中空夹层上还设有第四排尘口；所述除尘机构邻近所述第二中空夹层。
4.根据权利要求1所述的种陶瓷膜支撑体预处理系统，其特征在于，所述除尘机构包括：
5.根据权利要求4所述的陶瓷膜支撑体预处理系统，其特征在于，所述上等离子清洗板和所述下等离子清洗板分别与进入所述等离
6.根据权利要求1~5中任意一项所述的种陶瓷膜支撑体预处理系统，其特征在于，所述切割单元还包括第一屏蔽舱和两条第一传送带；所述第一屏蔽舱相对的两侧对应开设有第一舱进口和第一舱出口，并在所述第一舱进口和所述第一舱出口上设置有挡尘帘；在所述第一屏蔽舱顶部还开设有第一排尘口，并与第一抽尘设备和第一捕尘设备连接；所述切割机构设置于所述第一屏蔽舱内；两条所述第一传送带平行布置，并大致位于同一水平面内；所述第一传送带还穿过所述切割机构，两端延伸至所述第一舱进口和所述第一舱出口附近。
7.根据权利要求6所述的陶瓷膜支撑体预处理系统，其特征在于，在所述第二屏蔽舱的后侧壁上设有第一中空夹层，所述第一中空夹层与所述第一抽尘设备和所述一捕尘设备连接；在所述第一中空夹层上还设有第二排尘口；所述切割机构邻近所述第一中空夹层。
8.根据权利要求6中所述的种陶瓷膜支撑体预处理系统，其特征在于，所述切割机构包括：
9.根据权利要求8所述的陶瓷膜支撑体预处理系统，其特征在于，所述支撑板的长度为陶瓷膜支撑体的长度的3/2~4/5，且所述支撑板与所述第二升降座的连接点位于所述支撑板的长度的1/4~1/3处；以所述支撑板与所述第二升降座的连接点为分界点，所述支撑板上长度较短的一部分主要为切割支撑部分，长度较长的一部分主要为托起部分。
10.一种陶瓷膜支撑体预处理方法，基于权利要求1~9中任意一项所述的陶瓷膜支撑体预处理系统得以实施，其特征在于，包括以下步骤：
...【技术特征摘要】
1.一种陶瓷膜支撑体预处理系统，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的陶瓷膜支撑体预处理系统，其特征在于，所述除尘单元还包括第二屏蔽舱和两条第二传送带；所述第二屏蔽舱相对的两侧对应开设有第二舱进口和第二舱出口，并在所述第二舱进口和所述第二舱出口上设置有挡尘帘；在所述第二屏蔽舱顶部还开设有第三排尘口，并与第二抽尘设备和第二捕尘设备连接；所述除尘机构设置于所述第二屏蔽舱内；两条所述第二传送带平行布置，并大致位于同一水平面内；所述第二传送带还穿过所述除尘机构，两端延伸至所述第二舱进口和所述第二舱出口附近。
3.根据权利要求2所述的陶瓷膜支撑体预处理系统，其特征在于，在所述第二屏蔽舱的后侧壁上设有第二中空夹层，所述第二中空夹层与所述第二抽尘设备和所述第二捕尘设备连接；在所述第二中空夹层上还设有第四排尘口；所述除尘机构邻近所述第二中空夹层。
4.根据权利要求1所述的种陶瓷膜支撑体预处理系统，其特征在于，所述除尘机构包括：
5.根据权利要求4所述的陶瓷膜支撑体预处理系统，其特征在于，所述上等离子清洗板和所述下等离子清洗板分别与进入所述等离子震荡清洗区域的陶瓷膜支撑体表面之间的距离l0为30~50cm；
6.根据权利要求1~5中任意一项所述的种陶瓷膜支撑体预处理系统，其特征在于，所述切割单元还包括第一屏蔽舱和两...
【专利技术属性】
技术研发人员：彭文钢，徐国梁，刘小松，胡黎明，
申请(专利权)人：巴中优渥新材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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