一种LED芯片制造技术

技术编号:40155342 阅读:11 留言:0更新日期:2024-01-26 23:31
本技术提供一种LED芯片,包括衬底、设于衬底上的外延结构、依次设于外延结构上的第一电流阻挡层,及透明导电层,LED芯片还包括设于透明导电层一侧的电极结构,及设于电极结构与透明导电层之间的第二电流阻挡层,第二电流阻挡层包括叠层结构,叠层结构包括若干个交错层叠设置的第一材料层及第二材料层,第一材料层与第二材料层的截面长度差满足预设范围,第二电流阻挡层的截面呈锯齿状。通过在电极下方制备叠层设置的第二电流阻挡层,制备过程中可以利用第一材料层及第二材料层在湿法刻蚀中的刻蚀速率差异,形成锯齿状结构,由于锯齿状结构的存在,可有效增加电极结构的稳定,防止撕金现象的出现,从而提高产品良率。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及半导体,特别涉及一种led芯片。


技术介绍

1、led具有将电转化为光的特性,使用范围非常广。其核心部件为一个半导体晶片,led封装是将led晶片与基板通过金线键合连接。

2、现有技术当中,键合工艺中,焊线不良问题在led失效模式中占有很大比例,是led的重要失效模式。因此在led出货前需对其进行可靠性验证,需对金线焊接后的参数是否达到标准进行测试。其中对led芯片进行推拉力的评估是led产品性能评估重要的一环,在常规的产品中,推球后芯片p电极容易脱落,最终导致推力不合格甚至出现撕金现象,因此提升电极稳定是提升led可靠性中的一项重要环节。


技术实现思路

1、针对现有技术的不足,本技术的目的在于提供一种led芯片,旨在解决现有技术中,电极的稳定性较差,导致产品良率不佳的技术问题。

2、为了实现上述目的,本技术是通过如下技术方案来实现的:一种led芯片,其特征在于,包括衬底、设于所述衬底上的外延结构、及依次设于所述外延结构上的第一电流阻挡层,及透明导电层,所述led芯片还包括设于所述透明导电层一侧的电极结构,及设于所述电极结构与所述透明导电层之间的第二电流阻挡层,所述第二电流阻挡层包括叠层结构,所述叠层结构包括若干个交错层叠设置的第一材料层及第二材料层,所述第一材料层与所述第二材料层的截面长度差满足预设范围,所述第二电流阻挡层的截面呈锯齿状。

3、与现有技术相比,本技术的有益效果在于:通过在电极下方制备叠层设置的第二电流阻挡层,制备过程中可以利用第一材料层及第二材料层在湿法刻蚀中的刻蚀速率差异,形成锯齿状结构,由于锯齿状结构的存在,可有效增加电极结构的稳定,在推拉力测试过程中将有效提升推力值,防止撕金现象的出现,从而提高产品良率。

4、根据上述技术方案的一方面,所述叠层结构包括若干个间隔设置的第一材料层,各所述第一材料层的边缘一侧位于同一平面上,且各所述第一材料层的边缘面呈倾斜设置。

5、根据上述技术方案的一方面,所述第一材料层的边缘与所述衬底的底面的夹角为110°-130°。

6、根据上述技术方案的一方面,所述第一材料层的截面长度大于所述第二材料层的截面长度,所述预设范围为70nm-100nm。

7、根据上述技术方案的一方面,所述第一材料层为氧化硅层,所述第二材料层为氮化硅层。

8、根据上述技术方案的一方面,所述第一材料层的厚度m1及所述第二材料层的厚度m2分别满足:

9、60nm>m1>40nm;

10、60nm>m2>40nm。

11、根据上述技术方案的一方面,所述第一电流阻挡层由氧化硅制成,所述第一电流阻挡层的厚度m3满足:

12、280nm>m3>320nm。

13、根据上述技术方案的一方面,所述电极结构为cr/al/ti/ni/pt/ni/pt/au层。

14、根据上述技术方案的一方面,所述透明导电层为ito层,所述ito层的厚度m4满足:50nm>m4>70nm。

15、根据上述技术方案的一方面,所述led芯片还包括设于所述电极结构表面的钝化层。

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【技术保护点】

1.一种LED芯片,其特征在于,包括衬底、设于所述衬底上的外延结构、及依次设于所述外延结构上的第一电流阻挡层,及透明导电层,所述LED芯片还包括设于所述透明导电层一侧的电极结构,及设于所述电极结构与所述透明导电层之间的第二电流阻挡层,所述第二电流阻挡层包括叠层结构,所述叠层结构包括若干个交错层叠设置的第一材料层及第二材料层,所述第一材料层与所述第二材料层的截面长度差满足预设范围,所述第二电流阻挡层的截面呈锯齿状。

2.根据权利要求1所述的LED芯片,其特征在于,所述叠层结构包括若干个间隔设置的第一材料层,各所述第一材料层的边缘一侧位于同一平面上,且各所述第一材料层的边缘面呈倾斜设置。

3.根据权利要求2所述的LED芯片,其特征在于,所述第一材料层的边缘与所述衬底的底面的夹角为110°-130°。

4.根据权利要求1所述的LED芯片,其特征在于,所述第一材料层的截面长度大于所述第二材料层的截面长度,所述预设范围为70nm-100nm。

5.根据权利要求1所述的LED芯片,其特征在于,所述第一材料层为氧化硅层,所述第二材料层为氮化硅层。

6.根据权利要求1所述的LED芯片,其特征在于,所述第一材料层的厚度M1及所述第二材料层的厚度M2分别满足:

7.根据权利要求1所述的LED芯片,其特征在于,所述第一电流阻挡层由氧化硅制成,所述第一电流阻挡层的厚度M3满足:

8.根据权利要求1所述的LED芯片,其特征在于,所述电极结构为Cr/Al/Ti/Ni/Pt/Ni/Pt/Au层。

9.根据权利要求1所述的LED芯片,其特征在于,所述透明导电层为ITO层,所述ITO层的厚度M4满足:50nm>M4>70nm。

10.根据权利要求1-9任一项所述的LED芯片,其特征在于,所述LED芯片还包括设于所述电极结构表面的钝化层。

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【技术特征摘要】

1.一种led芯片,其特征在于,包括衬底、设于所述衬底上的外延结构、及依次设于所述外延结构上的第一电流阻挡层,及透明导电层,所述led芯片还包括设于所述透明导电层一侧的电极结构,及设于所述电极结构与所述透明导电层之间的第二电流阻挡层,所述第二电流阻挡层包括叠层结构,所述叠层结构包括若干个交错层叠设置的第一材料层及第二材料层,所述第一材料层与所述第二材料层的截面长度差满足预设范围,所述第二电流阻挡层的截面呈锯齿状。

2.根据权利要求1所述的led芯片,其特征在于,所述叠层结构包括若干个间隔设置的第一材料层,各所述第一材料层的边缘一侧位于同一平面上,且各所述第一材料层的边缘面呈倾斜设置。

3.根据权利要求2所述的led芯片,其特征在于,所述第一材料层的边缘与所述衬底的底面的夹角为110°-130°。

4.根据权利要求1所述的led芯片,其特征在于,所述第一材料层的截面长度大于...

【专利技术属性】
技术研发人员:周志兵张星星林潇雄胡加辉金从龙
申请(专利权)人:江西兆驰半导体有限公司
类型:新型
国别省市:

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