【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于光学精密测量
，涉及光纤点衍射移相干涉仪上的平面面形测 量方法，能够实现光学平面的全面形高精度测量。
技术介绍
平面光学元件在光学系统中应用极为广泛，其平面度通常在一个波长以下。平面 元件一般采用光干涉方法测量其平面度，测量时需要一个标准的参考平面作为平面基准。 通常的干涉仪使用光学加工制造出的标准平板作为参考平面，总是存在着一定的面形误 差，因而限制了干涉仪测量平面面形的准确度。当前干涉仪平面面形的测量准确度只能达 到入/20 为光波长，值为632. 8nm)，远不能满足超精密加工及紫外光刻等前沿 技术研究的需求。因此，寻找高精度的参考平面便成了提高干涉法平面面形测量精度的关键问题。Lord Rayleigh最早提出使用液体平面代替干涉仪的参考面，作为干涉测量的平 面基准。液体平面基本上具有与地球表面相等的曲率半径，用液面作为基准参考面是很理 想的，但液面易受干扰，机械震动、灰尘影响、温度梯度、静电荷分子引力作用、外界磁场作 用以及液体的自身不均勻性都会使液面曲率发生变化，同时使用液面作为干涉基准平面 时，被测光学平面必须水平夹持，这样由于...
【技术保护点】
一种光纤点衍射移相干涉仪的平面面形测量方法，其特征在于包括以下步骤：第一步，部署一套测量装置，包括：分光系统、测量光纤（１４）、辅助正透镜（１５）、被测平面镜（１６）、参考光纤（１８）、成像镜头（１９）、ＣＣＤ摄像机（２０）、计算机（２１）；其中，分光系统包括激光器（１）、可调中性密度滤光片（２）、１／２波片（３）、偏振分束棱镜（４）、第一直角棱镜（５）、第二直角棱镜（６）、第一１／４波片（７）、第二１／４波片（８）、压电陶瓷（９）、第一偏振片（１０）、第二偏振片（１１）、第（１４）的衍射波前在被测平面镜（１６）的入射角度进行逐点校正，得到被测平面镜的面形结果；面形获取方法...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：陈凌峰，李杰，周桃庚，张旭升，何川，任雅青，
申请(专利权)人：北京理工大学，
类型：发明
国别省市：11[中国|北京]
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