卷绕式双面镀膜设备制造技术

本技术公开了卷绕式双面镀膜设备，包括：第一镀膜室以及第二镀膜室，第一镀膜室以及第二镀膜室内均具有多个镀膜鼓，各镀膜鼓分别设置有与其相对的镀膜源；送料部，与第一镀膜室以及第二镀膜室中的其中一个相连，并室送出基材；收料部，与第一镀膜室以及第二镀膜室中的另外一个相连，并收纳双面均被镀膜的基材。基材从送料部开始依次经由第一镀膜室中的多个镀膜鼓以及第二镀膜室中的多个镀膜鼓并在收料部被收卷。或者，基材从送料部开始，依次经由第二镀膜室中的多个镀膜鼓以及第一镀膜室中的多个镀膜鼓并在收料部被收卷。本技术的卷绕式双面镀膜设备能够提高基材的膜层的厚度。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及真空镀膜设备，尤其涉及卷绕式双面镀膜设备。

技术介绍

1、卷绕式镀膜设备是在真空室内对作为卷料的基材的表面进行镀膜，从而在基材的表面制备具有一定功能的薄膜的设备。

2、现有技术当中，存在例如卷绕式的往返双面蒸镀镀膜设备，在这种镀膜设备当中，包括一个收卷轮以及一个放卷轮、处在收卷轮以及放卷轮之间的两个主辊，一个主辊匹配有一个镀膜源(蒸发源)。其中一个主辊和一个镀膜源一起以实现对基材的一面进行镀膜，另外一个主辊和另外一个镀膜源一起以实现对基材的另一面进行镀膜。

3、在现有的这种卷绕式的双眸镀膜设备当中，虽然实现了对基材的双面进行镀膜，但是对于单面镀膜的膜层来说，仍然存在膜层的厚度较薄的技术问题。

技术实现思路

1、本技术旨在至少一定程度上解决现有技术问题之一。为此，本技术提出了卷绕式双面镀膜设备，能够提高基材的膜层的厚度。

2、根据本技术一方面的卷绕式双面镀膜设备，用于对基材的双面进行镀膜，包括：第一镀膜室以及第二镀膜室，所述第二镀膜室设置在所述第一镀膜室的下方并与所本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.卷绕式双面镀膜设备，用于对基材的双面进行镀膜，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的卷绕式双面镀膜设备，其特征在于，所述镀膜源分别设置在与其相对的所述镀膜鼓的下方。

3.根据权利要求1或2所述的卷绕式双面镀膜设备，其特征在于，所述第一镀膜室的多个所述镀膜源当中，包括至少一组磁控溅射镀膜源和至少一组选自电子束镀膜源以及热蒸镀镀膜源中的镀膜源；

4.根据权利要求3所述的卷绕式双面镀膜设备，其特征在于，所述磁控溅射镀膜源和选自所述电子束镀膜源以及所述热蒸镀镀膜源中的镀膜源，在所述第一镀膜室中，沿所述基材的传输方向，交替地设置。</p>

5.根据...

【技术特征摘要】

1.卷绕式双面镀膜设备，用于对基材的双面进行镀膜，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的卷绕式双面镀膜设备，其特征在于，所述镀膜源分别设置在与其相对的所述镀膜鼓的下方。

3.根据权利要求1或2所述的卷绕式双面镀膜设备，其特征在于，所述第一镀膜室的多个所述镀膜源当中，包括至少一组磁控溅射镀膜源和至少一组选自电子束镀膜源以及热蒸镀镀膜源中的镀膜源；

4.根据权利要求3所述的卷绕式双面镀膜设备，其特征在于，所述磁控溅射镀膜源和选自所述电子束镀膜源以及所述热蒸镀镀膜源中的镀膜源，在所述第一镀膜室中，沿所述基材的传输方向，交替地设置。

5.根据权利要求1或2所述的卷绕式双面镀膜设备，其特征在于，所述第二镀膜室的多个所述镀膜源当中，包括至少一组磁控溅射镀膜源和至少一组选自电子束镀膜源以及热蒸镀镀膜源中的镀膜源；

6.根据权利要求5所述的卷绕式双面镀膜设备，其特征在于，所述磁控溅射镀膜源和选自所述电子束镀膜源以及所述热蒸镀镀膜源中的镀膜源，在所述第二镀膜室中，沿所述基材的传输方向，交替地设置。

7.根据权利要求1或2所述的卷...

【专利技术属性】
技术研发人员：籍龙占，向青山，马文军，
申请(专利权)人：深圳市捷佳芯创科技有限责任公司，
类型：新型
国别省市：