【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于钼钨复合金属靶盘，具体涉及激发x射线用分片嵌入式钼钨复合金属靶盘，还涉及上述靶盘的制备方法。
技术介绍
1、x射线其独特的物理性质产生了十分广泛的应用，如医学上常用作透视检查，工业中用来探伤，材料学中可研究晶体结构、形貌和各种缺陷等。激发x射线的基本方法是用高能电子束轰击金属靶，但一般只有1％左右的能量转换成了x射线能，能量转换的效率非常低，其余99％的能量则转化为热能在靶面上积蓄下来，其焦斑温度达到2300℃以上，靶体温度达到1300℃以上。采用钨合金靶面可以承受高能电子束的轰击产生的高温，钼基体可以减轻整个金属靶盘的重量，同时具备耐高温变形能力，两者复合起来是一种比较理想的x射线用金属靶盘结构。
2、钼钨复合金属靶盘在工作时，钨合金靶面直接承受高能电子束轰击，焦点局部表层温度短时间内升高到2300℃以上，靶盘整体会升高到1300℃以上，一次扫描结束时靶盘又迅速下降到几百度。下一次扫描又重复以上过程，如此反复，引起强烈的热震动，由于热应力作用钨合金靶面的焦点轨迹层很容易产生裂纹，易导致ct球管失效。
<...【技术保护点】
1.激发X射线用分片嵌入式钼钨复合金属靶盘，其特征在于，包括圆形钼合金基体(1)，所述钼合金基体(1)上沿其圆周均匀的开设有若干扇环形凹槽(2)，若干所述凹槽(2)构成圆环形，每个所述凹槽(2)内均嵌设有钨合金片(3)。
2.根据权利要求1所述的激发X射线用分片嵌入式钼钨复合金属靶盘，其特征在于，每个所述凹槽(2)的四个边均设有坡度，每个凹槽(2)的开口面积大于每个凹槽(2)底面的面积，所述钨合金片(3)与凹槽的四个边及底部均贴合设置。
3.激发X射线用分片嵌入式钼钨复合金属靶盘的制备方法，其特征在于，具体按照以下步骤实施：
4.根...
【技术特征摘要】
1.激发x射线用分片嵌入式钼钨复合金属靶盘，其特征在于，包括圆形钼合金基体(1)，所述钼合金基体(1)上沿其圆周均匀的开设有若干扇环形凹槽(2)，若干所述凹槽(2)构成圆环形，每个所述凹槽(2)内均嵌设有钨合金片(3)。
2.根据权利要求1所述的激发x射线用分片嵌入式钼钨复合金属靶盘，其特征在于，每个所述凹槽(2)的四个边均设有坡度，每个凹槽(2)的开口面积大于每个凹槽(2)底面的面积，所述钨合金片(3)与凹槽的四个边及底部均贴合设置。
3.激发x射线用分片嵌入式钼钨复合金属靶盘的制备方法，其特征在于，具体按照以下步骤实施：
4.根据权利要求3所述的激发x射线用分片嵌入式钼钨复合金属靶盘的制备方法，其特征在于，步骤1中，钨合金片(3)的相对密度不小于98.5％，钨合金片(3)的表面粗糙度ra<0.4μm，钨合金片(3)的厚度1mm～3mm；
5.根据权利要求3所述的激发x射线用分片嵌入式钼钨复合金属靶盘的制备方法，其特征在于，每个所述凹槽(2)的四...
【专利技术属性】
技术研发人员：武洲，邢军，王娜，张增祥，朱琦，蔺靖杰，
申请(专利权)人：金堆城钼业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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