【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及晶圆制造用生产设备,具体是一种晶圆制造清洗后旋干设备。
技术介绍
1、晶圆是指制作硅半导体电路所用的硅晶片。高纯度的多晶硅溶解后掺入硅晶体晶种,然后慢慢拉出,形成圆柱形的单晶硅,硅晶棒在经过研磨,抛光,切片后,形成硅晶圆片,也就是晶圆,国内晶圆生产线以 8英寸和12英寸为主。
2、在晶圆在不断被加工、成形及抛光处理的过程中,由于与各种有机物、粒子及金属接触而产生的污染物附着在晶圆表面,因此在加工完成后需要对晶圆的表面进行清洗除污,清洗后需要通过旋干机,对晶圆上的水分进行去除。在对旋干机进行使用时,通常需要将晶圆放置在存放框内,之后对框内晶圆进行固定,再将存放框放入旋干机的转动座内,令存放框与转动座固定连接,之后转动座转动带动存放框进行转动实现旋干作业。但是,此过程中,将晶圆固定在存放框内,再将存放框固定在转动座内,操作步骤较多,且将存放框取出和放入转动座时,需要操作者托着存放框伸入转动座内进行操作,不方便进行操作且动作不稳容易损伤晶圆,因此提供了一种晶圆制造清洗后旋干设备。
技术实现
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1.一种晶圆制造清洗后旋干设备,包括旋干机机体(1),所述旋干机机体(1)的外壁设置有门体(2),所述门体(2)用于对所述旋干机机体(1)的内腔进行打开和关闭,所述旋干机机体(1)的内腔安装有转动座(3),所述转动座(3)的内腔设置有晶圆(4),其特征在于,所述转动座(3)通过活动机构(5)对所述晶圆(4)进行放置;
2.根据权利要求1所述的一种晶圆制造清洗后旋干设备,其特征在于,所述第一丝杆(509)的外壁固定连接有第一锥齿轮(511);所述活动机构(5)还包括有第二锥齿轮(512),所述第二锥齿轮(512)转动连接于所述活动座(501)的内部并位于所述
...【技术特征摘要】
1.一种晶圆制造清洗后旋干设备,包括旋干机机体(1),所述旋干机机体(1)的外壁设置有门体(2),所述门体(2)用于对所述旋干机机体(1)的内腔进行打开和关闭,所述旋干机机体(1)的内腔安装有转动座(3),所述转动座(3)的内腔设置有晶圆(4),其特征在于,所述转动座(3)通过活动机构(5)对所述晶圆(4)进行放置;
2.根据权利要求1所述的一种晶圆制造清洗后旋干设备,其特征在于,所述第一丝杆(509)的外壁固定连接有第一锥齿轮(511);所述活动机构(5)还包括有第二锥齿轮(512),所述第二锥齿轮(512)转动连接于所述活动座(501)的内部并位于所述第一锥齿轮(511)的外壁,所述第二锥齿轮(512)的底端固定连接有第二丝杆(513),所述第二丝杆(513)的外壁连接有卡块(514),所述卡块(514)滑动连接于所述限位架(503)的内部并延伸至所述限位架(503)的下方,所述卡块(514)与所述限位架(503)之间连接有连接弹簧(515),所述第一丝杆(509)转动通过所述第一锥齿轮(511)和所述第二锥齿轮(512)带动所述第二丝杆(513)同步进行转动,所述第二丝杆(513)转动用于驱动所述卡块(514)进行移动,所述转动块(510)的内部滑动连接有延伸出所述转动块(510)的加固块(516),所述活动座(501)的外壁开设有加固槽(517),所述加固槽(517)供所述加固块(516)插入,用于对所述转动块(510)进行固定。
3.根据权利要求2所述的一种晶圆制造清洗后旋干设备,其特征在于,所述放置机构(6)包括把手(601),所述存放框(502)的顶部两端固定连接有把手(601),所述存放框(502)的内腔设置有放置槽(602),两个所述把手(601)之间转动连接有转动轴(605),所述转动轴(605)的外壁固定连接有定位杆(603),所述定位杆(603)的外壁开设有定位槽(6...
【专利技术属性】
技术研发人员:方廷宇,许忠信,
申请(专利权)人:山东强茂电子科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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