【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及蒸镀掩模制造方法。
技术介绍
1、在有机el元件的制造中使用了蒸镀掩模。有机el元件通过在被蒸镀基板的预先决定的位置(即成为像素的部分)蒸镀有机发光材料而制成。为了仅在被蒸镀基板的像素的部分蒸镀有机发光材料，使用了蒸镀掩模。
2、蒸镀掩模以往为金属制。但是，为了制作更高精细的有机el元件，必须使蒸镀掩模的厚度更薄，因此，提出了使用例如聚酰亚胺的树脂薄膜来代替金属。
3、使用树脂薄膜的蒸镀掩模具体而言以在金属框以格子状排列而成的金属层上层叠有树脂薄膜的结构来提供(例如参照专利文献1)。在树脂薄膜中，通过从金属框侧照射激光而形成有贯通孔。将这样的蒸镀掩模在本说明书中称为带金属框的薄膜掩模。
4、在被蒸镀基板上蒸镀有机发光材料的情况下，带金属框的薄膜掩模按照树脂薄膜侧朝向被蒸镀基板侧的方式设置。通过使磁力对于金属层起作用，从而带金属框的薄膜掩模被固定于被蒸镀基板上，被蒸镀有机发光材料。在被蒸镀基板上，仅在带金属框的薄膜掩模的形成有贯通孔的部分蒸镀有机发光材料。
5、现有技术文献
6、专利文献
7、专利文献1：日本特开2017-179591号公报
技术实现思路
1、专利技术所要解决的课题
2、然而，以实际制成的带金属框的薄膜掩模进行了有机发光材料的蒸镀，结果见到以下那样的现象。
3、(1)在玻璃基板中，应该在树脂薄膜中形成有贯通孔的各部位蒸镀有机发光材料，但存在产生未被充分蒸镀的部
4、(2)存在被蒸镀有机发光材料以外的物质(污染物质)的情况。
5、于是，本专利技术的课题是抑制上述(1)、(2)的现象。
6、用于解决课题的手段
7、为了解决上述课题，本专利技术的蒸镀掩模制造方法的一个方案经由以下工序：对具有设置有多个开口的金属层和与该金属层相接触地扩展的树脂层的复合材料从该金属层侧照射激光，在该开口内露出的该树脂层部分中形成贯通孔的孔形成工序；和对于形成有上述贯通孔的复合材料，通过从上述金属层侧照射紫外光而除去该金属层上的碎片的除去工序。
8、根据这样的蒸镀掩模制造方法，由于在孔形成工序中通过激光而产生的树脂的碎片从金属层上被除去，因此可抑制因碎片将贯通孔的一部分堵塞而产生的上述(1)的现象、和因碎片落下到有机发光材料的蒸镀源(例如坩埚)内而产生的上述(2)的现象这两者。
9、所谓碎片是树脂在通过使用了激光的开口工序进行消融时形成的有机物的渣滓。该渣滓是树脂层通过激光而加热气化并飞散的物质。有机物的渣滓主要为烃化合物，但分子量比树脂层小且具有幅度。分子量小的渣滓以气体的状态飞散，但大的渣滓在通过激光而打开的开口部附近固化并堆积。
10、有机物的渣滓在固化时在金属框的表面以焦油状附着、或在气中固化而沉积在金属框的表面。碎片由于不具有原来为树脂层时的分子结构，因此相对于紫外线的吸收分解特性与树脂层不同。具体而言，树脂层一般为芳香族化合物且具有共轭双键结构，因此具有紫外线耐性。通过该耐性，产生在碎片的除去时树脂层不受到损伤的选择性。
11、需要说明的是，关于上述(1)、(2)的现象的原因是金属层上的碎片在以往是未知的，本申请的专利技术者们进行了深入研究，结果这次首次变得清楚。
12、在上述蒸镀掩模制造方法中，在上述除去工序中，作为上述紫外光，优选使用来自氙准分子灯的紫外光。由于从氙准分子灯发出高强度的紫外光，因此碎片通过短时间的照射被充分除去。
13、在上述蒸镀掩模制造方法中，在上述除去工序中，作为上述紫外光，也优选使用来自低压汞灯的紫外光。来自低压汞灯的紫外光与来自氙准分子灯的紫外光相比在空气中能够到达至远处。因此，除去工序中的灯与上述复合材料的配置是容易的。
14、此外，在上述蒸镀掩模制造方法中，上述除去工序优选包括对形成上述贯通孔之后且照射上述紫外光之前的上述复合材料进行超声波洗涤的前洗涤。通过包括前洗涤，可谋求由与利用紫外光照射的碎片除去的协同效应带来的紫外光照射时间的缩短化、碎片除去的彻底化。
15、此外，在上述蒸镀掩模制造方法中，上述除去工序也优选包括对照射上述紫外光之后的上述复合材料进行超声波洗涤的后洗涤。通过包括后洗涤，也可谋求由与利用紫外光照射的碎片除去的协同效应带来的紫外光照射时间的缩短化、碎片除去的彻底化。此外，由于认为在前洗涤和后洗涤中相对于碎片的作用不同，因此通过经由前洗涤和后洗涤这两者可期待进一步的协同效应。
16、专利技术效果
17、根据本专利技术，能够抑制上述(1)、(2)的现象。
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1.一种蒸镀掩模制造方法，其特征在于，经由以下工序：
2.根据权利要求1所述的蒸镀掩模制造方法，其特征在于，在所述除去工序中，作为所述紫外光，使用波长为200nm以下的紫外光。
3.根据权利要求2所述的蒸镀掩模制造方法，其特征在于，在所述除去工序中，作为波长为200nm以下的所述紫外光，使用来自氙准分子灯的紫外光。
4.根据权利要求2所述的蒸镀掩模制造方法，其特征在于，在所述除去工序中，作为波长为200nm以下的所述紫外光，使用来自低压汞灯的紫外光。
5.根据权利要求1所述的蒸镀掩模制造方法，其特征在于，所述树脂层由聚酰亚胺及聚对苯二甲酸乙二醇酯中的至少一者制成。
6.根据权利要求1所述的蒸镀掩模制造方法，其特征在于，所述除去工序包括对形成所述贯通孔之后且照射所述紫外光之前的所述复合材料进行超声波洗涤的前洗涤。
7.根据权利要求1所述的蒸镀掩模制造方法，其特征在于，所述除去工序包括对照射所述紫外光之后的所述复合材料进行超声波洗涤的后洗涤。
【技术特征摘要】
1.一种蒸镀掩模制造方法，其特征在于，经由以下工序：
2.根据权利要求1所述的蒸镀掩模制造方法，其特征在于，在所述除去工序中，作为所述紫外光，使用波长为200nm以下的紫外光。
3.根据权利要求2所述的蒸镀掩模制造方法，其特征在于，在所述除去工序中，作为波长为200nm以下的所述紫外光，使用来自氙准分子灯的紫外光。
4.根据权利要求2所述的蒸镀掩模制造方法，其特征在于，在所述除去工序中，作为波长为200nm以下的所述紫外光...
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