【技术实现步骤摘要】
本专利技术专利属于电离辐射的屏蔽和防护，具体为一种适用于核设施的水屏蔽装置、该水屏蔽装置的安装方法和基于该水屏蔽装置的部件辐射的屏蔽方法，用于对核设施的辐射进行屏蔽和防护。
技术介绍
1、随着核能技术的快速发展和广泛应用，辐射源产生日益增加的电磁辐照能量，对人类和设备构件产生辐照损伤，影响人类健康和设备的稳定运行。x/γ射线辐射不仅在核工业领域普遍存在，同时在核医疗、科研同步辐射加速器、航空、国防及无损检测等工业领域方面应用受到广泛的关注。x/γ辐射源射线辐射在为工业添砖加瓦的同时，也为现场工作人员带来身心健康危害，因此需要对x/γ辐射源射线辐射进行一定屏蔽，以减少对人员和设备的损伤。
2、传统屏蔽材料包括铅、含金属氧化物的重混凝土等。但是铅的力学性能差、耐蚀性差，不能单独作为结构件，通常都是悬挂铅板或在夹层中填充铅块，而且重金属铅对人体的危害大，还容易造成环境的重金属污染。重混凝土具有一定的强度和耐用性，但其屏蔽能力相对较弱。
3、日本学者研究发现，钨对γ射线的屏蔽效果优于铅，是最具应用前景的替代铅的辐射屏蔽材...
【技术保护点】
1.一种水屏蔽装置，其特征在于，包括一个或多个屏蔽环，待屏蔽部件位于所述屏蔽环的环形空间内，每个所述屏蔽环包括多个相互连接的屏蔽单元，每个所述屏蔽单元包括屏蔽水囊和支撑框架，所述屏蔽水囊包括主体、设置在所述主体上的进水口和出水口，所述主体内部具有用于容纳屏蔽介质的空间；所述支撑框架包括顶板、底板、位于所述顶板和底板之间的立板以及用于连接相邻屏蔽单元的连接机构，所述支撑框架同一侧的立板之间设置有挡板，所述底板、顶板、立板和挡板形成用于容纳所述屏蔽水囊的容纳腔。
2.根据权利要求1所述的水屏蔽装置，其特征在于，所述水屏蔽装置包括多个屏蔽环，相邻所述屏蔽环中的屏...
【技术特征摘要】
1.一种水屏蔽装置，其特征在于，包括一个或多个屏蔽环，待屏蔽部件位于所述屏蔽环的环形空间内，每个所述屏蔽环包括多个相互连接的屏蔽单元，每个所述屏蔽单元包括屏蔽水囊和支撑框架，所述屏蔽水囊包括主体、设置在所述主体上的进水口和出水口，所述主体内部具有用于容纳屏蔽介质的空间；所述支撑框架包括顶板、底板、位于所述顶板和底板之间的立板以及用于连接相邻屏蔽单元的连接机构，所述支撑框架同一侧的立板之间设置有挡板，所述底板、顶板、立板和挡板形成用于容纳所述屏蔽水囊的容纳腔。
2.根据权利要求1所述的水屏蔽装置，其特征在于，所述水屏蔽装置包括多个屏蔽环，相邻所述屏蔽环中的屏蔽单元之间相互连接。
3.根据权利要求1或2所述的水屏蔽装置，其特征在于，所述水屏蔽装置包括多个屏蔽环，相邻所述屏蔽环中的屏蔽单元之间错开设置。
4.根据权利要求1所述的水屏蔽装置，其特征在于，所述主体的长度大于所述容纳腔的长度，以用于使得单个屏蔽环内相邻屏蔽单元的屏蔽水囊相互接触。
5.根据权利要求1所述的水屏蔽装置，其特征在于，单个屏蔽环内相邻屏蔽单元之间的夹角为0-180°。
6.根据权利要求1所述的水屏蔽装置，其特征在于，所述连接机构包括用于连接单个屏蔽环内相邻屏蔽单元的第一连接组件；所述第一连接组件包括相互转动连接的第一部和第二部，所述第一部设置在单个屏蔽环内相邻两个屏蔽单元的其中一个上，所述第二部设置在单个屏蔽环内相邻两个屏蔽单元的剩余一个上。
7.根据权利要求6所述的水屏蔽装置，其特征在于，所述第一部或第二部的其中一个固定设置一个屏蔽单元上，所述第一部或第二部的剩余一个上设置有贯穿孔，另一个所述屏蔽单元的支撑框架上设置有贯穿所述贯穿孔的插入件，所述插入件插入所述贯穿孔内以用于将所述第二部固定在屏蔽单元的支撑框架上。
8.根据权利要求6所述的水屏蔽装置，其特征在于...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘成威，邹扬，魏少翀，陈国星，史一岭，陆海峰，陆壮，叶林，尹嵩，
申请(专利权)人：苏州热工研究院有限公司，
类型：发明
国别省市：
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