【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及微纳加工领域，具体涉及在三维任意曲面上复制微纳结构的方法。
技术介绍
目前，毛细力光刻的研究是国际上的一个研究热点，主要集中于在二维平面基底 上如何通过毛细力作用实现纳米结构的制作。对于应用毛细力光刻于三维曲面上的微纳结 构的制作，目前尚未见公开报道。现有的在三维曲面上进行微纳加工的方法中最有效的是激光直写技术。该方法 利用激光焦斑在曲面上进行扫描，使得涂覆于曲面上的光刻胶被曝光从而得到所需要的 图形。其优点是可以得到任意图形，缺点在于加工过程极其缓慢不 适合大口径大批量加 工的需要。其它方法包括激光全息干涉法，软光刻方法，贴花转印方法(Decal Transfer Lithography)等，这些方法各有优缺点，受限颇多。而对于三维曲面上微纳结构的复制，目前可用的方法非常贫乏，其中的一个方法 是通过在模板上镀上一层油膜，然后再通过压印、固化以及分离等步骤才能实现微纳结构 的复制，该方法步骤繁多、加工过程漫长。
技术实现思路
本专利技术为解决现有获得微纳结构的方法步骤繁多，且加工过程费时，不适合大口 径大批量加工的问题，提供；该方法由以下步 骤实现步...
【技术保护点】
一种在三维任意曲面上复制微纳结构的方法，其特征是，该方法由以下步骤完成：步骤一、将柔性模板（４）紧密贴到涂覆有高分子薄膜（５）的三维曲面基底（２）表面，然后对所述三维曲面基底（２）表面进行加热，加热温度由室温上升至１４０℃；步骤二、对步骤一所述的三维曲面基底（２）表面在１４０℃的温度下加热３０分钟，所述高分子薄膜（５）在毛细力的作用下流向柔性模板（４）的空腔；步骤三、将步骤二所述的三维曲面基底（２）表面的温度下降至室温，获得固定的微纳结构形状；步骤四、将步骤一所述的柔性模板（４）和步骤三所述的三维曲面基底（２）表面分离，获得三维曲面上的衍射光栅。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：鱼卫星，张登英，卢振武，孙强，
申请(专利权)人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所，
类型：发明
国别省市：82[中国|长春]
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。