改善镀膜孔洞水平的方法及设备技术

本发明专利技术公开了一种改善镀膜孔洞水平的方法及设备，包括如下步骤：S1提供含有磁性填料的基膜；S2提供基膜贴合传输的冷却机构，该冷却机构中设置若干组整平机构单元，整平机构单元包括对应薄膜传输方向设置的正压鼓气机构和磁吸机构组合，以循环产生对基膜连续的鼓推作用及鼓推后的吸附拉伸贴合；S3进行蒸镀。本发明专利技术的方法是基于具有磁性填料的薄膜基材，并采用能够鼓气及磁性吸附薄膜协同的方式，展平薄膜，促进热传导，来改善孔洞水平。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及复合集流体加工，尤其涉及一种改善镀膜孔洞水平的方法及设备。

技术介绍

1、导电薄膜是一种表面镀有金属的一种高分子材料，广泛运用于锂离子电池中，在锂离子电池中主要作为电池集流体使用。作为正极集流体的镀铝膜，其在蒸镀加工过程中，真空腔室内蒸发出的金属分子朝向薄膜移动，尤其是大蒸发量的情况下，会使得高分子薄膜表面温度上升，因此需要利用冷却辊对薄膜表面进行降温，在实际生产中，由于薄膜是基于多组辊组导向及牵引，张力会存在不均匀的情况，会使得贴合冷却辊的薄膜出现褶皱凸起，无法完全贴合冷却辊，进而会使得薄膜发生变形或者烫穿的情况，即产生较多孔洞，影响膜面，进而影响其强度。

2、针对上述情况，现有技术中，中国专利公开号cn110867537a，公开了一种电池用镀金属膜的一次蒸镀制备方法，其通过鼓气的方式作用在贴合冷却辊的膜面内侧，使得面料的褶皱被气流的压力展平，与冷却辊贴合程度更好，减少膜面损伤，可改善蒸镀质量；并进一步公开了冷却辊，包括内置循环冷却通道的辊体，在辊体表面还分布有微孔，所述辊体内部设有连通所述微孔的气体腔室，所述气体腔室通过气体通本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种改善镀膜孔洞水平的方法，包括如下步骤：

2.根据权利要求1所述的改善镀膜孔洞水平的方法，其特征在于：步骤S1中的基膜材料包括聚丙烯(PP)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚对苯二甲酸丁二醇酯(PBT)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚乙烯(PE)、聚丙乙烯、聚氯乙烯(PVC)、聚偏氟乙烯(PVDF)、聚四氟乙烯(PTFE)、聚苯硫醚(PPS)、聚苯醚(PPO)、聚苯乙烯(PS)或聚酰亚胺(PI)中的任意一种或至少两种的组合；其厚度不小于1μm。

3.根据权利要求1所述的改善镀膜孔洞水平的方法，其特征在于：步骤S1中的磁性填料包括四氧化三铁、三氧化二铁、钕...

【技术特征摘要】

1.一种改善镀膜孔洞水平的方法，包括如下步骤：

2.根据权利要求1所述的改善镀膜孔洞水平的方法，其特征在于：步骤s1中的基膜材料包括聚丙烯(pp)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)、聚对苯二甲酸丁二醇酯(pbt)、聚萘二甲酸乙二醇酯(pen)、聚乙烯(pe)、聚丙乙烯、聚氯乙烯(pvc)、聚偏氟乙烯(pvdf)、聚四氟乙烯(ptfe)、聚苯硫醚(pps)、聚苯醚(ppo)、聚苯乙烯(ps)或聚酰亚胺(pi)中的任意一种或至少两种的组合；其厚度不小于1μm。

3.根据权利要求1所述的改善镀膜孔洞水平的方法，其特征在于：步骤s1中的磁性填料包括四氧化三铁、三氧化二铁、钕铁硼、铁铬钴的一种或至少两种以上磁性材料的组合。

4.根据权利要求1所述的改善镀膜孔洞水平的方法，其特征在于：磁性填料分布在基膜内和/或基膜表层的涂层内，磁性填料占高分子材料和/或涂层质量的0.5％-8％；

5.根据权利要求1所述的改善镀膜孔洞水平的方法，其特征在于：磁性...

【专利技术属性】
技术研发人员：焦鑫鹏，刘志康，伽龙，吴明忠，
申请(专利权)人：浙江柔震科技有限公司，
类型：发明
国别省市：