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改善镀膜孔洞水平的方法及设备技术
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文档序号:40082859
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本发明公开了一种改善镀膜孔洞水平的方法及设备,包括如下步骤:S1提供含有磁性填料的基膜;S2提供基膜贴合传输的冷却机构,该冷却机构中设置若干组整平机构单元,整平机构单元包括对应薄膜传输方向设置的正压鼓气机构和磁吸机构组合,以循环产生对基膜连...
该专利属于浙江柔震科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过浙江柔震科技有限公司授权不得商用。
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