【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及集成电路制造领域，特别涉及一种光栅位移测量装置。
技术介绍
1、现有的光栅位移测量装置使用半透半反元件组合来分离出参考光路，结构分散，且分离出的参考光路仅具有单一偏振态，导致杂散信号干扰较强，测量重复性较差。
2、因此，如何对现有的光栅位移测量装置进行改进，以提高测量的重复性是目前亟需解决的问题。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于提供一种光栅位移测量装置，能够提高测量重复性，保证光栅位移测量的准确性。
2、为实现上述目的，本专利技术提供了一种光栅位移测量装置，包括：
3、光束发射单元，用于产生频率不同的第一光束和第二光束；
4、光栅尺读头，包括光束整形单元，所述光束整形单元包括渥拉斯顿棱镜和非偏振分光棱镜；
5、光栅；
6、信号接收单元，包括第一探测器和第二探测器；
7、其中，所述第一光束和所述第二光束经所述渥拉斯顿棱镜入射至所述非偏振分光棱镜中，经所述渥拉斯顿棱镜后的所述第一光束与所述...
【技术保护点】
1.一种光栅位移测量装置，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的光栅位移测量装置，其特征在于，所述光束整形单元还包括第一线偏振器和第二线偏振器，所述第一光束经所述第一线偏振器入射至所述渥拉斯顿棱镜，所述第二光束经所述第二线偏振器入射至所述渥拉斯顿棱镜，以消除所述第一光束与所述第二光束中的杂散光。
3.如权利要求2所述的光栅位移测量装置，其特征在于，所述光束整形单元还包括第一准直透镜和第二准直透镜，所述第一光束经所述第一准直透镜准直后入射至所述第一线偏振器，所述第二光束经所述第二准直透镜准直后入射至所述第二线偏振器，准直后的所述第一光束与所述
【技术特征摘要】
1.一种光栅位移测量装置，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的光栅位移测量装置，其特征在于，所述光束整形单元还包括第一线偏振器和第二线偏振器，所述第一光束经所述第一线偏振器入射至所述渥拉斯顿棱镜，所述第二光束经所述第二线偏振器入射至所述渥拉斯顿棱镜，以消除所述第一光束与所述第二光束中的杂散光。
3.如权利要求2所述的光栅位移测量装置，其特征在于，所述光束整形单元还包括第一准直透镜和第二准直透镜，所述第一光束经所述第一准直透镜准直后入射至所述第一线偏振器，所述第二光束经所述第二准直透镜准直后入射至所述第二线偏振器，准直后的所述第一光束与所述第二光束平行。
4.如权利要求1所述的光栅位移测量装置，其特征在于，所述光束整形单元还包括第三线偏振器和第一耦合透镜，所述参考光依次经所述第三线偏振器和所述第一耦合透镜后传送至所述第一探测器。
5.如权利要求1所述的光栅位移测量装置，其特征在于，所述光栅尺读头还包括衍射光回射单元，所述衍射光回射单元包括第一角锥棱镜和第二角锥棱镜；所述另一部分中的所述第一光束和所述第二光束继续入射至所述光栅后，经所述光栅一次衍射的所述第一光束的-1级次衍射光入射至所述第一角锥棱镜后反射至所述光栅，经所述光栅一次衍射的所述第二光束的+1级次衍射光入射至所述第二角锥棱镜后反射至所述光栅，所述-1级次衍射光和所述+1级次衍射光再经所述光栅二次衍射后传送至所述第二探测器。
6.如权利要求5所述的光栅位移测量装置，其特征在于，所述衍射光回射单元还包括第四线偏振器和第五...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘逍，刁雷，王欣怡，王鑫伟，于大维，蓝科，
申请(专利权)人：上海微电子装备集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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