一种紫外光照调控力学性能的聚氨酯脲薄膜及其制备方法技术

本发明专利技术提供了一种紫外光照调控力学性能的聚氨酯脲薄膜及其制备方法，本发明专利技术选用氨酯脲薄膜是以低聚物二元醇、低聚物二元胺、二异氰酸酯、扩链剂和紫外敏感单体为反应原料，经聚合反应得到；所述反应原料中，羟基+胺基与异氰酸酯基的摩尔比为1：0.8～1：1.2。二氨基二苯甲酮或二羟基二苯甲酮紫外光引发基团作为聚氨酯脲薄膜的制备原料之一，使得聚合形成的聚氨酯脲薄膜材料的分子链中存在紫外敏感单体，进而成型的聚氨酯脲薄膜材料在紫外光的作用下产生二次交联，得到强度韧性优异，力学性能可调控，且在日光长时间照射下可以实现刚度提升的聚氨酯脲薄膜。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及高分子材料，尤其涉及一种紫外光照调控力学性能的聚氨酯脲薄膜及其制备方法。

技术介绍

1、薄膜材料广泛用于高科技和生产生活等诸多领域。在传统的高分子加工中，常用线性或枝化的热塑性聚合物通过吹塑、模压、压延、流延或溶液涂布等方法制备薄膜。其可以单独使用，也可以附着在其他材料表面形成涂层。

2、聚氨酯脲(pu)薄膜由于其出色的性能和多样的特性，在众多领域中得到广泛应用。具体涉及包装、冷冻保鲜、薄膜电子学、医疗领域和分离膜等多个领域。不同应用领域对薄膜性能的要求不同，需要根据具体应用场景进行材料设计和制备。而更改高分子配方是调控薄膜材料性能的常用方法，比如化学结构、助剂、复合填料等的选择。这也就意味着一旦确定了材料配方，薄膜的性能几乎就无法再次调控。虽然定向拉伸、电晕等方法也可以在薄膜制备后进一步改变其力学和表面性质，但这些过程通常需要特殊的设备，难以满足复杂的定制化趋势和需求。

3、因此，开发一种力学性能可调控的聚合物薄膜十分重要的。

技术实现思路

1、针对现有技术中存在的上述本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种紫外光照调控力学性能的聚氨酯脲薄膜，其特征在于，所述聚氨酯脲薄膜是以摩尔比为1：1：4：0.6：1.4～1：1：6：2：2的低聚物二元醇、低聚物二元胺、二异氰酸酯、扩链剂和紫外敏感单体为反应原料，经聚合反应得到；

2.根据权利要求1所述的聚氨酯脲薄膜，其特征在于，所述低聚物二元醇选自聚四氢呋喃或聚己内酯。

3.根据权利要求1所述的聚氨酯脲薄膜，其特征在于，所述低聚物二元胺选自胺基封端聚四氢呋喃。

4.根据权利要求1所述的聚氨酯脲薄膜，其特征在于，所述二异氰酸酯选自异佛尔酮二异氰酸酯。

5.根据权利要求1所述的聚氨酯脲薄膜，其特征在于...

【技术特征摘要】

1.一种紫外光照调控力学性能的聚氨酯脲薄膜，其特征在于，所述聚氨酯脲薄膜是以摩尔比为1：1：4：0.6：1.4～1：1：6：2：2的低聚物二元醇、低聚物二元胺、二异氰酸酯、扩链剂和紫外敏感单体为反应原料，经聚合反应得到；

2.根据权利要求1所述的聚氨酯脲薄膜，其特征在于，所述低聚物二元醇选自聚四氢呋喃或聚己内酯。

3.根据权利要求1所述的聚氨酯脲薄膜，其特征在于，所述低聚物二元胺选自胺基封端聚四氢呋喃。

4.根据权利要求1所述的聚氨酯脲薄膜，其特征在于，所述二异氰酸酯选自异佛尔酮二异氰酸酯。

5.根据权利要求1所述的聚氨酯脲薄膜，其特征在于，所述扩链剂选自1,4-丁二醇。...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐军，柳占立，史家昕，施汇斌，
申请(专利权)人：清华大学，
类型：发明
国别省市：