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本发明提供了一种紫外光照调控力学性能的聚氨酯脲薄膜及其制备方法，本发明选用氨酯脲薄膜是以低聚物二元醇、低聚物二元胺、二异氰酸酯、扩链剂和紫外敏感单体为反应原料，经聚合反应得到；所述反应原料中，羟基+胺基与异氰酸酯基的摩尔比为1：0.8～1：...
该专利属于清华大学所有，仅供学习研究参考，未经过清华大学授权不得商用。

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