【技术实现步骤摘要】
本技术涉及异质结太阳能电池制备，尤其涉及一种磁控溅射传动装置及磁控溅射设备。
技术介绍
1、在制备高效异质结太阳能电池时，pvd(physical vapor deposition，物理气相沉积)工序是非常关键的步骤之一。经过化学气相沉积的硅片放置在载板上，载板作为硅片承载传送托盘，输送硅片在真空腔室内进行物理气相沉积。
2、目前市场上pvd均采用上下同时镀膜的结构设计，在工艺制程过程中，载板也会和硅片一样在表面形成镀膜，随着使用次数增多，膜层越来越厚。现有的设备均采用滚轮与载板硬接触的传动方式，将载板直接置于滚轮上，通过载板与多个滚轮之间的滑动摩擦力，实现载板的传动，使得载板在传输过程中的震动较大，容易对硅片造成损伤，并且载板与滚轮之间的摩擦会产生掉粉现象，从而影响真空腔室的环境和硅片镀膜的质量，使得设备稼动率低，产能低。并且用于驱动滚轮转动的驱动机构在真空腔室外伸入真空腔室内驱动滚轮转动，并在驱动机构与真空腔室的穿设部位通过磁流体进行密封，但是磁流体有损坏的风险，大大影响了真空腔室的密封性。
3、因此，亟需专...
【技术保护点】
1.一种磁控溅射传动装置，其特征在于，包括载板(1)以及传输轨道(2)，所述载板(1)用于承载待镀膜的硅片；
2.根据权利要求1所述的磁控溅射传动装置，其特征在于，通过调节各个所述电磁铁(212)通入电流的流向，以使位于所述导向永磁铁(112)移动方向前侧的所述电磁铁(212)的极性与所述导向永磁铁(112)的极性相吸，位于所述导向永磁铁(112)移动方向后侧的所述电磁铁(212)的极性与所述导向永磁铁(112)的极性相斥。
3.根据权利要求1所述的磁控溅射传动装置，其特征在于，所述导向永磁铁(112)包括多个永磁块(1121)，多个所述永磁块...
【技术特征摘要】
1.一种磁控溅射传动装置，其特征在于，包括载板(1)以及传输轨道(2)，所述载板(1)用于承载待镀膜的硅片；
2.根据权利要求1所述的磁控溅射传动装置，其特征在于，通过调节各个所述电磁铁(212)通入电流的流向，以使位于所述导向永磁铁(112)移动方向前侧的所述电磁铁(212)的极性与所述导向永磁铁(112)的极性相吸，位于所述导向永磁铁(112)移动方向后侧的所述电磁铁(212)的极性与所述导向永磁铁(112)的极性相斥。
3.根据权利要求1所述的磁控溅射传动装置，其特征在于，所述导向永磁铁(112)包括多个永磁块(1121)，多个所述永磁块(1121)在所述载板(1)上沿所述传输轨道(2)的长度方向间隔排布。
4.根据权利要求1～3任一项所述的磁控溅射传动装置，其特征在于，所述载板(1)和所述传输轨道(2)沿竖直方向排布。
5.根据权利要求4所述的磁控溅射传动装置，其特征在于，所述载板(1)和所述传输轨道(2)两者中的一个上设置有凸块(21)，另一个上开设有凹槽(11)，所述凸块(21)和所述凹槽(11)均沿所述传输轨道(2)的长度方向延伸；
6.根据权利要求5所述的磁控溅射传动装置，其特征在于，所述载板(1)上设置有所述凸块(21)，所述传输轨道(2)上开设有所述凹槽(11)，所述凹槽(11)的内侧壁与所述凸块(21)的侧壁相对设置，所述凸块(21)的两侧侧壁至少一侧上设置有所述导向永磁铁(112)，所述凹槽(11)的侧壁至少一侧上间隔设置与所述导向永磁铁(112)相对应的多个所述电磁铁(212)。
7.根据权利要求5所述的磁控溅射传动装置，其特征在于，所述载板(1)上开设有所述凹槽(11)，所述传输轨道(2)上设置有所述凸块(21)，所述凹槽(11)的内侧壁与所述凸块(21)的侧壁相对设置，所述凹...
【专利技术属性】
技术研发人员：曹峻峰，张伟建，王星辰，狄贺，凡伟伟，陆黎华，
申请(专利权)人：苏州迈为科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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