【技术实现步骤摘要】
本技术涉及冲压,具体为一种铜箔冲压模具。
技术介绍
1、铜箔是一种阴质性电解材料,沉淀于电路板基底层上的一层薄的以及连续的金属箔,它作为pcb的导电体,它容易粘合于绝缘层,接受印刷保护层,腐蚀后形成电路图样,铜箔具有低表面氧气特性,可以附着于各种不同基材,如金属,绝缘材料等,拥有较宽的温度使用范围,主要应用于电磁屏蔽及抗静电,将导电铜箔置于衬底面,结合金属基材,具有优良的导通性,并提供电磁屏蔽的效果。
2、目前铜箔在生产时,需要通过冲压模具对铜箔进行冲压,以实现能够在铜箔上冲压形成通孔。由于铜箔的尺寸不同,及所运用的领域不同,进而会导致其上的通孔位置不同,目前基本上是根据铜箔的冲孔位置选取对应的冲压模具,这就会导致每次在不同的铜箔上进行冲孔时,需要对整个冲压模具进行更换,由于模具重,进而会给工作人员带来不便,与此同时,还需要设置多组冲压模具,进而会提高成本的投入。因此,专利技术一种铜箔冲压模具。
技术实现思路
1、鉴于上述和/或现有一种铜箔冲压模具中存在的问题,提出了本技术。<
...【技术保护点】
1.一种铜箔冲压模具,包括支架(10)和铜箔(70),所述支架(10)上安装升降组件(20),其特征在于,还包括:
2.根据权利要求1所述的一种铜箔冲压模具,其特征在于,所述升降组件(20)包括:
3.根据权利要求1所述的一种铜箔冲压模具,其特征在于,所述下模具(60)包括:
【技术特征摘要】
1.一种铜箔冲压模具,包括支架(10)和铜箔(70),所述支架(10)上安装升降组件(20),其特征在于,还包括:
2.根据权利要求1所述...
【专利技术属性】
技术研发人员:杨扬,
申请(专利权)人:江阴艾力特机械制造有限公司,
类型:新型
国别省市:
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