【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及数字处理，具体涉及一种微纳米粉体的制备优化方法及系统。
技术介绍
1、随纳米科技的不断进步与发展，微纳米粉体（微纳米粉体即微米粉体与纳米粉体的统称）具备优异的光学性能、磁性能、力学性能、化学性能以及表面和界面性能，同时微纳米粉体因小尺寸效应、宏观两字隧道效应的特性，广泛应用于微电子行业，常见的，制备磁记录材料、电子浆料和电子陶瓷材料均应用到微纳米粉体。
2、但微纳米粉体的化学反应速率快、溶解度大、溶解速率快、吸附性强，在微纳米粉体的制备结束后（微米粉体与纳米粉体的团聚与分散问题），难以对微米粉体与纳米粉体进行长期的稳定性保存，进而限制了微米粉体与纳米粉体的发展与应用。
3、现有技术中存在制备所得微纳米粉体稳定性差，导致的制备所得微纳米粉体难以稳定性存储的技术问题。
技术实现思路
1、本申请通过提供了一种微纳米粉体的制备优化方法及系统，解决了制备所得微纳米粉体稳定性差，导致的制备所得微纳米粉体难以稳定性存储的技术问题，达到了改善粒径，提高包覆剂参数，对微纳米粉体的稳定性进行全方面提升，为微纳米粉体的稳定性存储提供技术支撑的效果。
2、鉴于上述问题，本申请提供了一种微纳米粉体的制备优化方法及系统。
3、本申请的第一个方面，提供了一种微纳米粉体的制备优化方法，其中，基于一微纳米粉体的制备优化系统实施，所述方法包括：获取微纳米粉体期望参数，其中，所述微纳米粉体期望参数包括微米粉体期望粒度参数、纳米粉体期望粒度参数和微纳米配比参数
4、本申请的第二个方面，提供了一种微纳米粉体的制备优化系统，其中，所述系统包括：期望参数获取单元，所述期望参数获取单元用于获取微纳米粉体期望参数，其中，所述微纳米粉体期望参数包括微米粉体期望粒度参数、纳米粉体期望粒度参数和微纳米配比参数；条件参数获取单元，所述条件参数获取单元用于获取制备条件参数；生产预测单元，所述生产预测单元用于根据所述微米粉体期望粒度参数、所述纳米粉体期望粒度参数、所述微纳米配比参数和所述制备条件参数进行生产预测，生成微纳米粉体团聚比预测结果；阈值判断单元，所述阈值判断单元用于判断所述微纳米粉体团聚比预测结果是否满足团聚比阈值；制备参数获取单元，所述制备参数获取单元用于若满足，获取待优化制备参数，其中，所述待优化制备参数包括包覆剂规格参数、包覆剂添加质量参数和微纳米粉体密度参数；优化设计单元，所述优化设计单元用于对所述包覆剂规格参数、所述包覆剂添加质量参数和所述微纳米粉体密度参数进行优化设计，生成制备参数优化结果；粉体制备单元，所述粉体制备单元用于根据所述制备参数优化结果进行微纳米粉体的制备。
5、本申请中提供的一个或多个技术方案，至少具有如下技术效果或优点：
6、由于采用了获取微纳米粉体期望参数；获取制备条件参数；根据所述微米粉体期望粒度参数、所述纳米粉体期望粒度参数、所述微纳米配比参数和所述制备条件参数进行生产预测，生成微纳米粉体团聚比预测结果；判断所述微纳米粉体团聚比预测结果是否满足团聚比阈值；若满足，获取待优化制备参数；对所述包覆剂规格参数、所述包覆剂添加质量参数和所述微纳米粉体密度参数进行优化设计，生成制备参数优化结果；根据所述制备参数优化结果进行微纳米粉体的制备。本申请达到了改善粒径，提高包覆剂参数，对微纳米粉体的稳定性进行全方面提升，为微纳米粉体的稳定性存储提供技术支撑的效果。
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1.一种微纳米粉体的制备优化方法，其特征在于，基于一微纳米粉体的制备优化系统实施，包括：
2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，还包括：
3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，包括：
4.如权利要求3所述的方法，其特征在于，所述获取生产预测模型，其中，所述生产预测模型包括第一预测模块和第二预测模块，包括：
5.如权利要求2所述的方法，其特征在于，包括：
6.如权利要求5所述的方法，其特征在于，还包括：
7.如权利要求6所述的方法，其特征在于，还包括：
8.一种微纳米粉体的制备优化系统，其特征在于，所述系统包括：
【技术特征摘要】
1.一种微纳米粉体的制备优化方法，其特征在于，基于一微纳米粉体的制备优化系统实施，包括：
2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，还包括：
3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，包括：
4.如权利要求3所述的方法，其特征在于，所述获取生产预测模型，其中，所述生产预...
【专利技术属性】
技术研发人员：梅力，胡朗，胡冬云，
申请(专利权)人：南通盟鼎新材料有限公司，
类型：发明
国别省市：
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