【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体生产用清洗设备,具体涉及到一种多晶硅生产用石英隔热环全自动清洗设备及清洗工艺。
技术介绍
1、由于半导体多晶硅生产过程中石英隔热环外表面粘附着物料和低温聚合物以及硅粉,在下一炉批次生产时会影响半导体多晶硅的产品质量,所以需要清洗和烘干。
2、但石英隔热环外表面黏附的物料、低温聚合物以及硅粉用人工清理较困难,效率低下,且不易清洗干净且在人工清洁的过程中容易给半导体多晶硅生产用超纯石英隔热环造成二次污染。
3、因此,存在待改进之处,本专利技术提供一种多晶硅生产用石英隔热环全自动清洗设备及清洗工艺。
技术实现思路
1、针对现有技术所存在的不足,本专利技术目的在于提出一种多晶硅生产用石英隔热环全自动清洗设备及清洗工艺,具体方案如下:
2、一种多晶硅生产用石英隔热环全自动清洗设备,包括:
3、桁架,在两端分别形成有工件上料区、工件下料区;
4、机械臂,滑动安装在桁架中,其滑行方向为沿着靠近或者远离工件上料区、工件下料区的
...【技术保护点】
1.一种多晶硅生产用石英隔热环全自动清洗设备,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的多晶硅生产用石英隔热环全自动清洗设备,其特征在于,纯水自动冲洗工位(7)采用喷淋,包括:
3.根据权利要求2所述的多晶硅生产用石英隔热环全自动清洗设备,其特征在于,喷嘴喷淋装置(72)包括固定式喷嘴喷淋组件(721),在冲洗槽(71)的两个相对侧壁上至少固定设置有两组;
4.根据权利要求2所述的多晶硅生产用石英隔热环全自动清洗设备,其特征在于,碱液自动循环清洗工位(6)采用超声波清洗,包括:
5.根据权利要求4所述的多晶硅生产用石英
...【技术特征摘要】
1.一种多晶硅生产用石英隔热环全自动清洗设备,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的多晶硅生产用石英隔热环全自动清洗设备,其特征在于,纯水自动冲洗工位(7)采用喷淋,包括:
3.根据权利要求2所述的多晶硅生产用石英隔热环全自动清洗设备,其特征在于,喷嘴喷淋装置(72)包括固定式喷嘴喷淋组件(721),在冲洗槽(71)的两个相对侧壁上至少固定设置有两组;
4.根据权利要求2所述的多晶硅生产用石英隔热环全自动清洗设备,其特征在于,碱液自动循环清洗工位(6)采用超声波清洗,包括:
5.根据权利要求4所述的多晶硅生产用石英隔热环全自动清洗设备,其特征在于,桁架(1)的底板(01)上设有与碱液清洗槽(61)连通设置的碱液配置箱(14),碱液配置箱(14)的外壁上覆设有保温层;
6.根据权利要求4所述的多晶硅生产用石...
【专利技术属性】
技术研发人员:林多娇,林尼克,
申请(专利权)人:易升设备上海有限公司,
类型:发明
国别省市:
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