一种适用于大尺寸硅片的浸泡装置制造方法及图纸

本技术公开了一种适用于大尺寸硅片的浸泡装置，包括：浸泡缸体，为顶部开口、四周和底部封闭的壳体结构，其内部空间用于盛放硅片浸泡液；硅片支架，适于放入浸泡缸体内部，硅片支架上形成有多个并排布置的硅片卡槽，每个硅片卡槽适于竖立插入一个硅片，且多个硅片卡槽可使多个硅片并排间隔放置。本技术提供的浸泡装置结构简单且易操作，且在浸泡硅片时，硅片不用再横置叠放，不会再出现浸泡不彻底的情况，并在硅片浸泡完毕后，可将硅片支架连同硅片一起转移至烘箱中进行烘干，实现硅片支架在不同场景的使用，进一步提高工作效率。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种半导体芯片制造领域，具体是关于一种适用于大尺寸硅片的浸泡装置。

技术介绍

1、在实验室中，光刻实验完成之后会产生大量的硅片需要浸泡，由于每次进行实验的圆形硅片直径与数量并不相同，大尺寸硅片浸泡时并不能对其进行统一固定。而如果将硅片横置叠放，容易出现浸泡不彻底的情况，并且存在两片甚至多片硅片胶粘在一起的风险。同时，在烘干过程中横置摆放的硅片也会占据较大空间，降低了烘箱的使用效率。

技术实现思路

1、本技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本技术提出一种适用于大尺寸硅片的浸泡装置，旨在可以使不同尺寸的硅片竖立间隔放置，避免出现浸泡不彻底的情况。

2、为实现上述目的，本技术采取以下技术方案：

3、一种适用于大尺寸硅片的浸泡装置，包括：浸泡缸体，为顶部开口、四周和底部封闭的壳体结构，其内部空间用于盛放硅片浸泡液；硅片支架，适于放入所述浸泡缸体内部，所述硅片支架上形成有多个并排布置的硅片卡槽，每个所述硅片卡槽适于竖立插入一个硅片，且多个所述硅片卡槽可使多个硅片并排间隔放置。

4、所述的浸泡装置，优选地，所述硅片卡槽形成于所述硅片支架的下半部，每一所述硅片卡槽均包括两个呈对称间隔设置的1/4圆弧形卡槽，以使所述硅片卡槽能够适应插入不同尺寸的硅片。

5、所述的浸泡装置，优选地，还包括缸盖，所述缸盖可盖合在所述浸泡缸体的开口端，以在浸泡硅片时封闭所述浸泡缸体。

6、所述的浸泡装置，优选地，在所述缸盖上设置有提手。

7、所述的浸泡装置，优选地，所述硅片支架为多个，多个所述硅片支架并排放置在所述浸泡缸体内部，且相邻两个所述硅片支架之间通过卡扣固定。

8、所述的浸泡装置，优选地，所述硅片支架的上半部两侧设置有便于取放所述硅片支架的镂空部。

9、所述的浸泡装置，优选地，在所述浸泡缸体的一侧底部设置有排液口，所述排液口内设置有排液阀。

10、所述的浸泡装置，优选地，所述浸泡缸体、硅片支架及缸盖均选用聚四氟乙烯材料制作而成。

11、本技术由于采取以上技术方案，其具有以下优点：

12、本技术提供的浸泡装置结构简单且易操作，且在浸泡硅片时，硅片不用再横置叠放，不会再出现浸泡不彻底的情况，并在硅片浸泡完毕后，可将硅片支架连同硅片一起转移至烘箱中进行烘干，实现硅片支架在不同场景的使用，进一步提高工作效率。

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【技术保护点】

1.一种适用于大尺寸硅片的浸泡装置，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的浸泡装置，其特征在于，还包括缸盖，所述缸盖可盖合在所述浸泡缸体的开口端，以在浸泡硅片时封闭所述浸泡缸体。

3.根据权利要求2所述的浸泡装置，其特征在于，在所述缸盖上设置有提手。

4.根据权利要求1所述的浸泡装置，其特征在于，所述硅片支架为多个，多个所述硅片支架并排放置在所述浸泡缸体内部，且相邻两个所述硅片支架之间通过卡扣固定。

5.根据权利要求1所述的浸泡装置，其特征在于，所述硅片支架的上半部两侧设置有便于取放所述硅片支架的镂空部。

6.根据权利要求1至5任意一项所述的浸泡装置，其特征在于，在所述浸泡缸体的一侧底部设置有排液口，所述排液口内设置有排液阀。

7.根据权利要求2所述的浸泡装置，其特征在于，所述浸泡缸体、硅片支架及缸盖均选用聚四氟乙烯材料制作而成。

【技术特征摘要】

1.一种适用于大尺寸硅片的浸泡装置，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的浸泡装置，其特征在于，还包括缸盖，所述缸盖可盖合在所述浸泡缸体的开口端，以在浸泡硅片时封闭所述浸泡缸体。

3.根据权利要求2所述的浸泡装置，其特征在于，在所述缸盖上设置有提手。

4.根据权利要求1所述的浸泡装置，其特征在于，所述硅片支架为多个，多个所述硅片支架并排放置在所述浸泡缸体内部，且相邻...

【专利技术属性】
技术研发人员：于悦，马晓婷，王立哲，贾斌，
申请(专利权)人：明士北京新材料开发有限公司，
类型：新型
国别省市：