【技术实现步骤摘要】
【】本专利技术涉及光刻，特别涉及一种设计版图内部结构处理方法、装置及计算机设备。
技术介绍
0、
技术介绍
1、集成电路制造工艺中，通过光刻和刻蚀将掩膜版上的图形转移到硅片上。这种制造集成电路时使用的掩膜版上的几何图形定义为集成电路的版图。版图是从设计走向制造的桥梁，而版图是可设计大量的图形(polygon)，通常称之为设计图形。通常设计图形上会存在多个孔(hole)和外壳(hull)，其中外壳构成设计图形的外轮廓，而孔是设计图形上镂空的部分，在处理设计图形时，往往期望将孔和壳连接成一个整体。
2、现有技术通常是在版图上建立坐标轴，且需要保证版图上外壳和孔的顶点在坐标轴上的坐标为整数。再从孔的轮廓上的某个顶点出发，并朝一个方向进行延伸出一条线段，线段会与其邻近的孔或壳的轮廓线相交，进而完成所有孔与壳的连接工作。然而，在连接的过程中，线段可能会连接到两种轮廓线，进而产生两种交点，一种是满足在坐标轴上呈平行、垂直或者角度呈45°的边，线段与该边的交点称之合格交点。而线段与非平行、垂直或者角度呈45°的边的交点称之为非合格点。现有技术通过将连接点、合格点与非合格进行连接，最终获得壳与各个孔之间的连接为一体。
3、然而，由于版图中孔和壳的顶点均为整数，因此在合格交点上，由于其与连接点的纵坐标相同，即合格交点的纵坐标为整数。且合格交点所处的边的两个顶点都为整数，即无论是与坐标轴平行、垂直或者角度呈45°的边，合格交点的横坐标势必也为整数。然而对于非合格交点来说，虽然其纵坐标为整数，但其横坐标可能为一个
技术实现思路
0、
技术实现思路
1、为了解决现有技术将设计图形中壳与各个孔连接为一体时，使得最终输出的设计图形的出现严重轮廓变形的问题，本专利技术提供一种设计版图内部结构处理方法、装置及计算机设备。
2、本专利技术为解决上述技术问题，提供如下的技术方案：一种设计版图内部结构处理方法，用于将设计版图内设计图形的壳和孔的轮廓边连接为整体，包括以下步骤：
3、获取壳和孔的顶点位置信息；
4、基于某个孔的顶点位置信息建立矩形搜索框；
5、将搜索框的四条边分别沿与边相水平或垂直方向进行拓展，使其与其他孔或壳的轮廓边相交以获得交点；
6、沿搜索框拓展方向筛选出距离该孔顶点最近交点的位置，并将该顶点位置和最近交点位置保存获得初始数据集；
7、迭代建立搜索框的过程，以将版图内所有孔的顶点位置以及其对应的最近交点位置保存获得最终数据集；
8、基于最终数据集和预设权重规则建立壳和孔的连接关系，并基于连接关系将设计图形的壳和孔的轮廓边连接为整体。
9、优选地，获取壳和孔的顶点位置信息包括：
10、对版图内的设计图形建立坐标系，所述坐标系包括横坐标和纵坐标；
11、设定设计图形的壳和孔的顶点于坐标系内的横坐标和纵坐标均为整数；
12、获取壳和孔的顶点于坐标系内的位置信息。
13、优选地，基于某个孔的顶点位置信息建立搜索框包括：
14、基于某个孔的所有顶点位置信息，筛选出该孔所有顶点中横坐标最大和最小的顶点，以及纵坐标最大和最小的顶点，并将筛选的顶点作为最值顶点；
15、获取最值顶点位置；
16、基于最值顶点位置建立搜索框，以使搜索框可包围整个孔的轮廓边且最值顶点处于搜索框的四条边上，且搜索框的边垂直或平行于横坐标。
17、优选地，将搜索框的四条边分别沿与边相水平或垂直方向进行拓展包括：
18、搜索框呈矩形，将搜索框的四条边分别沿横坐标的正向方向或负向方向进行拓展，或，分别沿纵坐标的正向方向或负向方向进行拓展。
19、优选地，沿搜索框拓展方向筛选出距离该孔顶点最近交点的位置包括：
20、沿搜索框拓展方向获取该孔的所有顶点以及与顶点相对应的交点之间的距离值；
21、将距离值进行大小排序，并筛选出最小的距离值；
22、获取最小距离值对应的顶点和交点的位置，以获得距离该孔顶点最近交点的位置。
23、优选地，基于最终数据集和预设权重规则建立壳和孔的连接关系包括：
24、基于最终数据集获取所有孔的顶点位置以及其对应的最近交点位置；
25、获取最近交点位置所在边的轮廓，若该边与横坐标或纵坐标呈平行、垂直或者呈45°夹角，则判定该最近交点为合格交点，反之，则为不合格交点；
26、基于与孔的顶点对应的最近交点是否为合格交点获得相邻孔之间或孔与壳之间的权重关系；
27、基于权重关系和预设权重规则建立壳和孔的连接关系。
28、优选地，基于权重关系和预设权重规则建立壳和孔的连接关系包括：
29、判断与孔的顶点对应的最近交点是否为合格交点；
30、若是，记为第一权重；
31、若否，记为第二权重；
32、选择第一权重占优的方式将设计图形内的所有孔和壳进行连接，以建立壳和孔的连接关系。
33、优选地，基于连接关系将设计图形的壳和孔的轮廓边连接为整体包括：
34、随机选取设计图形内壳的某一顶点为起始点；
35、将壳和孔上的所有顶点和最近交点均作为连接点；
36、由起始点出发基于连接关系将所有顶点和最近交点依次相连，以使壳和孔的轮廓边连接为整体。
37、本专利技术为解决上述技术问题，提供又一技术方案如下：一种装置，应用于上述设计版图内部结构处理方法，所述装置包括：
38、识别模块：用于获取壳和孔的顶点位置信息；
39、搜索模块：用于建立矩形搜索框，并将搜索框的四条边分别沿与边相水平或垂直方向进行拓展；
40、数据采集模块：用于将版图内所有孔的顶点位置以及其对应的最近交点位置保存获得最终数据集；
41、处理模块：用于基于连接关系将设计图形的壳和孔的轮廓边连接为整体。
42、本专利技术为解决上述技术问题，提供又一技术方案如下：应用于上述设计版图内部结构处理方法，包括存储器、处理器及存储在存储器上的计算机程序，所述处理器执行上述计算机程序以实现所述设计版图内部结构处理方法。
43、与现有技术相比，本专利技术所提供的一种设计版图内部结构处理方法、装置及计算机设备，具有如下本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种设计版图内部结构处理方法，用于将设计版图内设计图形的壳和孔的轮廓边连接为整体，其特征在于，包括以下步骤：
2.如权利要求1所述的设计版图内部结构处理方法，其特征在于：获取壳和孔的顶点位置信息包括：
3.如权利要求2所述的设计版图内部结构处理方法，其特征在于：基于某个孔的顶点位置信息建立搜索框包括：
4.如权利要求3所述的设计版图内部结构处理方法，其特征在于：将搜索框的四条边分别沿与边相水平或垂直方向进行拓展包括：
5.如权利要求4所述的设计版图内部结构处理方法，其特征在于：沿搜索框拓展方向筛选出距离该孔顶点最近交点的位置包括：
6.如权利要求1所述的设计版图内部结构处理方法，其特征在于：基于最终数据集和预设权重规则建立壳和孔的连接关系包括：
7.如权利要求6所述的设计版图内部结构处理方法，其特征在于：基于权重关系和预设权重规则建立壳和孔的连接关系包括：
8.如权利要求1所述的设计版图内部结构处理方法，其特征在于：基于连接关系将设计图形的壳和孔的轮廓边连接为整体包括：
9.一种装
10.一种计算机设备，应用于如权利要求1-8中任一项所述设计版图内部结构处理方法，其特征在于：包括存储器、处理器及存储在存储器上的计算机程序，所述处理器执行上述计算机程序以实现所述设计版图内部结构处理方法。
...【技术特征摘要】
1.一种设计版图内部结构处理方法，用于将设计版图内设计图形的壳和孔的轮廓边连接为整体，其特征在于，包括以下步骤：
2.如权利要求1所述的设计版图内部结构处理方法，其特征在于：获取壳和孔的顶点位置信息包括：
3.如权利要求2所述的设计版图内部结构处理方法，其特征在于：基于某个孔的顶点位置信息建立搜索框包括：
4.如权利要求3所述的设计版图内部结构处理方法，其特征在于：将搜索框的四条边分别沿与边相水平或垂直方向进行拓展包括：
5.如权利要求4所述的设计版图内部结构处理方法，其特征在于：沿搜索框拓展方向筛选出距离该孔顶点最近交点的位置包括：
6.如权利要求1所述的设计版图内部结构处理方法，其...
【专利技术属性】
技术研发人员：王瀚锋，刘奕宏，
申请(专利权)人：东方晶源微电子科技北京股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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