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本发明涉及光刻技术领域，特别涉及一种设计版图内部结构处理方法、装置及计算机设备。所述方法包括：获取壳和孔的顶点位置信息；基于某个孔的顶点位置信息建立搜索框；将搜索框的四条边分别沿与边相水平或垂直方向进行拓展，使其与其他孔或壳的轮廓边相交以获...
该专利属于东方晶源微电子科技（北京）股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过东方晶源微电子科技（北京）股份有限公司授权不得商用。

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