【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及绝缘子生产，特别是涉及电瓷高、低等级绝缘子坯体通用棕釉的上釉系统及方法。
技术介绍
1、电瓷绝缘子棕釉要考虑外观质量，更要考虑其内在质量。这些皆归结于棕釉能否与坯体匹配，优良的棕釉能与坯体很好地结合，成瓷后，釉与坯间能产生优良的中间层，能大幅度提高瓷的机械强度、电气强度、热稳定性等等。
2、由于对绝缘子坯体上釉时，釉料的分散性效果较差，进而影响上釉后的效果，而且由于坯体表面未经处理即上釉，釉面贴附性差，釉层也不均匀。
技术实现思路
1、鉴于以上所述现有技术的缺点，本专利技术的目的在于提供电瓷高、低等级绝缘子坯体通用棕釉的上釉系统及方法，用于解决现有技术中釉料综合性能不足、对绝缘子上釉效果不佳的问题。
2、为实现上述目的及其他相关目的，本专利技术提供电瓷高、低等级绝缘子坯体通用棕釉的上釉系统，包括：
3、釉浆处理模块，所述釉浆处理模块控制将已处理好且按设计的配料表准确配料的原料以料、球、水的预定比例投入球磨罐中，并控制加入预定量的羧甲基纤维素钠（cmc）球磨油料，并预处理后陈腐备用，以获得釉浆；
4、蘸湿控制模块，所述蘸湿控制模块采集干燥状态下的绝缘子坯体的干重数据m0和所述坯体处于竖直状态下的第一图像数据，控制对干重状态下的坯体湿水处理；
5、湿重判断模块，所述湿重判断模块采集湿水状态的坯体湿重数据m1，判断所述坯体湿重数据m1与所述干重数据m0的差值是否满足湿重坯体的预定要求，若不满足，则控制对湿重状态下的
6、上釉测定模块，所述上釉测定模块控制对湿重状态下的所述坯体置于所述釉浆中浸釉预定时间后取出，并控制所述坯体处于竖直状态，测定上釉后的所述坯体的重量数据m3；以及
7、喷釉控制模块，所述喷釉控制模块判断所述重量数据m3与所述干重数据m0之间的差值是否满足坯体上釉的预定要求，若不满足，则采集上釉后的所述坯体处于竖直状态下且与所述第一图像数据相对应的第二图像数据，并确定所述第二图像数据中的所述坯体相对于所述第一图像数据中的所述坯体的偏移情况，对相应位置进行控制喷釉，直至所述重量数据m3与所述干重数据m0之间的差值满足所述坯体上釉的预定要求。
8、于本专利技术的一实施例中，所述釉浆处理模块中的所述料、球、水的预定比例为1：2.5:0.8，所述cmc的含量为0.3%。
9、于本专利技术的一实施例中，所述预处理包括：釉料球磨20小时，并控制球磨细度为360目筛筛余：0.06~0.3%，过200目筛，再倒入塑料桶里，用磁铁棒进行除铁4遍，陈腐4～5h。
10、于本专利技术的一实施例中，所述蘸湿控制模块包括：
11、干重采集模块，所述干重采集模块控制待蘸湿的所述坯体进行干重状态下的干重数据m0的采集；
12、图像采集模块，所述图像采集模块控制对干重状态下的所述坯体处于自由且竖直状态下的图像数据采集，以得到所述第一图像数据；以及
13、蘸湿处理模块，所述蘸湿处理模块控制对所述坯体表面进行蘸湿处理。
14、于本专利技术的一实施例中，所述湿重判断模块包括：
15、湿重采集模块，所述湿重采集模块控制采集所述坯体的表面蘸湿后的坯体湿重数据m1；
16、超湿信号采集模块，所述超湿信号采集模块采集所述坯体湿重数据m1与所述干重数据m0的差值超出湿重坯体的预定要求的超湿信号；
17、烘干控制模块，所述烘干控制模块根据所述超湿信号控制对所述坯体进行烘干处理，以使所述坯体湿重数据m1与所述干重数据m0的差值满足湿重坯体的预定要求。
18、于本专利技术的一实施例中，所述上釉测定模块包括：
19、浸釉信号采集模块，所述浸釉信号采集模块采集所述坯体浸入釉浆的时间达到预定时间的浸釉完成信号；
20、取出控制模块，所述取出控制模块控制将采集到浸釉完成信号的所述坯体取出，并控制其处于自由竖向状态布置；
21、重量测定模块，所述重量测定模块采集上釉后的所述坯体的重量数据m3。
22、于本专利技术的一实施例中，所述喷釉控制模块包括：
23、釉重信号采集模块，所述釉重信号采集模块采集所述重量数据m3与所述干重数据m0之间的差值不满足坯体上釉的预定要求的釉重信号；以及
24、釉面处理模块，所述釉面处理模块根据所述釉重信号控制对上釉后的所述坯体表面再次处理。
25、于本专利技术的一实施例中，所述釉面处理模块包括：
26、釉坯图像采集模块，所述釉坯图像采集模块采集所述上釉后的所述坯体处于自由竖直状态下的第二图像数据；
27、图像对比模块，所述图像对比模块采集所述第二图像数据中所述坯体相对于所述第一图像数据中的所述坯体的偏移量；以及
28、喷涂控制模块，所述喷涂控制模块控制对偏移对应一侧的所述坯体表面二次喷涂施釉，直至所述重量数据m3与所述干重数据m0之间的差值满足坯体上釉的预定要求。
29、本专利技术还提供了电瓷高、低等级绝缘子坯体通用棕釉的上釉方法，包括如下步骤：
30、s1：控制将已处理好且按设计的配料表准确配料的原料以料、球、水的预定比例投入球磨罐中，并控制加入预定量的羧甲基纤维素钠（cmc）球磨油料，并预处理后陈腐备用，以获得釉浆；
31、s2：采集干燥状态下的绝缘子坯体的干重数据m0和所述坯体处于竖直状态下的第一图像数据，控制对干重状态下的坯体湿水处理；
32、s3：采集湿水状态的坯体湿重数据m1，判断所述坯体湿重数据m1与所述干重数据m0的差值是否满足湿重坯体的预定要求，若不满足，则控制对湿重状态下的所述坯体旋转烘干水分处理，直至满足所述湿重坯体的预定要求；
33、s4：控制对湿重状态下的所述坯体置于所述釉浆中浸釉预定时间后取出，并控制所述坯体处于竖直状态，测定上釉后的所述坯体的重量数据m3；
34、s5：判断所述重量数据m3与所述干重数据m0之间的差值是否满足坯体上釉的预定要求，若不满足，则采集上釉后的所述坯体处于竖直状态下且与所述第一图像数据相对应的第二图像数据，并确定所述第二图像数据中的所述坯体相对于所述第一图像数据中的所述坯体的偏移情况，对相应位置进行控制喷釉，直至所述重量数据m3与所述干重数据m0之间的差值满足所述坯体上釉的预定要求。
35、如上所述，本专利技术的电瓷高、低等级绝缘子坯体通用棕釉的上釉系统及方法，具有以下有益效果：通过料、球、水以及羧甲基纤维素钠的合理配比和球磨混合以得到的釉浆，可以有效的提高釉浆的均匀性、减少凝结并提高分散性。通过对坯体水分的合理控制，以清除其表面的灰尘，同时也坯体补充一定水份，防止坯体过多吸收釉浆中的水份，影响上釉的同时，还避免了坯体表面湿水过多导致影响上釉效果。通过对坯体上釉后的重量监控和对上釉前后的坯体处于竖直且自由状态下的图像获取和对比，以及时对缺失釉层的补充，本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.电瓷高、低等级绝缘子坯体通用棕釉的上釉系统，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的电瓷高、低等级绝缘子坯体通用棕釉的上釉系统，其特征在于：所述釉浆处理模块中的所述料、球、水的预定比例为1：2.5:0.8，所述CMC的含量为0.3%。
3.根据权利要求1所述的电瓷高、低等级绝缘子坯体通用棕釉的上釉系统，其特征在于：所述预处理包括：釉料球磨20小时，并控制球磨细度为360目筛筛余：0.06~0.3%，过200目筛，再倒入塑料桶里，用磁铁棒进行除铁4遍，陈腐4～5h。
4.根据权利要求1所述的电瓷高、低等级绝缘子坯体通用棕釉的上釉系统，其特征在于：。所述蘸湿控制模块包括：
5.根据权利要求1所述的电瓷高、低等级绝缘子坯体通用棕釉的上釉系统，其特征在于：所述湿重判断模块包括：
6.根据权利要求1所述的电瓷高、低等级绝缘子坯体通用棕釉的上釉系统，其特征在于：所述上釉测定模块包括：
7.根据权利要求1所述的电瓷高、低等级绝缘子坯体通用棕釉的上釉系统，其特征在于：所述喷釉控制模块包括：
8.根据权利要
9.电瓷高、低等级绝缘子坯体通用棕釉的上釉方法，其特征在于，包括如下步骤：
...【技术特征摘要】
1.电瓷高、低等级绝缘子坯体通用棕釉的上釉系统，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的电瓷高、低等级绝缘子坯体通用棕釉的上釉系统，其特征在于：所述釉浆处理模块中的所述料、球、水的预定比例为1：2.5:0.8，所述cmc的含量为0.3%。
3.根据权利要求1所述的电瓷高、低等级绝缘子坯体通用棕釉的上釉系统，其特征在于：所述预处理包括：釉料球磨20小时，并控制球磨细度为360目筛筛余：0.06~0.3%，过200目筛，再倒入塑料桶里，用磁铁棒进行除铁4遍，陈腐4～5h。
4.根据权利要求1所述的电瓷高、低等级绝缘子坯体通用棕釉的上釉系统，其特...
【专利技术属性】
技术研发人员：姚绍明，张正波，邓小玲，张涛，毕瑞麟，唐婷婷，
申请(专利权)人：重庆鸽牌电瓷有限公司，
类型：发明
国别省市：
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