【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体，特别涉及一种外延片面对面放置传输系统。
技术介绍
1、高清洁度的半导体外延片表面是实现制备半导体器件高良率的重中之重。一般而言，外延片在反应腔室中经历过吹扫、原位清洗以及高温等条件，所以当外延片制备完成时，其表面具有非常高的清洁度。然而，在外延生长过程结束后的取片、装载过程中，将不可避免的使外延片与空气接触，并且还可能在夹片过程中划伤外延片表面，从而降低后续器件制备的良率。此外，对外延片进行面对面高温热处理是改善aln基宽禁带半导体材料质量的有效方法，如外延片表面存在污染或划伤，也将大大降低面对面热处理工艺的稳定性。
2、为避免外延片在取出过程中受到污染或划伤，本专利技术申请一种可将外延片在真空传输装置中实现面对面放置的传输系统。
技术实现思路
1、本专利技术的主要目的是提供一种外延片面对面放置传输系统，利用该系统可使样品在取出钱实现面对面放置，从而避免取片过程中外延片表面接触到空气中的污染物，同时可使外延片正面免受取片过程中夹具划伤的风险，有利于提高制备...
【技术保护点】
1.一种外延片面对面放置传输系统，其特征在于，包括用于制备外延片的反应腔室，输送外延片的输送腔室，反应腔室与输送腔室相连接且连接处可选择地进行密封；可用于放置晶圆的两个以上的放置盘，放置盘上开设有放置凹槽；可承载放置盘的第一机械手和第二机械手，与第一机械手和第二机械手连接并可带动第一机械手和第二机械手在反应腔室和输送腔室中移动的三维移动机构，第一机械手可带动放置盘旋转，使放置盘翻转180度；与放置盘的放置凹槽连接的可选择地将外延片固定在放置凹槽内的外延片固定机构。
2.根据权利要求1所述的外延片面对面放置传输系统，其特征在于，还包括取片腔室，取片腔室与输送...
【技术特征摘要】
1.一种外延片面对面放置传输系统，其特征在于，包括用于制备外延片的反应腔室，输送外延片的输送腔室，反应腔室与输送腔室相连接且连接处可选择地进行密封；可用于放置晶圆的两个以上的放置盘，放置盘上开设有放置凹槽；可承载放置盘的第一机械手和第二机械手，与第一机械手和第二机械手连接并可带动第一机械手和第二机械手在反应腔室和输送腔室中移动的三维移动机构，第一机械手可带动放置盘旋转，使放置盘翻转180度；与放置盘的放置凹槽连接的可选择地将外延片固定在放置凹槽内的外延片固定机构。
2.根据权利要求1所述的外延片面对面放置传输系统，其特征在于，还包括取片腔室，取片腔室与输送腔室相连接且连接处可选择地进行密封。
3.根据权利要求1所述的外延片面对面放置传输系统，其特征在于，第一机械手上设置有放置盘固定机构，放置盘固定机构可夹持放置盘，以防止放置盘脱离第一机械手。
4.根据权利要求3所述的外延片面对面放置传输系统，其特征在于，第一机械手具有与放置盘底部平行的顶面，放置盘固定机构可使放置盘底面与第一机械手的顶面紧密贴合。
5.根据权利要求4所述的外延片面对面放置传输系统，其特征在于，第一机械手包括第一底座，放置盘固定机构设置在第一底座上，第一底座具有与放置盘底部平行的顶面，与底座连接可驱动底座转动使底座翻转的机械臂，第一底座通过机械臂与三维移动机构连接...
【专利技术属性】
技术研发人员：贲建伟，孙晓娟，黎大兵，蒋科，张山丽，吕顺鹏，石芝铭，陈洋，臧行，
申请(专利权)人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所，
类型：发明
国别省市：
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