【技术实现步骤摘要】
本技术属于光伏自动化设备，具体涉及一种刻蚀清洗机硅片导向装置。
技术介绍
1、硅片由滚筒运输经过刻蚀清洗设备的过程中，因为被硅片在输送过程中会发生偏转，所以需要利用导向装置进行校正。公告号为cn216528809u的中国专利公开了一种刻蚀清洗机硅片导向装置，包括支撑架，所述支撑架右壁开设有凹槽，所述支撑架右壁开设的凹槽内壁活动卡接有滚筒。通过设置第一归正圈、第一归正锁紧圈、第二归正锁紧圈、第二归正圈和滚筒的连接关系，使第一归正圈和第一归正锁紧圈内壁设有螺纹，和外壁设有螺纹的滚筒相配合，将第一归正圈和第二归正圈根据硅片的尺寸大小进行调节，再用第一归正锁紧圈和第二归正锁紧圈锁紧，使第一归正圈和第二归正圈的位置得到固定，便于对硅片进行位置导向。
2、因此，现有的滚筒外壁设置螺纹，限制了归正圈的装配位置，相邻归正圈间距可调范围小，多种规格硅片换片时，硅片尺寸会超过归正圈可调最大/最小间距值，需要停机更换滚筒，延长硅片运输时间，增加人工，提高成本。
技术实现思路
1、为了解决上述技术问题，本技术的技术方案是：
2、一种刻蚀清洗机硅片导向装置，包括支撑架、连接支撑架的滚筒，以及若干套接在滚筒上的归正圈；
3、所述归正圈包括圈体和挡环，所述挡环用于限制硅片在滚筒上沿滚筒轴向移动并对硅片位置导正；
4、所述圈体开设有两端通透的螺孔，所述螺孔中旋接有锁紧螺栓，所述锁紧螺栓穿过螺孔的一端可抵住滚筒表面以固定圈体。
5、具体地，所述归正圈分为单
6、具体地，所述单向归正圈的挡环为侧挡环，所述单向归正圈的圈体为单圈，所述侧挡环设置在单向归正圈朝向支撑架的一端，所述侧挡环具有相对设置的第一端和第二端，第一端接触支撑架侧壁，第二端连接单圈，所述侧挡环的外径从第一端至第二端逐渐减小。
7、具体地，所述双向归正圈的挡环为隔挡环，所述双向归正圈的圈体包括连接隔挡环一端的左圈和连接隔挡环另一端的右圈，所述隔挡环的外径从中间向两端逐渐减小。
8、具体地，所述归正圈为一体式成型结构。
9、具体地，相邻所述挡环之间的间距相等。
10、具体地，还包括连接支撑架的输送筒，所述输送筒固定套接有若干等间距分布的环体。
11、具体地，还包括旋转机构，所述旋转机构包括固定在支撑架上的连接板、旋转轴、链条、减速机、主动齿轮、锥齿轮和从动齿轮，所述支撑架固定有连接板，所述连接板旋转连接有旋转柱，所述旋转柱固定连接有主动齿轮，减速机的前端设有马达，所述减速机的后端通过齿轮啮合连接有链条，所述链条与主动齿轮啮合连接；所述滚筒和输送筒的左端都固定连接有锥齿轮，所述旋转柱外壁固定连接有从动齿轮，所述从动齿轮与锥齿轮啮合连接。
12、本技术提供的技术方案与现有技术相比具有如下优势：
13、利用锁紧螺栓来固定归正圈，归正圈能够被固定在滚筒的任意位置，不受限制，扩大归正圈间距调节范围，适用多种硅片规格；并且能够更换不同的硅片道数，更换便捷，节省人工，且更换硅片道数仅需增减归正圈数量，不需要更换整根滚筒，节省成本。
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1.一种刻蚀清洗机硅片导向装置，其特征在于，包括支撑架、连接支撑架的滚筒，以及若干套接在滚筒上的归正圈；
2.如权利要求1所述的刻蚀清洗机硅片导向装置，其特征在于，所述归正圈分为单向归正圈和双向归正圈，所述单向归正装配在滚筒端部，双向归正圈装配在滚筒中部。
3.如权利要求2所述的刻蚀清洗机硅片导向装置，其特征在于，所述单向归正圈的挡环为侧挡环，所述单向归正圈的圈体为单圈，所述侧挡环设置在单向归正圈朝向支撑架的一端，所述侧挡环具有相对设置的第一端和第二端，第一端接触支撑架侧壁，第二端连接单圈，所述侧挡环的外径从第一端至第二端逐渐减小。
4.如权利要求2所述的刻蚀清洗机硅片导向装置，其特征在于，所述双向归正圈的挡环为隔挡环，所述双向归正圈的圈体包括连接隔挡环一端的左圈和连接隔挡环另一端的右圈，所述隔挡环的外径从中间向两端逐渐减小。
5.如权利要求1所述的刻蚀清洗机硅片导向装置，其特征在于，所述归正圈为一体式成型结构。
6.如权利要求1所述的刻蚀清洗机硅片导向装置，其特征在于，相邻所述挡环之间的间距相等。
7.如权
8.如权利要求1所述的刻蚀清洗机硅片导向装置，其特征在于，还包括旋转机构，所述旋转机构包括固定在支撑架上的连接板、旋转轴、链条、减速机、主动齿轮、锥齿轮和从动齿轮，所述支撑架固定有连接板，所述连接板旋转连接有旋转柱，所述旋转柱固定连接有主动齿轮，减速机的前端设有马达，所述减速机的后端通过齿轮啮合连接有链条，所述链条与主动齿轮啮合连接；所述滚筒和输送筒的左端都固定连接有锥齿轮，所述旋转柱外壁固定连接有从动齿轮，所述从动齿轮与锥齿轮啮合连接。
...【技术特征摘要】
1.一种刻蚀清洗机硅片导向装置，其特征在于，包括支撑架、连接支撑架的滚筒，以及若干套接在滚筒上的归正圈；
2.如权利要求1所述的刻蚀清洗机硅片导向装置，其特征在于，所述归正圈分为单向归正圈和双向归正圈，所述单向归正装配在滚筒端部，双向归正圈装配在滚筒中部。
3.如权利要求2所述的刻蚀清洗机硅片导向装置，其特征在于，所述单向归正圈的挡环为侧挡环，所述单向归正圈的圈体为单圈，所述侧挡环设置在单向归正圈朝向支撑架的一端，所述侧挡环具有相对设置的第一端和第二端，第一端接触支撑架侧壁，第二端连接单圈，所述侧挡环的外径从第一端至第二端逐渐减小。
4.如权利要求2所述的刻蚀清洗机硅片导向装置，其特征在于，所述双向归正圈的挡环为隔挡环，所述双向归正圈的圈体包括连接隔挡环一端的左圈和连接隔挡环另一端的右圈，所述隔挡环的外径从中间向两端逐渐减小。
【专利技术属性】
技术研发人员：冯华，代聪，
申请(专利权)人：无锡釜川科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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