【技术实现步骤摘要】
本技术涉及材料表面强化，特别涉及一种可控制加热温度的cvd设备。
技术介绍
1、cvd即化学气相淀积，是一种材料表面强化技术，在高温条件下，把含有构成薄膜元素的气相反应剂或液态反应剂的蒸汽及反应所需其它气体引入反应室，在衬底表面发生化学反应生成固相薄膜的过程，在cvd生产中实现加热温度控制的是加热炬。
2、现有技术当中，加热炬在是在管内完成cvd，但是在加热过程中气体和受加热件在管内下方容易造成温度失衡，导致cvd薄膜受热不均，产生废片。
技术实现思路
1、针对现有技术的不足，本技术的目的在于提供一种可控制加热温度的cvd设备，旨在解决现有技术中加热炬在是在管内完成cvd，但是在加热过程中气体和受加热件在管内下方容易造成温度失衡，导致cvd薄膜受热不均，产生废片的技术问题。
2、为了实现上述目的，本技术是通过如下技术方案来实现的：
3、一种可控制加热温度的cvd设备，用于制备cvd薄膜，所述cvd设备包括加热炬、加热管以及旋转装置，所述加热炬的腔体内部设有加热组件，所述加热管贯穿设置于所述加热炬的腔体内部，所述加热管用于输入反应气体和受加热件，所述旋转装置用于控制所述加热管的转动，所述旋转装置包括进气管、旋转电机以及联动组件，所述进气管与所述加热管的一端固定连接、且二者相连通，所述联动组件包括转轴、第一皮带轮、第二皮带轮以及皮带，所述转轴与所述旋转电机传动连接，所述第一皮带轮固定连接于所述转轴上，所述第二皮带轮固定连接于所述进气管上，所述皮带套设
4、与现有技术相比，本技术的有益效果在于：
5、通过旋转电机带动转轴连同第一皮带轮转动，第一皮带轮再通过皮带带动第二皮带轮连同进气管转动，以使与进气管固定连接的加热管在加热炬的腔体内部转动，加热管的转动带动输入其内部的反应气体和受加热件转动，使得二者均匀受热，防止cvd薄膜受热不均而产生废片，且通过旋转电机和皮带轮的配合，传动稳定，使加热管一直都能保持匀速转动，本技术提供的设备结构简单、合理，满足实际使用中的需求。
6、进一步的，所述加热管靠近所述加热炬的上端设置，且所述加热管的两端均凸出于所述加热炬的外表面。
7、进一步的，所述进气管的外径小于等于所述加热管的内径。
8、进一步的，所述旋转装置还包括密封部，所述密封部套设于所述进气管的外柱面上、且所述密封部的内表面与所述进气管的外表面紧密贴合，所述密封部朝向所述加热管的一面设有多个螺杆、所述加热管朝向所述密封部的一面设有多个螺纹孔，所述螺纹孔与所述螺杆对应设置。
9、进一步的，所述加热管远离所述旋转装置的一端套设有活塞，所述活塞与所述加热管可拆卸式地滑动连接，所述活塞朝向所述加热炬滑动，以使所述活塞与所述加热炬的外表面紧密贴合。
10、进一步的，所述加热炬朝向所述旋转装置的一侧固定连接有固定板，所述旋转电机放置于所述固定板上。
11、进一步的，所述固定板和所述旋转电机之间设有固定组件，所述固定组件包括设于所述固定板上的螺丝孔以及设于所述旋转电机上的螺丝钉。
12、进一步的，所述加热炬朝向所述旋转装置的一侧贯穿设置有限位孔，所述限位孔与所述进气管对应设置，所述进气管插入所述限位孔时，所述进气管紧贴所述限位孔转动。
13、进一步的，所述可控制加热温度的cvd设备还包括支撑脚，所述支撑脚位于所述加热炬的底面、用于支撑所述加热炬。
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1.一种可控制加热温度的CVD设备，用于制备CVD薄膜，其特征在于，所述CVD设备包括加热炬、加热管以及旋转装置，所述加热炬的腔体内部设有加热组件，所述加热管贯穿设置于所述加热炬的腔体内部，所述加热管用于输入反应气体和受加热件，所述旋转装置用于控制所述加热管的转动，所述旋转装置包括进气管、旋转电机以及联动组件，所述进气管与所述加热管的一端固定连接、且二者相连通，所述联动组件包括转轴、第一皮带轮、第二皮带轮以及皮带，所述转轴与所述旋转电机传动连接，所述第一皮带轮固定连接于所述转轴上，所述第二皮带轮固定连接于所述进气管上，所述皮带套设于所述第一皮带轮和所述第二皮带轮上，所述旋转电机的转动，带动所述转轴连同所述第一皮带轮转动，所述第一皮带轮通过所述皮带带动所述第二皮带轮连同所述进气管转动，以使与所述进气管固定连接的所述加热管在所述加热炬的腔体内部转动。
2.根据权利要求1所述的可控制加热温度的CVD设备，其特征在于，所述加热管靠近所述加热炬的上端设置，且所述加热管的两端均凸出于所述加热炬的外表面。
3.根据权利要求2所述的可控制加热温度的CVD设备，其特征在于，
4.根据权利要求3所述的可控制加热温度的CVD设备，其特征在于，所述旋转装置还包括密封部，所述密封部套设于所述进气管的外柱面上、且所述密封部的内表面与所述进气管的外表面紧密贴合，所述密封部朝向所述加热管的一面设有多个螺杆、所述加热管朝向所述密封部的一面设有多个螺纹孔，所述螺纹孔与所述螺杆对应设置。
5.根据权利要求2所述的可控制加热温度的CVD设备，其特征在于，所述加热管远离所述旋转装置的一端套设有活塞，所述活塞与所述加热管可拆卸式地滑动连接，所述活塞朝向所述加热炬滑动，以使所述活塞与所述加热炬的外表面紧密贴合。
6.根据权利要求1所述的可控制加热温度的CVD设备，其特征在于，所述加热炬朝向所述旋转装置的一侧固定连接有固定板，所述旋转电机放置于所述固定板上。
7.根据权利要求6所述的可控制加热温度的CVD设备，其特征在于，所述固定板和所述旋转电机之间设有固定组件，所述固定组件包括设于所述固定板上的螺丝孔以及设于所述旋转电机上的螺丝钉。
8.根据权利要求1所述的可控制加热温度的CVD设备，其特征在于，所述加热炬朝向所述旋转装置的一侧贯穿设置有限位孔，所述限位孔与所述转轴对应设置，所述转轴插入所述限位孔时，所述转轴紧贴所述限位孔转动。
9.根据权利要求1所述的可控制加热温度的CVD设备，其特征在于，所述可控制加热温度的CVD设备还包括支撑脚，所述支撑脚位于所述加热炬的底面、用于支撑所述加热炬。
...【技术特征摘要】
1.一种可控制加热温度的cvd设备，用于制备cvd薄膜，其特征在于，所述cvd设备包括加热炬、加热管以及旋转装置，所述加热炬的腔体内部设有加热组件，所述加热管贯穿设置于所述加热炬的腔体内部，所述加热管用于输入反应气体和受加热件，所述旋转装置用于控制所述加热管的转动，所述旋转装置包括进气管、旋转电机以及联动组件，所述进气管与所述加热管的一端固定连接、且二者相连通，所述联动组件包括转轴、第一皮带轮、第二皮带轮以及皮带，所述转轴与所述旋转电机传动连接，所述第一皮带轮固定连接于所述转轴上，所述第二皮带轮固定连接于所述进气管上，所述皮带套设于所述第一皮带轮和所述第二皮带轮上，所述旋转电机的转动，带动所述转轴连同所述第一皮带轮转动，所述第一皮带轮通过所述皮带带动所述第二皮带轮连同所述进气管转动，以使与所述进气管固定连接的所述加热管在所述加热炬的腔体内部转动。
2.根据权利要求1所述的可控制加热温度的cvd设备，其特征在于，所述加热管靠近所述加热炬的上端设置，且所述加热管的两端均凸出于所述加热炬的外表面。
3.根据权利要求2所述的可控制加热温度的cvd设备，其特征在于，所述进气管的外径小于等于所述加热管的内径。
4.根据权利要求3所述的可控制加热温度的cvd设备，其特征在于，所述旋转装置还包括密封部，所述密封部套设于所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：周安，徐吉红，段良飞，胡瑶，董国庆，文国昇，金从龙，
申请(专利权)人：江西兆驰半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：
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