【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光学设备，尤其涉及一种实时监测折射率的镀膜装置及镀膜方法。
技术介绍
1、利用光波的干涉原理测量材料的光学特性，可以用仪器测量厚度、距离等，还能衡量材料内部的光学均匀性、折射率、表面平整度等更精密的参数。现有的测量设备在测量镜片光学均匀性、折射率、表面平整度等参数时，是将镜片镀制完成后再单独对已镀膜的镜片进行测量。
2、然而，在镀制镜片，尤其是负滤光片的过程中，多层膜的镀制需要频繁更换靶材，由于在镀膜过程中无法实时监测镀膜材料的折射率，从而在镀膜过程中容易产生膜厚均匀性不容易控制的情况。
3、为此，针对上述的技术问题还需进一步解决。
技术实现思路
1、本专利技术实施例的目的是提供一种实时监测折射率的镀膜装置及镀膜方法，以在镀制镜片的过程中，即便多层膜的镀制需要频繁更换靶材，由于在镀膜过程中能够实时监测镀膜材料的折射率，从而能够避免在镀膜过程中产生膜厚均匀性不容易控制的情况。
2、为解决上述技术问题，本专利技术实施例提供如下技术方案：
...【技术保护点】
1.一种实时监测折射率的镀膜装置，包括机壳，所述机壳内设置有用于放置镀膜基片的工件盘，所述工件盘上均匀放置有所述镀膜基片以及将任一所述镀膜基片作为监测的陪镀片，其特征在于，还包括：
2.根据权利要求1所述的实时监测折射率的镀膜装置，其特征在于，所述反射光组件包括：
3.根据权利要求2所述的实时监测折射率的镀膜装置，其特征在于，所述激光发射器、所述滤光片和所述起偏器以及所述第一反射镜之间成一条直线，并且所述激光发射器、所述滤光片和所述起偏器以及所述第一反射镜之间形成第一穿透路径。
4.根据权利要求2所述的实时监测折射率的镀膜装置，其特...
【技术特征摘要】
1.一种实时监测折射率的镀膜装置，包括机壳，所述机壳内设置有用于放置镀膜基片的工件盘，所述工件盘上均匀放置有所述镀膜基片以及将任一所述镀膜基片作为监测的陪镀片，其特征在于，还包括：
2.根据权利要求1所述的实时监测折射率的镀膜装置，其特征在于，所述反射光组件包括：
3.根据权利要求2所述的实时监测折射率的镀膜装置，其特征在于，所述激光发射器、所述滤光片和所述起偏器以及所述第一反射镜之间成一条直线，并且所述激光发射器、所述滤光片和所述起偏器以及所述第一反射镜之间形成第一穿透路径。
4.根据权利要求2所述的实时监测折射率的镀膜装置，其特征在于，所述第一反射镜和所述陪镀片以及所述第二反射镜之间形成第一反射路径。
5.根据权利要求2所述的实时监测折射率的镀膜装置，其特征在于，所述第二反射镜和所述检偏器以及所述光探测设备之间...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘永利，范鹏，姜海，刘俞含，
申请(专利权)人：湖南麓星光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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